【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及超材料领域，尤其涉及一种用于减小超材料对电磁波反射的阻抗匹配元件。
技术介绍
光，作为电磁波的一种，其在穿过玻璃的时候，因为光线的波长远大于原子的尺寸，因此我们可以用玻璃的整体参数，例如折射率，而不是组成玻璃的原子的细节参数来描述玻璃对光线的响应。相应的，在研究材料对其他电磁波响应的时候，材料中任何尺度远小于电磁波波长的结构对电磁波的响应也可以用材料的整体参数，例如介电常数ε和磁导率μ来描述。通过设计材料每点的结构使得材料各点的介电常数和磁导率都相同或者不同从而使得材料整体的介电常数和磁导率呈一定规律排布，规律排布的磁导率和介电常数即可使得材料对电磁波具有宏观上的响应，例如汇聚电磁波、发散电磁波等。该类具有规律 排布的磁导率和介电常数的材料我们称之为超材料。然而超材料改变的是进入其内部的电磁波的电磁响应，对入射到超材料表面的电磁波仍然会因为折射率的突变造成电磁波被反射，使得最终超材料响应电磁波的效果降低。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述不足，提出一种结构简单、便于规模化生产、能有效减少电磁波从自由空间入射到超材料功能...
【技术保护点】
一种阻抗匹配元件，用于超材料功能层，其特征在于：所述超材料功能层上折射率分布不均匀且具有最大折射率nmax与最小折射率nmin，所述阻抗匹配元件包括第一至第M层阻抗匹配层；所述第一至第M层阻抗匹配层包括相对的两片基材以及与所述两片基材构成密封腔的密封物；所述第一阻抗匹配层折射率等于空气折射率，所述第M层阻抗匹配层折射率等于所述超材料功能层折射率最小值。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘若鹏，季春霖，岳玉涛，洪运南，
申请(专利权)人：深圳光启高等理工研究院，深圳光启创新技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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