【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光电转换基底、辐射检测器、射线照相图像捕获装置和辐射检测器的制造方法，尤其是涉及诸如在射线照相图像捕获这样的应用中所使用的光电转换基底、辐射检测器、射线照相图像捕获装置、以及辐射检测器的制造方法。
技术介绍
用于捕获射线照相图像的射线照相图像捕获装置是已知的，其中辐射检测器探測从辐射照射装置照射并且已经照射通过了对象的辐射。作为这样的射线照相图像捕获装置的辐射检测器，已知检测器设置有将照射的辐射转变成光线的闪烁体诸如荧光体，构造有像素的光电转换基底，其中每个像素设置有光电转换元件以在被闪烁体转换的光线照射时产生电荷，以及开关元件，所述开关元件读取在光电转换元件中产生的电荷。·由于这样的辐射检测器在光电转换基底上方设置有闪烁体，已知用于改进光电转换基底和闪烁体之间的粘附的技术。例如，在日本专利申请公开(JP-A) 2001-74846中描述了ー种技术，通过在保护层和闪烁体之间设置金属层或金属化合物层作为具有高导热率和到闪烁体的强粘合力的分离防止层，使得更难以将保护光电转换元件的保护层和闪烁体彼此分开。一般，在光电转换基底的表面上进行表面处理例如等离子...
【技术保护点】
一种光电转换基底，包括：多个像素，每个像素设置有形成在所述光电转换基底上的传感器部分和开关元件，所述传感器部分包括根据照射光线产生电荷的光电转换元件，所述开关元件从传感器部分读取电荷；平整层，所述平整层整平所述光电转换基底的其上形成有所述开关元件和所述传感器部分的表面；导电部件，所述导电部件形成在所述平整层的整个表面上；及将所述导电部件接地的连接部分。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：大田恭义，佐藤圭一郎，西纳直行，中津川晴康，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：
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