用于齿科X射线胶片化学处理的显定合一溶液制造技术

本发明专利技术公开了一种用于齿科X射线胶片化学处理的显定合一溶液，包括显影剂、保护剂、显影促进剂、防灰雾剂，该溶液中采用了1-苯基-5-巯基四氮唑为有机防灰雾剂。1-苯基-5-巯基四氮唑用量为20~400mg/l，显影剂菲尼酮为1~6g/l，对苯二酚为15~40g/l，保护剂无水亚硫酸钠为20~75g/l，显影促进剂氢氧化钠为6~25g/l，定影剂硫代硫酸钠为75~250g/l。该溶液配制简单、原料易购、化学处理耗用量小，可实现齿科X射线胶片的明室化学处理，具有显著的经济效益。该溶液的1-苯基-5-巯基四氮唑吸附作用最为强烈、活性最大而用量较小、抑制灰雾明显、对感光度和最大密度影响较小。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于照相化学
，是一种用于齿科X射线胶片化学处理的显定合一溶液。
技术介绍
众所周知，齿科X射线胶片与其它卤化银感光胶片相同，其化学处理的一般工艺过程为显影--停显(一方面终止显影，另一方面避免显影液污染定影液)-定影--水洗。而卤化银感光胶片化学处理将显影和定影结合在一个溶液中，由于显影剂和定影剂同时存在于一个溶液中，一般情况下，在胶片化学处理时必然会损失感光度、反差和最大密度。随 着显影剂技术的发展，显定合一溶液中显影剂从米吐尔/对苯二酚组合进展到菲尼酮/对苯二酚组合，使显定合一溶液具有了高活性和短诱导期，基本实现了显影在定影开始之前就可以结束，为显定合一溶液的实际应用提供了条件。然而在显定合一溶液中为获得最大的显影活性，显影剂浓度和pH值必须很高，这必然使胶片的灰雾显著上升。按24-2D显定合一配方,溶液成分为无水亚硫酸钠、对苯二酚、菲尼酮、溴化钾、苯并三氮唑、甲醛、氢氧化钠、硫代硫酸钠。该溶液具有较高的感光度，但由于为了防止灰雾产生，采用了溴化钾和苯并三氮唑，但溴化钾使显影时间延长，大量的苯并三氮唑使最大密度明显下降，使影像质量下降。专利
技术实现思路
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【技术保护点】
一种用于齿科X射线胶片化学处理的显定合一溶液，包括显影剂、保护剂、显影促进剂、防灰雾剂，?其特征在于该溶液中采用了1?苯基?5?巯基四氮唑有机防灰雾剂。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：汪书恺，
申请(专利权)人：巨星贸易上海有限公司，
类型：发明
国别省市：