板状体研磨装置及研磨系统制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种板状体研磨装置及研磨系统，具有：板状体保持单元，保持一边的长度为1000mm以上的板状体；研磨垫，与被所述板状体保持单元保持的所述板状体相对设置，所述研磨垫形成有：多个浆料供给孔，在与所述板状体相对的相对面上形成，向所述研磨垫和所述板状体的抵接部供给浆料；浆料吸引孔，仅在与所述板状体相对的相对面的中央部形成，吸引被供给到所述抵接部的所述浆料。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及板状体研磨装置及研磨系统。
技术介绍
液晶显示器等所使用的FPD (Flat Panel Display)用的玻璃基板，利用称为浮法的玻璃制法将熔融玻璃成形为板状，通过在专利文献I等中公开的连续式的研磨装置，将表面的微小的凹凸及波纹研磨除去，由此，将该板状玻璃制成满足了作为Fro用的玻璃基板所要求的平面度的薄板。如专利文献I所述的研磨装置，使用用分散剂使研磨材料分散而成的浆料，研磨玻璃基板的表面(以下，称为被研磨面)。浆料从设于研磨垫的中央部的浆料供给孔向研磨垫的研磨面与玻璃基板的被研磨面之间供给。向研磨垫的研磨面和玻璃基板的被研磨面之间供给的浆料的量在研磨面上不均匀时，被研磨后的玻璃基板的被研磨面的平面度变差。因此，所供给的浆料需要均匀遍布在研磨面上。本申请人在日本特愿2010 - 111116号中提出了一种研磨垫，其为了使所供给的浆料均匀遍布在玻璃基板的被研磨面上，而在研磨面的中央设有浆料供给孔，利用从中心朝向外侧形成的多个槽将研磨面分割成放射状。另外，例如专利文献2所记载的研磨装置，其研磨垫在与基板相对的面上具有平面度高的研磨面，在研磨面上沿前后方向以大致等间隔形成有多个槽，在研磨加工时促进研磨剂的扩散，而且，在研磨垫的内部，上下贯通且与基板相对的研磨剂供给孔及研磨剂排出孔在研磨面的大致整个面上交替排列形成有多个。专利文献专利文献I :日本国特开2004 — 122351号公报专利文献2 :日本国特开2009 - 125873号公报但是，如现有技术那样，在使供给到研磨垫的中央部的浆料借助在研磨垫的研磨面上形成的槽流到研磨垫的外侧而排出的方法中，在增加浆料的流量方面存在极限，控制浆料的流量并确保中央附近的研磨量很困难。例如，在如专利文献I那样的研磨装置中，如上所述使用用分散剂使研磨材料分散而成的浆料，研磨玻璃基板的被研磨面。这时在研磨一边IOOOmm以上的玻璃基板的情况下，为了使浆料遍布在玻璃基板的被研磨面的整个面上，需要增大浆料供给量。但是，从研磨垫的供给孔供给的浆料量变多达到通过形成于研磨垫的研磨面上的槽从玻璃基板的中央部供给到周缘部的浆料量以上。即，如图10所示，在一边从设于研磨垫320的中央的浆料供给孔330供给浆料S，一边用研磨垫320对贴附在支座的膜体310上的玻璃基板G的被研磨面进行研磨时，在玻璃基板G的中央部Z积存有浆料S。其结果存在如下问题，即，玻璃基板G的中央部Z离开研磨垫320，玻璃基板G的中央部Z难以被研磨，产生研磨不足。另外，在上述专利文献2记载的提案中，研磨时，浆料被研磨垫的整个面吸引而排出到玻璃基板外，但另外设置浆料吸引孔时，被供给到玻璃基板的被研磨面的周缘部的浆料量变少，容易发生研磨损伤等。另外，由于吸引浆料的吸引泵的容量也被限制，因此，需要增加吸引泵。于是，浆料的供给及吸引的配管路径变得复杂，成本及维修保养增加。另外，浆料供给及吸引的控制变得麻烦，尤其是存在研磨对象物即玻璃基板越大其调整越复杂的问题。
技术实现思路
本专利技术是鉴于这种问题而创立的，其目的在于提供板状体研磨装置及研磨系统，尤其是在研磨大尺寸的基板时，不减少浆料流量，而能够减小隆起厚度(“背厚”)并确保基板中央附近的研磨量而进行正常的研磨，并且，良好地进行浆料的循环，从而能够抑制研磨后的基板的成分再次附着于基板的被研磨面。为实现所述目的，本专利技术提供一种板状体研磨装置，具有板状体保持单元，保持一边的长度为IOOOmm以上的板状体；研磨垫，与被所述板状体保持单元保持的所述板状体相对设置，所述研磨垫形成有多个浆料供给孔，在与所述板状体相对的相对面上形成，向 所述研磨垫和所述板状体的抵接部供给浆料；浆料吸引孔，仅在与所述板状体相对的相对 面的中央部形成，吸引被供给到所述抵接部的所述浆料。由此，即使在研磨例如IOOOmm见方以上的大尺寸的板状基板的情况下，通过仅从研磨垫的中央部吸引浆料，也不会减少浆料流量，能够确保中央附近的研磨量，进行正常的研磨。另外，作为一个实施方式，优选形成有所述浆料吸引孔的所述研磨垫的与所述板状体相对的相对面的中央部是距离所述研磨垫的中心为所述研磨垫的直径的25%以内的范围。这样，通过仅从研磨垫的中央部吸引浆料，不会减少浆料流量，能够确保中央附近的研磨量，进行正常的研磨。另外，作为一个实施方式，优选在所述研磨垫的与所述板状体相对的相对面上沿任意方向直线状地形成有多个槽，沿着与所述任意方向正交的方向形成于所述中央部的槽的宽度形成得比沿着与所述任意方向正交的方向形成于所述中央部的外侧的槽的宽度宽。另外，作为一个实施方式，优选还具备使所述研磨垫相对于所述板状体保持单元相对地在水平方向摆动的单元；和使所述研磨垫自转及公转的单元，在所述研磨垫的与所述板状体相对的相对面上沿所述摆动方向直线状地形成有多个槽，沿着与所述摆动方向正交的方向形成于所述中央部的槽的宽度形成得比沿着与所述摆动方向正交的方向形成于所述中央部的外侧的槽的宽度宽。由此，能够将研磨垫中央部的浆料良好地排出，能够确保中央附近的研磨量。另外，作为一个实施方式，优选所述中央部是指距离所述研磨垫的中心为所述研磨垫的直径的25%以内的范围。由此，能够将研磨垫中央部的浆料良好地排出，能够确保中央附近的研磨量。另外，同样地为了实现所述目的，本专利技术的研磨系统，具有板状体保持单元，保持一边的长度为IOOOmm以上的板状体；研磨垫，与被所述板状体保持单元保持的所述板状体相对设置，在所述研磨垫形成有多个浆料供给孔，在与所述板状体相对的相对面上形成，向所述研磨垫和所述板状体的抵接部供给浆料；浆料吸引孔，仅在与所述板状体相对的相对面的中央部形成，吸引被供给到所述抵接部的所述浆料，所述研磨系统具有浆料罐，积存含有磨粒的浆料作为研磨剂；浆料供给单元，从所述浆料罐经由所述浆料供给孔向所述研磨垫和所述板状体的抵接部供给所述浆料；浆料回收单元，经由所述浆料吸引孔吸引被供给到所述抵接部的所述浆料，使吸引到的该浆料返回所述浆料罐；浓度计，设于所述浆料供给单元且检测所述浆料的浓度；控制部，基于所述浓度计的检测结果，在所述浆料的浓度低于预先设定的下限值的情况下，进行控制以向所述浆料罐添加研磨材料及规定的添加齐U，并且，在所述浆料的浓度超过预先设定的上限值的情况下，进行控制以进行所述浓度计的清洗。由此，使浆料循环并且利用浓度计检测浆料的浓度，在浓度值比规定的下限值低的情况下向浆料中追加氧化铈及添加剂，或在浓度值超过规定的上限值的情况下进行浓度计的清洗时，能够使研磨速率维持为一定而确保研磨量，并且增加浆料循环量从而抑制研磨后的玻璃成分向研磨面的再次附着。 另外，作为一个实施方式，优选所述规定的添加剂是防止所述研磨材料凝集的分散剂。由此，能够防止氧化铈的凝集，维持研磨速率。另外，作为一个实施方式，优选形成有所述浆料吸引孔的所述研磨垫的与所述板状体相对的相对面的中央部是距离所述研磨垫的中心为所述研磨垫的直径的25%以内的范围。由此，能够将研磨垫中央部的浆料良好地排出，能够确保中央附近的研磨量。另外，作为一个实施方式，优选所述浓度计的清洗在所述浆料的浓度超过预先设定的上限值的情况下进行，并且/或者每隔30分钟 40分钟进行。由此，浓度计不会堵塞而检测出异常的值，总是能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种板状体研磨装置，具有：板状体保持单元，保持一边的长度为1000mm以上的板状体；研磨垫，与被所述板状体保持单元保持的所述板状体相对设置，所述研磨垫形成有：多个浆料供给孔，在与所述板状体相对的相对面上形成，向所述研磨垫和所述板状体的抵接部供给浆料；浆料吸引孔，仅在与所述板状体相对的相对面的中央部形成，吸引被供给到所述抵接部的所述浆料。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：福田真，中谷嘉孝，山本一义，木村刚，秋山秀，横田稔，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：