含典型金属聚硅氧烷组合物、其制造方法、及其用途技术

技术编号：8368749 阅读：205 留言：0更新日期：2013-02-28 16:34

本发明专利技术提供一种聚合物组合物的制造方法，其特征在于，该聚合物组合物为适合于LED元件的封装、树脂部件的阻气层的材料，该制造方法中，混合如下成分(A)~(D)，使它们反应：作为成分(A)，为下述通式(1)的含不饱和基团硅氧烷化合物(式(1)中，R1为氢原子或碳数1~20的烃基。m为3以上的整数，a为0~10的整数。硅氧烷结构为链状或环状。)；作为成分(B)，为下述通式(2)的具有氢与硅直接连接的结构的硅氧烷化合物(式(2)中，R2为碳数1~20的烃基。n为3以上的整数，硅氧烷结构为链状或环状。)；作为成分(C)，为选自由元素周期表的第1族、第2族、第12族、第13族或第14族金属的有机金属化合物组成的组中的至少一种；作为成分(D)，为元素周期表的第8族、第9族、或第10族金属的金属催化剂。

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【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及含有典型金属的聚硅氧烷组合物、其制造方法及其用途。尤其涉及使用该聚硅氧烷组合物的封装材料和阻气材料。
技术介绍
在以液晶显示器和有机EL显示器为代表的平板显示器(以下称为FPD)中，使用玻璃基板作为其显示面板的基材；但从薄膜化、轻量化、耐冲击性的提高、柔性化、以及对卷对卷工艺的适应性等观点来看，用透明塑料基板来替代的需求增加。另外，正在尝试在塑料基板上使用有机半导体形成有机晶体管，或形成LSI、Si薄膜太阳能电池、有机染料敏化太阳能电池和有机半导体太阳能电池。在通常市售的塑料基板上形成上述元件时,液晶元件、有机EL元件、TFT元件、半导体元件、太阳能电池等所形成的元件、设备等由于对水和氧气的耐受性差，因而在显示器的显示中产生暗点(dark spot)、点丢失(dot drop-out),或半导体元件、太阳能电池等不起作用，不耐实用。因此，需要开发出一种对塑料基板赋予了对水蒸气和氧气的阻气性能的阻气塑料基板。另一方面，今后，作为食品、医药品、电子材料、电子配件等的包装材料用途，赋予了阻气性能的透明塑料薄膜将会替代不透明的铝箔层压膜愈加广泛地使用。作为对透明塑料基板、透明塑料薄膜赋予透明阻气性能的方法，有PVD法(物理成膜法)和CVD法(化学气相沉积法)，但均为真空工艺；期望开发出一种生产率(throughput)更高的、非真空工艺的、经济地通过有利的涂布法形成阻气层的方法。然而，作为涂布法中使用的阻气用高分子，例如有聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、尼龙6等，但与通过PVD法、CVD形成的阻气层相比，水和氧气容易透过，阻气性低。即...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.06.18 JP 2010-1392151.一种聚合物组合物的制造方法，其特征在于，混合如下成分(A广(D)，使它们反应作为成分(A)，为下述通式(I)的含不饱和基团硅氧烷化合物，2.根据权利要求I所述的制造方法，其中，相对于成分㈧中的Si含量lmol，成分⑶的Si含量在O. Olmof IOOOmol的范围，成分(C)的有机金属化合物的含量在O. OOlmol IOOmol的范围，成分(D)的金属催化剂的含量在O. OOOOlmol IOmol的范围。3.根据权利要求I或2所述的制造方法，其中，还添加下述通式(4)所示的化合物， [OpMu(OR7)qXJy ⑷ 式⑷中，M为Ti、Zr、或Hf, R7表示碳数1 20的烃基，X表示氟、氯、溴、或碘，P、q、u和r分别为P兰O、q>0、u ^ I和r兰O,表示与Ti、Zr和Hf的化合价相容的数，y表示整...

【专利技术属性】
技术研发人员：原大治，清水真乡，
申请(专利权)人：东曹株式会社，
类型：
国别省市：

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