改善石墨膜的平坦性的方法、以及石墨膜及其制造方法技术

平坦性差的原料石墨膜在进行与其它材料的层压时会发生产生褶皱等不良情况。特别是对于大面积的石墨膜，往往会发生产生褶皱等不良情况。为了解决该问题而实施平坦性矫正处理工序，该工序中，一边对原料石墨膜施加压力，一边进行热处理直至2000℃以上。通过该平坦性矫正处理，可获得平坦性良好的石墨膜。进一步利用内芯的热膨胀进行矫正时，可获得松弛度小的石墨膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及平坦性得到改善的石墨膜及其制造方法、以及石墨膜的平坦性改善方法。
技术介绍
散热构件被应用于搭载于计算机等各种电子或电气仪器的半导体元件及其它发热构件等。散热构件中，在应用于大型制品时，石墨膜优选以卷成辊状的状态的高分子膜为原料的长条且大面积的石墨膜，为了制造这样的石墨膜进行了研究。例如，提出了将宽250mmX长30m的高分子膜卷绕于外径150mm的碳质圆筒状内芯来进行热处理的方法，可获得能容易地延长圆筒状的历程的长条且大面积的石墨膜(专利文献I)。但是，该现有方法中，会如图I所示产生大的松弛度Zgs，无法抑制该松弛而制成平坦性优良的石墨膜。该现有的石墨膜例如在进行与其它片材的层压时(参照图2)容易产生缺陷，在卷绕于支管时(参照图3)等可能会发生不良情况。现有技术文献专利文献专利文献I:日本专利特开2006-327907号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题本专利技术的目的是制造平坦性优良的石墨膜。解决技术问题所采用的技术方案S卩，本专利技术涉及以下
技术实现思路
。(I)石墨膜的制造方法，其特征在于，包括平坦性矫正处理工序，该工序中，一边对原料石墨膜施加压力，一边进行本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：太田雄介，稻田敬，三代真琴，稻田卓，西川泰司，
申请(专利权)人：株式会社钟化，
类型：
国别省市：