制造印刷版的方法技术

本发明专利技术在此公开一种制造能够防止印刷辊接触印刷版底面的印刷版的方法。所述制造印刷版的方法包括在基板上形成具有多层结构的掩模薄膜图案和光刻胶图案；形成抗性强化诱导层以覆盖所述光刻胶图案，从而使所述光刻胶图案转化为抗性被强化的光刻胶图案；以及通过使用所述抗性被强化的光刻胶图案以及所述具有多层结构的掩模薄膜图案作为掩模蚀刻所述基板，形成彼此具有不同深度的凹槽图案。

【技术实现步骤摘要】

·本专利技术涉及制造能够防止印刷辊接触印刷版的底面的印刷版的方法。相关技术近来，作为具有减轻的重量和减小的体积以克服阴极射线管(CRT)的缺点的装置，各种平板显示器(FPD)正在受到关注。Fro包括例如液晶显示器(LCD)、场发射显示器(FED)、等离子体显示面板(PDP)、电致发光(EL)显示器等。这种Fro包括通过掩模工艺形成的多层薄膜，该掩模工艺包括沉积(涂覆)工艺、曝光工艺、显影工艺、蚀刻工艺等。但是，该掩模工艺存在制造工艺复杂、从而增加了制造成本的问题。所以，近来正在进行通过使用印刷辊的印刷工艺形成薄膜的研究。印刷工艺是指以这样的方式形成期望的薄膜的工艺，即将印刷液涂覆至印刷辊的覆盖层(blanket)，使用具有凹槽图案和凸起图案的印刷版使该印刷辊形成有印刷图案，然后将该印刷图案转移至基板上。此处，如图I所示，当印刷版10的凹槽图案12的深度比按压印刷辊20的深度浅时，印刷辊20就接触印刷版10的凹槽图案12的底面(见“A”)。结果，涂覆至印刷辊20上的印刷液22被转移至印刷版10的凹槽图案12的底面，由此而损失。当这种损失的印刷液被转移至基板上时，在薄膜层产生针孔形式的非薄膜区。当将薄膜层特别用作黑矩阵或滤色器以实现色彩时，则存在导致劣质图案的问题，例如在薄膜层的非薄膜区看不见颜色的脱色。此外，当使用底面接触印刷辊20的印刷版10在具有多个显示面板的各个基板上形成薄膜层时，则存在这样的问题，即在所有的基板的相同的位置分别产生相同的缺陷，从而导致成品劣化。
技术实现思路
本专利技术涉及一种，该方法基本避免了由于现有技术的局限和缺点导致的一个或多个问题。本专利技术的一个目的在于提供一种制造能够防止印刷辊接触印刷版的底面的印刷版的方法。本专利技术其它的优点、目的和特征的一部分将在随后的描述中说明，并且这些优点、目的和特征的一部分在本领域普通技术人员研习下文后对于本领域普通技术人员来说将是显而易见的，或者可从对本专利技术的实施中获悉。本专利技术的目的和其它优点可通过在书面的描述和权利要求书以及附图中具体指出的结构来实现和获得。为了实现这些目的以及其它优点并且根据本专利技术的目的，如在此具体和概括地描述的，一种包括在基板上形成具有多层结构的掩模薄膜图案和光刻胶图案；形成抗性强化诱导层以覆盖所述光刻胶图案，从而使所述光刻胶图案转化为抗性被强化的光刻胶图案；以及通过使用所述抗性被强化的光刻胶图案以及所述具有多层结构的掩模薄膜图案作为掩模蚀刻所述基板，形成彼此具有不同深度的凹槽图案。在室温下通过沉积工艺可形成所述抗性强化诱导层并且所述抗性强化诱导层可由包括氧化铟锡(ΙΤ0)、氧化铟锌(IZO)以及氧化铟锡锌(ITZO)的至少一种的透明导电膜形成。形成所述抗性强化诱导层可包括将在所述抗性强化诱导层的沉积工艺中产生的能量引入至在所述抗性强化诱导层下面的光刻胶图案。形成具有多层结构的掩模薄膜图案和光刻胶图案可包括在所述基板上形成第一掩模薄膜层；在形成有所述第一掩模薄膜层的基板上形成第一光刻胶图案；使用所述第一光刻胶图案作为掩模使所述第一掩模薄膜层图案化，以形成第一掩模薄膜图案；在形成有所述第一掩模薄膜图案的基板上形成第二掩模薄膜层；在所述第二掩模薄膜层上形成第二光刻胶图案；以及使用所述第二光刻胶图案作为掩模使所述第二掩模薄膜层图案化，以形成第二掩模薄膜图案。可在所述第二光刻胶图案和被所述第二光刻胶图案暴露的基板上形成所述抗性强化诱导层。抗性被强化的第二光刻胶图案可具有对于所述基板的蚀刻剂的耐酸性；并且所述基板的蚀刻剂可包括氟化氢(HF)。形成彼此具有不同深度的凹槽图案可包括通过使用所述第一掩模薄膜图案和所述第二掩模薄膜图案作为掩模的湿蚀刻工艺初次蚀刻所述基板，从而形成长凹槽图案，并且通过所述初次蚀刻去除所述抗性强化诱导层；去除所述第二光刻胶图案和所述第二掩模薄膜图案；通过使用所述第一掩模薄膜图案作为掩模的湿蚀刻工艺二次蚀刻所述基板，从而形成短凹槽图案，并且使长凹槽图案能够具有比所述短凹槽图案深的深度；以及去除所述第一掩模薄膜图案。应该理解的是，对于本专利技术的上述概括描述和接下来的详细描述是示范性的和解释性的，意在提供对要求被保护的本专利技术的进一步的解释。附图说明包括的附图提供了对本专利技术的进一步理解并且被引并入并构成本申请的一部分，所述附图解释本专利技术的实施方式，并且和描述一起用来解释本专利技术的原理。在附图中图I是描述现有技术的印刷装置的印刷版的截面图；图2是描述根据本专利技术实施方式的包括印刷版的薄膜图案形成装置的透视图；图3是详细描述图2所示印刷版的截面图；图4A至4H是用来说明制造如图3所示的印刷版的方法的截面图；图5A至是用来说明使用如图3所示的印刷版制造薄膜图案的方法的截面图；图6是描述具有通过如图5A至所示的制造方法形成的薄膜图案的液晶显示面板的透视图；图7是用来分别解释根据现有技术和本专利技术的示范性实施方式利用印刷版形成的薄膜图案的视图。具体实施方式现将详细地描述本专利技术的优选实施方式，优选实施方式的示例在附图中说明。尽可能地，在所有附图中将使用相同的标号来表示相同的或相似的部分。图2是描述根据本专利技术的实施方式的包括印刷版的薄膜图案形成装置的透视图。图2所示的薄膜图案形成装置包括印刷液供给部130、印刷辊120和印刷版110。印刷液供给部130储存有机或无机物的印刷液，并且将储存的印刷液供给至印刷辊120的覆盖层。在印刷辊120中，印刷液从印刷液供给部130施加至附着于印刷辊120的外表面的覆盖层。印刷辊120在印刷版110和基板101上旋转，以便顺序地与印刷版110和基板101接触。即当印刷辊120在印刷版110和基板101上旋转的同时，印刷辊120还沿位于放置有印刷版110和基板101的工作台(未示出)的相对侧的导轨(未示出)直线地移动。印刷版110接触印刷辊120的覆盖层，使得施加至印刷辊120的覆盖层的印刷液仅保留在印刷版110的要求的区域。如图3所示，印刷版110具有长凹槽图案114、短凹槽图案116和凸起图案112，以便在基板101上形成彼此具有不同线宽的第一薄膜图案和第二薄膜图案。凸起图案112表示当印刷辊120在印刷版110上旋转时，印刷版110上与施加至覆盖层的印刷液接触的区域。因此，当印刷辊120在印刷版110上旋转时，覆盖层的印刷液被转移至凸起图案112上。长凹槽图案114和短凹槽图案116表示当印刷辊120在印刷版110上旋转时，印刷板Iio上不与施加至印刷辊120的覆盖层的印刷液接触的各个区域。因此，与长凹槽图案114和短凹槽图案116对应的覆盖层的印刷液保留在印刷辊120的覆盖层处，以便被形成为基板101上的薄膜图案。长凹槽图案114与要在基板101上形成的、具有相对宽的线宽的第一薄膜图案对应。于是，长凹槽图案114形成为具有第一线宽《I和几十微米(μ m)的第一深度dl。短凹槽图案116与要在基板101上形成的、具有比第一薄膜图案的线宽窄的线宽的第二薄膜图案对应。于是，短凹槽图案116形成为具有比第一线宽Wl窄的第二线宽《2和比第一深度dl浅几μ m的第二深度d2。长凹槽图案114的深度dl形成为比短凹槽图案116的深度d2深，使得当印刷辊120和印刷版110接触时，可防止印刷辊120接触长凹槽图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造印刷版的方法，包括：在基板上形成具有多层结构的掩模薄膜图案和光刻胶图案；形成抗性强化诱导层以覆盖所述光刻胶图案，从而使所述光刻胶图案转化为抗性被强化的光刻胶图案；以及通过使用所述抗性被强化的光刻胶图案以及所述具有多层结构的掩模薄膜图案作为掩模蚀刻所述基板，形成彼此具有不同深度的凹槽图案。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：李濬熙，李政训，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：