【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及小直径永磁体球形抛光头结构参数优化设计方法，属于永磁体球形抛光头设计及制造
技术介绍
随着现代科学技术的日益发展，在国防、航空航天及电子行业、生物医疗等领域，需要各种高精度高表面质量的光学零件，这些高精度零件其表面粗糙度Ra大多要求达到纳米量级，目前主要采用超精密切削、超精密磨削与磁流变抛光等技术手段实现其加工。对于一些形状较为简单、尺度较大的光学零件，目前常采用磁流变抛光的方法实现其加工。磁 流变抛光的基本原理是在外加磁场作用下，磁流变液的粘度、屈服强度会显著增加，在磁流变液中加入磨料，利用其固化作用对工件表面进行光整加工。磁流变抛光不会有工具磨损，磁流体的流动对工件形状的适应性好，加工热量会及时被带走，并且能达到纳米级的加工表面质量。但是，在航空航天、聚变能源及生物医疗等行业，许多尖端产品需要高精度高表面质量的异形结构零件，如熔石英半球谐振子零件、光学微透镜阵列等，这类零件由于结构形状复杂，表面多为自由曲面，并且曲面过渡部分曲率半径较小，采用常规的超精密切肖IJ、磨削与磁流变抛光加工方法难以实现其加工。针对这一情况，目前已有采用小直径...
【技术保护点】
磁场分布均匀化的小直径永磁体球形抛光头，它是对称结构，所述球形抛光头由球头（1）和球杆（2）组成，所述球杆（2）为直径为DD的圆柱体，该球杆（2）的末端中心带有直径为D的装配孔，该装配孔的深度为H，该球杆（2）的首端固定有球头（1），该球头（1）是半径为R的球体的一部分，并且该球头（1）的圆心位于球杆（2）的轴线上，球头（1）的圆心距离球杆（2）末端的距离为HH，其特征在于，在球杆（2）与球头（1）的连接处的外表面上设置有环形凹槽（3），该环形凹槽（3）的宽度为A、深度为B，环形凹槽（3）与球杆（2）末端的距离为L。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈明君，左泽轩，刘赫男，方针，苏银蕊，余波，彭慧，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：
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