一种产水电阻率为18 MΩ·cm的超纯水制取装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术设计一种产水电阻率为18MΩ?cm的超纯水制取装置，包括：PLC控制系统、加药系统，其特征在于，还包括顺序管路连接的进水端、换热器、自清洗过滤器、超滤系统、超滤水箱、一级反渗透系统、中间水箱、二级反渗透系统、渗透水箱、第一紫外杀菌灯、过滤器、EDI系统、超纯水箱、抛光混床、第二紫外杀菌灯和出水端。本实用新型专利技术的优点：利用了全膜法技术，并利用PLC进行全自动化控制，可以快速、高效、节能地制取高纯水。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及纯水制取，特别是一种产水电阻率为18 ΜΩ ·αιι的超纯水制取装置。
技术介绍
超纯水对许多工业工程非常重要，比如半导体制造业和制药业等。超纯水是纯度极高的水，其电离杂质的含量用水的电阻率数值来衡量。理论上，纯水中只有H离子和OH离子参加导电，在25°C时超纯水的电阻率极限值接近于18. 3ΜΩ · cm。而目前超纯水的制取工艺无法保证水质有极高的纯度，电离很难达到此电阻率。因此，亟待开发出一种新型的超纯水制取装置。
技术实现思路
本技术目的是提供一种处理装置简单，包括所有处理过程都自动进行，而且能自动记录超纯水制取全过程的装置。为了实现上述目的，本技术的技术方案是这样实现的一种产水电阻率为18ΜΩ-cm的超纯水制取装置，包括PLC控制系统、加药系统，其特征在于，还包括顺序管路连接的进水端、换热器、自清洗过滤器、超滤系统、超滤水箱、一级反渗透系统、中间水箱、二级反渗透系统、渗透水箱、第一紫外杀菌灯、过滤器、EDI系统、超纯水箱、抛光混床、第二紫外杀菌灯和出水端。所述加药系统包括但不限于絮凝药剂加药系统、杀菌剂加药系统、还原剂加药系统和阻垢剂加药系统。所述换热器和自清洗过滤器之间本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种产水电阻率为18？MΩ？cm的超纯水制取装置，包括：PLC控制系统、加药系统，其特征在于，还包括顺序管路连接的进水端、换热器、自清洗过滤器、超滤系统、超滤水箱、一级反渗透系统、中间水箱、二级反渗透系统、渗透水箱、第一紫外杀菌灯、过滤器、EDI系统、超纯水箱、抛光混床、第二紫外杀菌灯和出水端。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张建鹏，钟丽云，刘通，许嘉龙，
申请(专利权)人：上海问鼎环保科技有限公司，上海问鼎水处理工程有限公司，
类型：实用新型
国别省市：