用于割离紧固件头部的方法和装置制造方法及图纸

用于通过放电加工，即EDM，来移除紧固件的装置和方法，以便紧固件的部分，例如凸缘头部，可以与紧固件的其他部分（例如柄）分离。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及放电加工(EDM)
技术实现思路
根据一些示例性实施例，公开了 EDM装置，包括烧蚀电极，其外直径超过紧固件柄的外直径，其中所述烧蚀电极被构造成纵向前进通过紧固件的头部并且到达框架基底上的框架涂层。烧蚀电极可以具有比紧固件柄的直径更小的内直径。烧蚀电极是中空圆柱。烧蚀电极可以是实心圆柱。烧蚀电极可以是多个销。烧蚀电极可以被构造成随则其纵向前进而旋转。烧蚀电极可以被构造成绕与紧固件中心轴线对应的旋转轴线旋转。电源可以被构造成在烧蚀电极与紧固件和框架涂层中至少一者之间提供电压差。接地电极可以被构造成接触紧固件和框架涂层中至少一者。根据一些示例性实施方式，公开了一种方法，包括向框架基底内的紧固件提供烧蚀电极，该框架基底具有在其表面上的框架涂层并且该紧固件具有延伸超过框架涂层的头部和在框架基底内的柄；烧蚀被烧蚀空间，所述被烧蚀空间具有超过所述柄的外直径的外直径并且延伸通过所述紧固件的所述头部并到达所述框架涂层。烧蚀被烧蚀空间可以包括在烧蚀电极以及紧固件和框架涂层中至少一者之间提供电压差。烧蚀被烧蚀空间可以包括使得烧蚀电极沿紧固件轴线纵向前进。烧蚀被烧蚀空间可以包括随着烧蚀电极纵向前进使其旋转。被烧蚀空间可以延伸通过框架涂层的一部分。烧蚀电极可以是中空圆柱。烧蚀电极可以是实心圆柱。烧蚀电极可以是多个销。头部的凸缘可以与紧固件的剩余部分分离。框架基底可以保持原封不动的/完整的(intact)。使得烧蚀电极沿紧固件轴线纵向前进可以包括当所述烧蚀电极与紧固件的外表面接触时感测和记录接触部位；跟踪相对于接触位置行进的纵向距离；当行进的纵向距离等于接触位置和框架涂层内的至少一个部位之间的距离时停止烧蚀电极的前进。附图说明结合附图参考下述描述将更加显而易见到本专利技术的上述特征，附图中类似附图标记指代类似元件，并且其中图I示出了接近紧固件的烧蚀电极的截面图；图2示出了穿透紧固件和框架涂层的一部分的烧蚀电极的截面图3示出了紧固件和框架涂层内的被烧蚀空间的截面图；图4示出了从紧固件的柄移除的紧固件头部的截面图；图5示出了接近紧固件的烧蚀电极的截面图；图6示出了穿透紧固件和框架涂层的一部分的烧蚀电极的截面图；图7示出了紧固件和框架涂层内的被烧蚀空间的截面图；图8不出了从紧固件的柄移除的紧固件头部的截面图；图9示出了接近紧固件的烧蚀电极的截面图； 图10示出了穿透紧固件和框架涂层的一部分的烧蚀电极的截面图；图11示出了紧固件和框架涂层内的被烧蚀空间的截面图；图12示出了从紧固件的柄移除的紧固件头部的截面图；图13示出了接近紧固件的烧蚀电极的截面图；图14示出了穿透紧固件的烧蚀电极的截面图；图15示出了穿透紧固件和框架涂层的一部分的烧蚀电极的截面图；图16示出了接近紧固件的烧蚀电极的截面图；图17示出了穿透紧固件和框架涂层的一部分的烧蚀电极的截面图；图18示出了紧固件和框架涂层内的被烧蚀空间的截面图；以及图19示出了从紧固件的柄移除的紧固件头部的截面图。具体实施例方式根据一些示例性实施方式，公开了一种EDM装置，其用于将紧固件10的头部22与紧固件10的柄30分离。如图1-19所示，紧固件10可以包括延伸通过框架基底50的至少一部分以及框架涂层60的柄30。柄30可以具有已知或可确定形状和几何外形。例如，柄30可以是具有已知外直径的大体圆柱形。如图所示，紧固件10可以包括头部20，该头部20从框架基底50和框架涂层60中至少一者的至少一部分突出。头部20可以包括凸缘22，其对应于头部20径向延伸超出柄30的外直径的部分。根据一些示例性实施方式，紧固件10可以接口于框架基底50和框架涂层60中至少一者的至少一部分。例如，紧固件10可以装配到框架基底50和框架涂层60中至少一者内或被抒到其上。紧固件10可以接口于(interface with)框架基底50和框架涂层60的与紧固件10的头部20相反的侧面处的箍圈/卡圈(未示出)。根据一些示例性实施方式，有利的是在不从箍圈或与其固定的其他结构分离的情况下促进紧固件10的移除。例如，有利的是，沿与包括头部20的侧面相反的方向移除紧固件10。如图所示，EDM装置的烧蚀电极100可以具有各种形状、尺寸和构造。根据一些示例性实施方式，烧蚀电极100可以被构造成从柄30移除头部、凸缘22或其至少部分。例如，如图I和图2所示，烧蚀电极100可以沿轴线纵向前进。轴线可以与紧固件10的中心轴线同轴、平行或其他方式对齐。烧蚀电极100所具有的外直径可以等于或超出紧固件10的柄30的外直径。如这里所用，在过程期间的一个或更多个点处，烧蚀电极100的外直径可以对应于距烧蚀电极100的中心轴线的径向最外极限点或与烧蚀电极100的中心轴线的距离。根据一些示例性实施方式，如图2所示，烧蚀电极100被构造成纵向前进通过紧固件10的头部20并到达框架基底50上的框架涂层60。根据一些示例性实施方式，框架涂层60可以不同于框架基底50。例如，框架涂层60可以是与框架基底50不同的材料，或者框架涂层60可以是与框架基底50相同的材料的不同部分。框架涂层60可以与框架基底50分离或与其一体。根据一些示例性实施方式，可以接受对框架涂层60的烧蚀，而烧蚀框架基底50则可能是不希望的。根据一些示例性实施方式，如图2所示，烧蚀电极100可以前进穿透框架涂层60的至少一部分。烧蚀电极100可以被构造成通过EDM过程/工艺来烧蚀被烧蚀空间200。例如，可以由电源提供在烧蚀电极100以及紧固件10、框架涂层60、框架基底50和与上述一者或更多者导电的任意部件中的至少一者之间的电压差。可以在烧蚀电极100和上述一者之间提供电介质流体/介电流体。在给定电压的情况下，电介质流体可以击穿，并且可以发生等离子事件，从而导致紧固件10或框架涂层60的至少一部分被烧蚀，从而在等离子事件的部位处留下被烧蚀空间200。一系列等离子事件会类似地产生被烧蚀空间200。根据一些示例性实施方式，如图3所示，被烧蚀空间200可以至少完全延伸通过紧固件的头部200，从而使凸缘22与柄30分离。例如，被烧蚀空间200可以延伸到框架涂层 600的至少一部分处或内。根据需要，被烧蚀空间200可以不延伸到框架基底50内。根据一些示例性实施方式，可以提供方法和构造来验证烧蚀电极100的位置和被烧蚀空间200的范围。例如，随着烧蚀电极100与紧固件10的外表面接触，可以感测并记录参考点(例如接触部位)。距参考点的距离可以随着由此行进的纵向距离而被跟踪。从参考点到从紧固件10至框架涂层60或从框架涂层60至框架基底50的过渡的距离可以是已知的或可确定的，以致可以相对于从紧固件10至框架涂层60或从框架涂层60至框架基底50的过渡中的至少一个确定行进的距离。当行进的纵向距离对应于参考点和上述或框架涂层60内的至少一个部位之间的距离时停止烧蚀电极100的前进。可以使用其他方法和机制来跟踪至少烧蚀电极100的前进，如本领域普通技术人员可以意识到且如本公开所想到的。根据一些示例性实施方式，烧蚀电极100可以在纵向前进的同时绕轴线旋转。根据一些示例性实施方式，如图4所示，至少凸缘22可以从柄30移除。在被烧蚀空间200至少延伸到框架涂层60的情况下，凸缘22可以已经从柄本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·鲁格利，K·戈尔德，M·吉本斯，
申请(专利权)人：完美点EDM公司，
类型：
国别省市：