信息处理装置和方法、程序和校正荧光光谱的强度的方法制造方法及图纸

公开了信息处理装置和方法、程序和校正荧光光谱的强度的方法。提供了一种信息处理装置，包括：估计单元，该估计单元将通过将光照射到测量对象的测量物而获得的光强度分布表述为通过将光照射到基准测量物而获得的光强度分布的线性组合，将从每个基准测量物获得的光强度分布建模为遵循预定的概率分布，并且根据从测量对象的测量物获得的光强度分布估计线性组合的组合系数，其中测量对象的测量物在该测量物的表面和/或内部具有对光的响应特性相互不同的多个物质，并且每个基准测量物具有单个物质。

【技术实现步骤摘要】
信息处理装置和方法、程序和校正荧光光谱的强度的方法
本公开涉及信息处理装置、信息处理方法、程序和校正荧光光谱(fluorescencespectrum)的强度的方法。
技术介绍
为了测量诸如细胞之类的微粒子的特性，使用向用荧光色素(fluorescentpigment)标记的微粒子照射激光束并且测量来自于被激发的荧光色素的荧光的强度或图案的装置(例如流式细胞仪(flowcytometer))。作为用于更详细分析微粒子的特性的技术，也可使用一种被称为多色测量的技术，其利用多个荧光色素标记微粒子并且用具有不同光接收波长带的光检测器测量来自于以激光束辐射的每个荧光色素的荧光。另外，根据来自于要测量的荧光色素的荧光的荧光波长来设计为了约束光接收波长带而设在每个光检测器中的滤光器的透明波长带。例如，异硫氰酸荧光素(FITC)或藻红蛋白(PE)被用作荧光色素。当测量通过将激光束照射到用这种荧光色素标记的微粒子而获得的荧光光谱时，确认了相互重合的荧光波长带的存在。即，即使当在多色测量中用滤光器根据波长带分离通过将激光束照射到微粒子而获得的荧光时，也会考虑来自于不是对象荧光成分的荧光色素的荧光成分在由每个光检测器检测到的荧光光谱中泄漏。当荧光的泄漏发生时，在每个光检测器测量到的荧光强度和实际来自于对象荧光色素的荧光的荧光强度之间可发生偏离。结果，测量误差发生。为了校正这种测量误差，执行从由光检测器测量到的荧光强度中减去与荧光的泄漏相对应的荧光强度的荧光校正处理(补偿)。荧光校正处理是对测量到的荧光强度执行校正以使得由光检测器测量到的荧光强度近似实际来自于对象荧光色素的荧光的荧光强度的处理(以下称为荧光校正)。例如，作为执行荧光校正的方法，日本未实审专利申请公布No.2003-83894公开了从数学上校正荧光强度的方法。根据日本未实审专利申请公布No.2003-83894中公开的方法，通过使用以每个光检测器测量到的荧光强度(检测值)作为成分的向量并且在该向量中应用预先设定的校正矩阵的逆矩阵来计算实际来自于对象荧光色素的荧光的荧光强度。校正矩阵也被称为泄漏矩阵。校正矩阵是通过对单独用各个荧光色素标记的微粒子的荧光波长分布进行分析并且将每个荧光色素的荧光波长分布排列为行向量来准备的矩阵。
技术实现思路
在日本未实审专利申请公布No.2003-83894中公开的荧光校正处理中，允许负值作为校正矩阵的矩阵成分的值。由于此原因，当应用荧光校正处理时，经校正的荧光强度在一些情况下具有负值。经校正的荧光强度具有负值的原因是每个光检测器的检测值中包含的噪声影响每个矩阵成分的值。然而，实际上，荧光强度本质上不具有负值。另外，计算出的来自于给定荧光色素的荧光的荧光强度具有负值这个事实意味着同时在另一荧光色素的荧光强度中发生正方向上的误差。考虑在要分析的微粒子集团(以下称为群体)中存在给定荧光色素的荧光强度具有负值的子集团(以下称为子群体)。在此情况下，当生成以对数刻度绘出给定荧光色素的荧光强度的二维相关图(以下称为细胞图)时，在该细胞图上可能不会绘出该子群体。因此，担心用户可能会误解在细胞图上绘出的群体小于实际群体。在日本未实审专利申请公布No.2003-83894中公开的荧光校正处理中，当从每个光检测器的检测值中将来自于微粒子的自身荧光的检测值作为背景减去时，整个群体的自身荧光强度的平均值被用于计算。然而，自身荧光的强度或图案在每个子群体中是不同的。由于此原因，对于所有子群体一律减去平均值的计算本身导致荧光强度的计算值的误差。特别地，当在要分析的子群体之间自身荧光强度不规则时，误差可相当大。这里，在测量到的荧光光谱中给定波长带中存在的峰源于多个化学种类的情形不只由于用上述荧光色素标记的微粒子的荧光光谱而发生。在测量到的荧光光谱中给定的峰源于多个化学种类的情形甚至在其中多个化学种类共存的发射光谱、吸收光谱等等中也能发生。即，在针对每个发光成分分析来自于多个发光成分的光的光谱的处理中，必须执行有效地抑制泄漏到来自于对象发光成分的光的光谱的其他发光成分的元素的校正方法。希望提供一种能够以更高的精确度从测量到的光谱中提取对象光谱成分的信息处理装置、信息处理方法、程序和校正荧光光谱的强度的方法。根据本公开的一个实施例，提供了一种信息处理装置，包括：估计单元，该估计单元将通过将光照射到测量对象的测量物而获得的光强度分布表述为通过将光照射到基准测量物而获得的光强度分布的线性组合，将从每个基准测量物获得的光强度分布建模为遵循预定的概率分布，并且根据从测量对象的测量物获得的光强度分布估计线性组合的组合系数，其中测量对象的测量物在该测量物的表面和/或内部具有对光的响应特性相互不同的多个物质，并且每个基准测量物具有单个物质。根据本公开的另一实施例，提供了一种信息处理方法，包括：将通过将光照射到测量对象的测量物而获得的光强度分布表述为通过将光照射到基准测量物而获得的光强度分布的线性组合，将从每个基准测量物获得的光强度分布建模为遵循预定的概率分布，并且根据从测量对象的测量物获得的光强度分布估计线性组合的组合系数，其中测量对象的测量物在该测量物的表面和/或内部具有对光的响应特性相互不同的多个物质，并且每个基准测量物具有单个物质。根据本公开的另一实施例，提供了一种程序，用于使得计算机执行以下功能：将通过将光照射到测量对象的测量物而获得的光强度分布表述为通过将光照射到基准测量物而获得的光强度分布的线性组合，将从每个基准测量物获得的光强度分布建模为遵循预定的概率分布，并且根据从测量对象的测量物获得的光强度分布估计线性组合的组合系数，其中测量对象的测量物在该测量物的表面和/或内部具有对光的响应特性相互不同的多个物质，并且每个基准测量物具有单个物质。根据本公开的另一实施例，提供了一种校正荧光光谱的强度的方法，包括：通过将具有预定波长的光照射到用多个荧光色素多重染色的微粒子来测量微粒子的荧光光谱；以及基于与单个荧光色素的荧光特性有关的信息来校正测量到的微粒子的荧光光谱的荧光强度，其中，为了校正荧光强度，将微粒子的荧光光谱作为荧光色素的荧光光谱与预定的加权系数的乘积的线性和来对待，并且基于与单个荧光色素的荧光特性有关的信息来设定指示与荧光色素的荧光光谱相对应的强度分布的参数，基于微粒子的荧光光谱和与荧光色素的荧光光谱相对应的强度分布来估计与微粒子的荧光光谱相对应的可能加权系数和指示强度分布的参数，以及将所估计的加权系数视为源自每个荧光色素的荧光强度。根据本公开的实施例，参数设定控制单元将通过将具有预定波长的光照射到测量物而测量到的荧光光谱作为源自单个或多个光谱的基准荧光光谱与预定的加权系数的乘积的线性和来对待，并且设定指示与基准光谱相对应的强度分布的参数。估计单元基于测量光谱的光谱和与基准光谱相对应的强度分布来估计与测量物的光谱相对应的可能加权系数和指示强度分布的参数。输出单元将所估计的加权系数作为源自每个基准光谱的荧光强度输出。根据上述本公开的实施例，可以以更高的精确度从测量到的光谱中提取对象光谱成分。附图说明图1是示出荧光强度校正处理的示图；图2是示出荧光强度校正处理的示图，其中示出了根据逆矩阵方法的强度校正的情况；图3是示出荧光强度校正处理的示图，其中示出了根据本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种信息处理装置，包括：估计单元，该估计单元将通过将光照射到测量对象的测量物而获得的光强度分布表述为通过将光照射到基准测量物而获得的光强度分布的线性组合，将从每个所述基准测量物获得的光强度分布建模为遵循预定的概率分布，并且根据从所述测量对象的测量物获得的光强度分布估计所述线性组合的组合系数，其中所述测量对象的测量物在该测量物的表面和/或内部具有对光的响应特性相互不同的多个物质，并且每个所述基准测量物具有单个物质。

【技术特征摘要】
2011.07.25 JP 2011-1617581.一种信息处理装置，包括：估计单元，该估计单元将通过将光照射到测量对象的测量物而获得的光强度分布表述为通过将光照射到基准测量物而获得的光强度分布的线性组合，将从每个所述基准测量物获得的光强度分布建模为遵循预定的概率分布，并且根据从所述测量对象的测量物获得的光强度分布估计所述线性组合的组合系数，其中所述测量对象的测量物在该测量物的表面和/或内部具有对光的响应特性相互不同的多个物质，并且每个所述基准测量物具有单个物质。2.根据权利要求1所述的信息处理装置，其中，所述估计单元判定所述组合系数和基于所述组合系数从所述测量对象的测量物获得的光强度分布的估计值是否收敛，所述信息处理装置还包括参数设定控制单元，当所述估计单元判定所述估计值不收敛时，该参数设定控制单元利用所述估计值更新规定所述预定的概率分布的参数，并且所述估计单元利用更新后的规定所述预定的概率分布的参数来再次估计所述组合系数和规定所述预定的概率分布的参数。3.根据权利要求2所述的信息处理装置，其中，所述估计单元将对通过将光照射到所述测量对象的测量物而获得的光强度分布有影响并且是从所述基准测量物获得的光成分以外的成分建模为遵循不同的预定概率分布并且根据从所述测量对象的测量物获得的光强度分布估计所述线性组合的组合系数，并且当所述参数设定控制单元更新规定所述预定的概率分布的参数时，所述参数设定控制单元利用所述估计值更新规定所述不同的预定概率分布的参数。4.根据权利要求2所述的信息处理装置，其中，所述估计单元使用从所述基准测量物预先获得的光强度分布作为在基于所述预定的概率分布估计从所述基准测量物获得的光强度分布时使用的先验知识。5.根据权利要求2所述的信息处理装置，其中，即使当测量多个所述测量对象的测量物的光强度分布时，所述参数设定控制单元也共通地...

【专利技术属性】
技术研发人员：关野正志，加藤泰信，伊藤达巳，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：