一种圆形阵列脑部电阻抗断层成像用电极制造技术

本发明专利技术公开了一种圆形阵列脑部电阻抗断层成像用电极，由金属底座、探针阵列、探针前端覆层以及设置在金属底座和各个探针外侧的覆层构成。一个电极的金属底座前面固定有9个探针，后面焊接有按扣以方便进行连接。9个探针的前端覆盖有吸水层，可以吸收导电膏或者NaCl溶液。这种探针的结构可以使电极穿过头发进行测量，用于无需剃发的脑部电阻抗断层成像。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于电测量领域，涉及一种成像用电极，特别是一种圆形阵列脑部电阻抗断层成像用电极。
技术介绍
在疾病的检测方面，以CT、MRI为代表的现代医学成像技术，起到了积极而关键的作用，为疾病的确诊与救治提供了重要的参考价值。但由于这些仪器设备体积庞大、造价高昂、操作不方便，因而大多只能在患者出现重大病情变化时才予检测，难以及早发现病情，更难以实现大范围的快速筛查。电阻抗断层成像技术(EIT)是一种通过体表测量方式来估算体内电特性二维或三维的成像技术。由于该技术采用安全的微弱交流电信号激励，对人体无创无害。同时，相对 现有成像设备而言，具有结构简单、操作简便、设备小巧、成像速度快、系统造价低和功能成像等优点.是一种具有广泛应用前景的成像技术。并且它的这些特点使它极为适合应用于疾病的预防和筛查工作。当前的脑部电阻抗断层成像电极使用的是金属杯状Ag/AgCl电极，进行放置电极之前，必须剪掉所有的头发，这在进行大规模的应用时显然是不适用的。据国外文献报道，目前有一种干电极，可以无需备皮就能进行脑部EIT成像。但是它以刺破角质层为代价，对皮肤有一定伤害，可能会引发皮肤疾病的传播，并使得被试者本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种圆形阵列脑部电阻抗断层成像用电极，其特征在于，由覆盖有Ag/Agcl镀层的探针和底座构成，探针在底座上呈圆心和圆周方式布置，其中圆周上的探针均匀分布，所述的探针的前端有松紧环固定的亲水覆层，底座的另一侧连接有按扣。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：董秀珍，郭大龙，付峰，尤富生，史学涛，刘锐岗，季振宇，徐灿华，代萌，
申请(专利权)人：中国人民解放军第四军医大学，
类型：发明
国别省市：