【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种炉体,特别是涉及一种立式炉体。
技术介绍
目前,在半导体等行业多用到各类炉子,特别是对于热处理设备的广泛应用,热处理设备其中一个很重要的参数是温区分布,而目前热处理生产线所用的炉体中的温区分布情况是固定不变的,对于不同的热处理炉,其温区分布是不相同的,这就要求每更换一次炉体,都要根据新的温区分布来调节相应的工艺过程及参数,这对工艺的稳定性也带来不利的影响。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题 本专利技术要解决的技术问题是如何提供一种高度可调的热处理炉体,以保证恒温区处于理想位置。(二)技术方案为了解决上述技术问题,本专利技术提供的一种立式炉体,包括炉体本体,所述炉体本体的外部设有升降机构,所述升降机构用于调节所述炉体本体的高度。其中,所述升降机构设于所述炉体本体的底部。其中,所述升降机构包括固定支座、顶块和升降驱动单元;所述固定支座上设有一个或多个竖直导向槽,每个所述竖直导向槽内分别设有顶块,所述顶块与升降驱动单元连接,所述顶块的顶部抵住所述炉体本体的底部,所述升降驱动单元驱动所述顶块在所述竖直导向槽内做升降运动并带动炉体本体做升降运动进而调节炉 ...
【技术保护点】
一种立式炉体,其特征在于,包括炉体本体,所述炉体本体的外部设有升降机构,所述升降机构用于调节所述炉体本体的高度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:赵燕平,孙少东,
申请(专利权)人:北京七星华创电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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