绝对法电导率测量用电导池定位支架制造技术

技术编号:8232436 阅读:180 留言:0更新日期:2013-01-18 14:32
本实用新型专利技术属于测量应用技术领域,采用U型框架作为支架主体,U型框架为滑道式可调节结构,以适应不同型号电导池的使用。该绝对法电导率测量用电导池定位支架,由底板(1)和两个平行的立板(3)组成,底板(1)中间开有矩形开口,沿矩形开口长边设置平行滑槽(2),立板安装在与底板滑槽匹配的滑块(4)上,立板(3)上有卡扣(5),立板上的滑块嵌入底板的平行滑槽,滑块(4)居中设置弧形支撑槽。该定位支架,采用整体定位方式,结构简单,固定稳定,调节和使用操作方便;使用滑道结构,可以根据电导池尺寸调整,适用于不同规格的电导池固定,特别适用于绝对法标准电导池的固定。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

绝对法电导率测量用电导池定位支架一、
本技术属于测量应用
,涉及电导率测量技术,特别涉及绝对法电导率标准测量技术。二、
技术介绍
绝对法电导率测量作为溶液电导率定值最高标准,采用基于精确测量电导池几何参数的绝对测量方法,采用中间管段可拆装的JONES型电导池,该电导池为对称的分体式U 型结构。传统固定方式为外置固定装置支撑,通过两个万能夹分别固定电极腔瓶颈,测试时两个电极腔及中间管段需浸入恒温水(油)浴中。由于两电极腔的平衡性和复利的共同作用,再者恒温水(油)浴中的溶液为动态的,整个电导池装置在水(油)浴中的位置极不稳定, 造成测量过程中引入的系统误差增大;同时,还会加大操作难度,操作过程对操作人员的要求变高,一旦操作不慎,甚至会打碎仪器,从而无法进行测量。三、
技术实现思路
本技术旨在为解决绝对法电导率测量过程中电导池的稳定固定问题和实现安全操作,提供一种U型定位支架,用于绝对法电导率测量过程中电导池的稳定固定。本技术的目的是这样实现的,采用U型框架作为支架主体,U型框架为滑道式可调节结构,以适应不同型号电导池的使用山型框架的立板上设有固定装置,便于对电导池的固定;采用高密度材料作为支架用材,保证支架连同固定于支架上的电导池稳定沉入水(油)浴中。为使电导池的固定更为稳定,在底座和支架上开有与电导池匹配的弧形槽。本技术涉及的绝对法电导率测量用电导池U型定位支架,由底板I和两个平行的立板3组成,其特征在于底板I中间开有矩形开口,沿矩形开口长边设置平行滑槽2, 立板安装在与底板滑槽匹配的滑块4上,立板3上有卡扣5,立板上的滑块嵌入底板的平行滑槽,滑块4居中设置弧形支撑槽,结构如附图I所示。本技术涉及的绝对法电导率测量用电导池U型定位支架,由底板I和两个平行的立板3组成,其特征在于立板上设置与底板上的支撑槽对应的弧形定位槽7,结构如附图2所示。本技术涉及的U型定位支架,由底板I和两个平行的立板3组成,其特征在于立板与滑块为一体结构。本技术涉及的绝对法电导率测量用电导池U型定位支架,由底板I和两个平行的立板3组成,其特征在于底板为镂空结构。本技术涉及的绝对法电导率测量用电导池U型定位支架,采用整体定位方式,结构简单,固定稳定,调节和使用操作方便;使用滑道结构,可以根据电导池尺寸调整, 适用于不同规格的电导池固定,特别适用于绝对法标准电导池的固定。本技术涉及的绝对法电导率测量用电导池U型定位支架,采用镂空底板,使温场均匀性更好,有效保证测量的准确性。附图说明附图I本技术涉及的电导池支架结构示意图附图2本技术涉及的电导池支架立板结构示意图其中1_底板;2-滑道;3-立板;4-滑块;5-卡扣;6_矩形开口 ;7-弧形定位槽五具体实施方式下面结合实施例对本技术提出的技术方案进行进一步说明,但不作为对技术提出的技术方案的限制。下面以一种绝对法电导池定位支架为例对本技术提出的技术方案进行进一步说明。本定位支架采用聚四氟乙烯作加工而成。底板尺寸为600mm*400mm*10mm, 居中开50mm*450mm矩形孔,其余部分均布Φ8πιπι小孔,孔中心距为12mm ;沿矩形孔长边设置10mm*10mm*600mm工字型滑槽;滑块120mm*50mm*25mm,滑块面上横向居中设置180 ° Φ35ι πι弧形定位槽,下端有120mm*10mm*IOmm外沿与滑槽配合;立板 10mm*40mm*300mm,底部对称设置与 底板上工字型滑槽匹配的滑槽,立板面上纵向居中设置 120° Φ IOmm的弧形定位槽7,在弧形定位槽7边上设置搭接式固定卡扣。两块立板的滑块放入滑槽中,弧形定位槽7相对得到本技术设计的U型定位支架。以支撑绝对法电导池(电导池的结构如附图I所示)为例说明该支架的使用特点, 将电导池的电极腔放在弧形支撑槽上,移动立板至电极引线正好嵌入弧形定位槽7,用卡扣固定电极即完成电导池固定,测试时只需将整套装置放入恒温槽中即可。权利要求1.一种绝对法电导率测量用电导池定位支架,由底板(I)和两个平行的立板(3)组成, 其特征在于底板(I)中间开有矩形开口,沿矩形开口长边设置平行滑槽(2),立板安装在与底板滑槽匹配的滑块(4)上,立板(3)上有卡扣(5),立板上的滑块嵌入底板的平行滑槽, 滑块(4 )居中设置弧形支撑槽。2.权利要求I涉及的绝对法电导率测量用电导池定位支架,其特征在于立板上设置与底板上的支撑槽对应的弧形定位槽(7)。3.权利要求I涉及的绝对法电导率测量用电导池定位支架,其特征在于立板与滑块为一体结构。4.权利要求I涉及的绝对法电导率测量用电导池定位支架,其特征在于底板为镂空结构。专利摘要本技术属于测量应用
,采用U型框架作为支架主体,U型框架为滑道式可调节结构,以适应不同型号电导池的使用。该绝对法电导率测量用电导池定位支架,由底板(1)和两个平行的立板(3)组成,底板(1)中间开有矩形开口,沿矩形开口长边设置平行滑槽(2),立板安装在与底板滑槽匹配的滑块(4)上,立板(3)上有卡扣(5),立板上的滑块嵌入底板的平行滑槽,滑块(4)居中设置弧形支撑槽。该定位支架,采用整体定位方式,结构简单,固定稳定,调节和使用操作方便;使用滑道结构,可以根据电导池尺寸调整,适用于不同规格的电导池固定,特别适用于绝对法标准电导池的固定。文档编号G01R1/04GK202676739SQ201120405940公开日2013年1月16日 申请日期2011年10月21日 优先权日2011年10月21日专利技术者胡国星, 徐大刚, 陈方汀, 王曙光, 拓锐, 武文顺 申请人:中国兵器工业集团第五三研究所本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种绝对法电导率测量用电导池定位支架,由底板(1)和两个平行的立板(3)组成,其特征在于:底板(1)中间开有矩形开口,沿矩形开口长边设置平行滑槽(2),立板安装在与底板滑槽匹配的滑块(4)上,立板(3)上有卡扣(5),立板上的滑块嵌入底板的平行滑槽,滑块(4)居中设置弧形支撑槽。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:胡国星徐大刚陈方汀王曙光拓锐武文顺
申请(专利权)人:中国兵器工业集团第五三研究所
类型:实用新型
国别省市:

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