一种内墙砖制造技术

本实用新型专利技术公布了一种内墙砖，其坯体上依次有面釉层、印刷层，其特征在于所述印刷层上还有抛光釉层，所述坯体的吸水率0.5%＜E≤3%，执行规范：GB/T4100.2-1999。本实用新型专利技术提供的内墙砖，具备了传统瓷片的所有优点，如易于清洁，釉面颜色丰富，且其本质坯体特性强度高于传统瓷片，抗折抗压能力更强；其表面由于多了道抛光工艺，其镜面效果和防污效果更优于一般瓷片，同时花色更牢固，经久不釉裂。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种内墙砖，尤其涉及一种坯体吸水率大于O. 5%，小于等于3%的包含面釉层、印刷层、抛光釉层的瓷砖。技术背景现行内墙砖标准，一般特指陶质内墙砖，即瓷片，其执行规范GB/T4100. 5—1999，吸水率> 10%。如图I所示其表面工艺一般为面釉+印刷，其特点是表面光滑，易于清洁，釉面颜色丰富，印刷纹理细腻。但其缺点同样存在，一般为坯体强度不够，易断裂，且传统瓷片为釉上彩，镜面效果和防污效果不佳，不易清洁，使用时间长表面容易产生釉裂。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种内墙砖，兼具传统瓷片的优点同时解决传统瓷片存在的问题。为实现上述技术目的，本技术提供如下技术方案一种内墙砖，其坯体上依次有面釉层、印刷层，其特征在于所述印刷层上还有抛光釉层，所述坯体吸水率为O. 5% < E ^ 3%，执行规范GB/T4100. 2-1999。所述印刷层可采用3D数码喷墨技术来进行印刷。本技术提供的内墙砖，具备了传统瓷片的所有优点，如易于清洁，釉面颜色丰富，且其本质坯体特性强度高于传统瓷片，抗折抗压能力更强；其表面由于多了道抛光工艺，其镜面效果和防污效果更优于一般瓷片，同时花色本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种内墙砖，其坯体上依次有面釉层、印刷层，其特征在于：所述印刷层上还有抛光釉层，所述坯体吸水率为0.5%＜？E？≤3%。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：石荣波，李小平，
申请(专利权)人：信益陶瓷中国有限公司，
类型：实用新型
国别省市：