基板支撑结构、夹持准备单元、以及光刻系统技术方案

一种借助于液体毛细管层（11），将基板（12）夹持于表面（16）上的基板支撑结构（13）。表面具有外部边缘（28），且包括用于接收待夹持的基板的一个或多个基板支撑元件（17），其中该一个或多个基板支撑元件被配置成在多个支撑位置处为基板提供支撑。基板支撑结构进一步包括密封结构（21），该密封结构包围所述表面并具有形成密封边缘的顶部表面或边缘（22、24、26）。在表面的外部边缘与最外侧支撑位置之间的距离（c）大于外部边缘与密封边缘之间的距离（d）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及将基板夹持于其表面上的基板支撑结构。
技术介绍
将基板(例如晶圆)固定于基板支撑结构(例如晶圆台)的表面上的夹持操作在半导体产业中是众所周知的，特别是在光刻系统中。在此种光刻系统中，被夹持的基板是藉由曝露至入投射光子或带电粒子(例如是离子或电子)而形成图案。夹持操作允许在基板表面的靶材部分上形成高精确度的图案。一种夹持操作的方法是藉由吸去基板与基板支撑结构之间的空气，即藉由在基板 与基板支撑结构之间产生真空作用。然而，如果被夹持的基板要在真空环境内被处理时，将无法有效使用该方法。存在用于将基板夹持于真空环境中的其他不同解决方案，例如藉由机电式夹持操作。然而，由于用于夹持操作的电场对带电粒子束的不良影响，以上解决方案并不适合用于带电粒子的光刻作用。另外ー种夹持操作的方法是藉由使用液体层来避免以上问题发生，液体层被配置成引起毛细管力，使得基板能够被夹持于基板支撑结构的表面上。一方面，液体对基板表面的附着，以及另一方面，液体对基板支撑结构的附着将生成四周延伸的液体表面，以内凹方式延伸于以上ニ表面之间。这样形形成的内凹液体表面易于维持其形状，即使在施加カ以将基板从基板支撑结构本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：HJ德扬，
申请(专利权)人：迈普尔平版印刷IP有限公司，
类型：
国别省市：