用于场致发光装置的反射阳极结构制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种场致发光装置(100)，包括：第一场致发射阴极(106)；包括荧光层(108)的阳极结构(102)；以及真空外罩，所述阳极结构(102)和所述第一场致发射阴极均设置在该真空外罩内；其中，所述阳极结构(102)被设置为当在所述阳极结构和所述第一场致发射阴极之间施加电压时接收由所述第一场致发射阴极(106)发射的电子，并且被设置为将由所述荧光层(108)产生的光从所述真空腔反射出去。本发明专利技术的优点包括功率损耗降低和以及所述场致发光装置的光输出增大。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种场致发光装置(field emission lighting arrangement)。更具体地，本专利技术涉及一种用于场致发光装置的反射阳极结构。
技术介绍
当今，采用更节能的可选产品来替代传统的灯泡逐渐成为了一种趋势。已经呈现一种在形式上类似于传统灯泡的荧光光源，其通常被称为紧凑型荧光灯(compactfluorescent lamps,简称CFLs)。众所周知,所有的突光光源均含有少量的萊，由于萊的暴露会影响健康从而带来了一些问题。此外，由于对汞的处理具有非常严格的规定，从而这种荧光光源的循环利用也变得复杂和昂贵。因此，存在提供荧光光源替代品的需求。这种替代品的一个例子在WO 2005074006 中被提出，其公开了一种不包含汞和任何其他健康有害物质的场致发光源。该场致发光源包括阳极和阴极，该阳极包括透明电导层和涂覆于圆柱形玻璃管的内表面上的荧光层。当被电子激发时，荧光体能够发光。而电子的发射是由于阳极和阴极之间具有电压而引起的。为了获得高强度的光发射，需要施加位于4-12kV之间的电压。WO 2005074006中所公开的场致发光源提供了一种有希望的途径来本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：Q·胡，
申请(专利权)人：光实验室瑞典股份公司，
类型：
国别省市：