10MM标准比色皿结构制造技术

技术编号:8190075 阅读:204 留言:0更新日期:2013-01-10 01:15
本发明专利技术提供了10MM标准比色皿结构,其使得操作过程中不易从手中滑落,确保安全,且使得上盖和比色皿本体之间密封,确保数据的准确性。其包括比色皿本体、上盖,所述上盖盖装于所述比色皿本体的內缘面,其特征在于:所述比色皿本体的通光面的上端部设置有箭头结构,所述比色皿本体的通光面的透光面为内凹的透明结构,所述比色皿本体的非通光面均布有纵向条纹凹槽,所述上盖的和所述比色皿本体的接触面设置有至少两层凹凸槽封闭结构。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及细胞培养装置的
,具体为IOMM标准比色皿结构。
技术介绍
比色皿,又名吸收池,样品池,其用来装参比液、样品液,配套在光谱分析仪器上,对物质进行定量、定性分析,广泛应用于化工、冶金、医疗,医药、食品、环保、电厂、水厂、石油等行业、部门和大专院校、科研单位测试、化验使用。现有的1(MM标准比色皿,其材质为PS环保材料,在操作的时候,比较容易从手中 滑落,造成损坏,且上盖和比色皿本体之间不密封,容易掉落杂质进去,使得数据不够准确。
技术实现思路
针对上述问题,本专利技术提供了 IOMM标准比色皿结构,其使得操作过程中不易从手中滑落,确保安全,且使得上盖和比色皿本体之间密封,确保数据的准确性。10丽标准比色皿结构,其技术方案是这样的其包括比色皿本体、上盖,所述上盖盖装于所述比色皿本体的内缘面,其特征在于所述比色皿本体的通光面的上端部设置有箭头结构,所述比色皿本体的通光面的透光面为内凹的透明结构,所述比色皿本体的非通光面均布有纵向条纹凹槽,所述上盖的和所述比色皿本体的接触面设置有至少两层凹凸槽封闭结构。使用本专利技术的结构后,由于上盖的和比色皿本体的接触面设置有至少两层凹凸槽封闭结构,其使得上盖和比色皿本体之间密封,确保数据的准确性,且由于比色皿本体的非通光面均布有纵向条纹凹槽,手持时增大了手和比色皿本体之间的摩擦力,使得操作过程中不易从手中滑落,确保安全。附图说明图I为本专利技术的立体图结构示意图。具体实施例方式见图I,其包括比色皿本体I、上盖2,上盖2盖装于比色皿本体I的内缘面,比色皿本体I的通光面3的上端部设置有箭头结构4,比色皿本体I的通光面3的透光面5为内凹的透明结构,比色皿本体I的非通光面6均布有纵向条纹凹槽7,上盖2的和比色皿本体I的接触面设置有至少两层凹凸槽封闭结构8。权利要求1.IOMM标准比色皿结构,其包括比色皿本体、上盖,所述上盖盖装于所述比色皿本体的内缘面,其特征在于所述比色皿本体的通光面的上端部设置有箭头结构,所述比色皿本体的通光面的透光面为内凹的透明结构,所述比色皿本体的非通光面均布有纵向条纹凹槽,所述上盖的和所述比色皿本体的接触面设置有至少两层凹凸槽封闭结构。全文摘要本专利技术提供了10MM标准比色皿结构,其使得操作过程中不易从手中滑落,确保安全,且使得上盖和比色皿本体之间密封,确保数据的准确性。其包括比色皿本体、上盖,所述上盖盖装于所述比色皿本体的內缘面,其特征在于所述比色皿本体的通光面的上端部设置有箭头结构,所述比色皿本体的通光面的透光面为内凹的透明结构,所述比色皿本体的非通光面均布有纵向条纹凹槽,所述上盖的和所述比色皿本体的接触面设置有至少两层凹凸槽封闭结构。文档编号G01N21/03GK102866113SQ20121036251公开日2013年1月9日 申请日期2012年9月26日 优先权日2012年9月26日专利技术者夏远富 申请人:无锡耐思生物科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
10MM标准比色皿结构,其包括比色皿本体、上盖,所述上盖盖装于所述比色皿本体的內缘面,其特征在于:所述比色皿本体的通光面的上端部设置有箭头结构,所述比色皿本体的通光面的透光面为内凹的透明结构,所述比色皿本体的非通光面均布有纵向条纹凹槽,所述上盖的和所述比色皿本体的接触面设置有至少两层凹凸槽封闭结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:夏远富
申请(专利权)人:无锡耐思生物科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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