本发明专利技术涉及一种对颗粒改性的方法，其包括具有X-[Y]n活性基团的活性化合物与二级化合物N-S-ZM反应，形成取代的活性中间体[Y]a-X-(N-S-ZM)b，并将颗粒与取代的活性中间体[Y]a-X-(N-S-ZM)b反应而将取代的活性中间体结合在颗粒表面上，形成表面改性颗粒。所述颗粒可以包括染料颗粒、无机颜料颗粒、添加剂、或其组合中的至少一种。X可以是磺酰基、磷酰基、或1，3，5-三嗪基。Y可以是卤素离去基团。N可以是亲核基团。S可以是有机基团。ZM可以是可电离端基。而且，n是1-3的整数，b是1-3的整数，以及a＝n-b。当n等于或大于b，和其中如果b是2或3，那么每个N-S-ZM可以相同或不同。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及颗粒，更特别是染料颗粒(例如，溶剂染料、分散染料、非水溶性染料、微溶性染料、或其组合)、无机颜料颗粒、和添加剂(例如，可升华UV吸收剂或可升华荧光增白剂)的表面改性，以形成自分散颗粒。本专利技术还涉及自分散颗粒的終端用途，包括但不限于，涂料、金属涂料、油漆、纸张、粘合剤、乳胶、调色剂、织物、纤维、塑料(柔性薄膜和松散材料)、化妆品和油墨。油墨的具体实例包括，但不限于，用于纸张、织物、聚酯、纤维、塑料(柔性薄膜和松散材料)、金属、金属饰品及塑料、UV固化剂、木材染料 、书写用具、毡笔、人造纤维上的升华印刷、涂布天然纤维、涂布材料、塑料、涂布硬质基材、和滤色器中的印刷油墨。終端用途的其它实例包括，但不限于，用于升华印刷、转印、直接印刷和喷墨印刷应用中的印刷油墨。
技术介绍
包含染料颗粒、无机颜料颗粒和添加剂的水性分散体可以提供若干相对于水溶性染料的优势，当其涉及的終端用途包括，但不限于，油墨、涂料、油漆、纸张、粘合剂、乳胶、调色剂、织物、纤维、木材染料、滤色器、化妆品和塑料。例如，其可以显示出比水溶性染料更高的光密度和边缘敏锐度中的至少之一。另外，显示升华性质的染料颗粒和添加剂通常仅可以作为分散体印刷。不幸的是，这些颗粒在储存期间还有沉淀的趋势，因此限制了其在苛刻的用途中的应用，如喷墨油墨。基于染料颗粒的油墨的良好稳定性难以实现。通过使用分散剂稳定(即，提供空间稳定化和/或静电稳定化)已经实现了染料颗粒在悬浮液中的稳定化，尽管エ业上可用，但是得到的结果仅具有有限的储存期。用介质磨将颗粒研磨至亚微米级，并结合用于胶体稳定性的分散剂，已经推动染料分散体用于喷墨油墨配方中。然而，分散剂可增加分散体的粘度，从而使含有分散体的油墨难以从喷墨印刷喷头的小孔中喷出。而且，分散剂可显著増加制备上述所列材料的成本，因而在经济上是不利的。分散剂通常不染料的表面共价键合，因此稳定性可能受到损害。因此，需要自分散颗粒，其可以克服至少ー些典型地与目前的终端应用相关的问题，所述终端应用包括目前的染料颗粒体系(例如，目前的基于水溶性染料的体系和目前的使用分散剂的颗粒体系)。
技术实现思路
一方面，本专利技术提供ー种对颗粒改性的方法。所述方法可包括将具有X_n活性基团的活性化合物与ニ级化合物N-S-ZM反应，形成取代的活性中间体a-X-(N-S-ZM)b,并将颗粒与取代的活性中间体 a-X- (N-S-ZM) b反应而将取代的活性中间体结合到颗粒表面上，以形成表面改性颗粒。所述颗粒可以包括染料颗粒、无机颜料颗粒、添加剂或其组合中的至少ー种。X可以是磺酰基、磷酰基、或1，3，5_三嗪基。Y可以是卤素离去基团。N可以是未核基团。S可以是有机基团。ZM可以是可电尚端基，以及n是1_3的整数,b是1-3的整数，以及a = n-b，其中n等于或大于b，和其中如果b是2或3，那么每个N-S-ZM可以相同或不同。另ー方面，本专利技术提供另ー种对颗粒改性的方法。所述方法可包括将活性化合物基团结合在颗粒的表面上。所述颗粒可以包括染料颗粒、无机颜料颗粒、添加剂或其组合中的至少ー种。而后，可以用具有可电离端基的有机底物置换活性基团。所述颗粒可选自分散蓝14、分散蓝19、分散蓝72、分散蓝334、分散蓝359、分散蓝360、分散橙25、分散黄54、分散黄64、分散红55、分散红60、Macrolex红H、分散棕27、溶剂蓝67、溶剂蓝70、溶剂红49、溶剂红146、溶剂红160、溶剂黄162、溶剂紫10、溶剂黑29、酸性黄204、酸性黄151、酸性橙60、酸性红182、酸性红357、酸性红359、酸性蓝193、酸性棕355、酸性紫90、酸性黑172、酸性黑194、酸性黑52、酸性黑60、氧化钛(IV)、氧化铁(III)、和氧化锌。另ー方面，本专利技术提供对颗粒改性的另ー个方法。所述方法可包括将活性基 团X-Y结合在颗粒表面上。所述颗粒可以包括染料颗粒、无机颜料颗粒、添加剂或其组合中的至少ー种。而后，所述方法包括用有机底物N-S-ZM置換Y，形成结合了 X-N-S-ZM的表面改性颗粒；其中X是横酸基、憐酸基、或1,3,5- ニ嗪基；Y是氟、氯、溴、或碘；N是胺、亚胺、卩比唳、或巯基；S是取代或未取代的烷基、芳基、或分子量为约300-约8000的聚合物链；Z是羧基、磺酰基、酚基、磷酰基、铵基团、三甲基铵基团、或三丁基铵基团；和M是卤素离子、负电荷离子、盐形式的质子、或盐形式的阳离子。另ー方面，本专利技术提供改性的表面，其可以包含染料颗粒、无机颜料颗粒、添加剤，或其组合，每克颗粒具有约0. I-约0. 8mMole的活性氢。另ー方面，本专利技术提供表面改性颗粒，其可以包括染料颗粒、无机颜料颗粒、添加剂或其组合中的至少ー种，每克颗粒中碱金属的总量相当于约0. I-约0. 8mMole的活性氢。另ー方面，本专利技术提供改性颗粒，其可以包括染料颗粒、无机颜料颗粒、添加剂或其组合中的至少一种；而包含(N-S-ZM)的基团与其结合，其中N是亲核基团；S是有机基团；和ZM是可电离端基。附图说明图I显示了实施例3和10中的分散蓝359和改性分散蓝359样品的低分辨率X射线光电子能谱(XPS)光谱。图2显示了实施例3和10中的分散蓝359和改性分散蓝359样品的高能分辨率Cls光谱。图3显示显示了实施例3和10中的分散蓝359和改性分散蓝359样品的高能分辨率Ols光谱。图4显示显示了实施例3和10中的分散蓝359和改性分散蓝359样品的高能分辨率Na I s光谱。图5显不了实施例5中的分散黄54和改性分散黄54样品的低分辨率X射线光电子能谱(XPS)光谱。图6显示了实施例5中的改性分散黄54样品的高能分辨率Nals光谱。图7显示了实施例7中的分散棕27和改性分散棕27样品的低分辨率X射线光电子能谱(XPS)光谱。图8显示了实施例7中的分散棕27和改性分散棕27样品的高能分辨率Nals光レ曰。图9显示了实施例8中的分散蓝72和改性分散蓝72样品的低分辨率X射线光电子能谱(XPS)光谱。图10显示了实施例8中的分散蓝72和改性分散蓝72样品的高能分辨率Nals光レ曰。 图11显示了实施例16中的溶剂红146和改性溶剂红146样品的低分辨率X射线光电子能谱(XPS)光谱。图12显示了实施例16中的溶剂红146和改性溶剂红146样品的高能分辨率Nals光谱。图12显示了实施例14中的溶剂蓝67和改性溶剂蓝67样品的低分辨率X射线光电子能谱(XPS)光谱。图14显示了实施例14中的改性溶剂蓝67样品的高能分辨率Nals光谱。图15显示了实施例17和18中的三こ氧基辛基硅烷处理的ニ氧化钛、ニ氧化钛颜料、和改性样品的低分辨率X射线光电子能谱(XPS)光谱。图16显示了实施例17和18中的改性三こ氧基辛基硅烷处理的ニ氧化钛和ニ氧化钛颜料的高能分辨率Nls光谱。图17显示了实施例17和18中的改性三こ氧基辛基硅烷处理的ニ氧化钛和ニ氧化钛颜料的高能分辨率Nals光谱。图18显示了实施例17和18中的改性三こ氧基辛基硅烷处理的ニ氧化钛、ニ氧化钛颜料、和改性样品的高能分辨率Si2p光谱。图19显示了实施例17和18中的改性三こ氧基辛基硅烷处理的ニ氧化钛、ニ氧化钛颜料、和改性样品的高能分辨率P2p光谱。图20显本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：P·K·苏吉斯，J·P·凯恩，M·布兰克，P·格鲁费尔，G·多利沃，M·里贝左，D·A·韦莱特，C·D·兰迪，R·A·拉纳德，M·乌尔里希，
申请(专利权)人：森馨颜色有限责任公司，
类型：
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。