包括耐微粒过滤器的打印头制造技术

一种打印头包括喷嘴板（49）、过滤器（100）和多个壁。喷嘴板（49）的多个部分限定多个喷嘴（50）。过滤器，例如过滤膜，包括分组为多个孔集群（120）的多个孔。多个壁的每一个从喷嘴板延伸至过滤膜，以限定多个定位在所述喷嘴板和过滤膜之间的多个液体腔（53）。所述多个液体腔的每个液体腔与所述多个喷嘴中的相应喷嘴流体连通。所述多个液体腔的每个液体腔与所述多个孔集群中的相应孔集群的多个孔流体连通。所述多个孔集群中的相应孔集群包括通过过滤膜的无孔部分（130）互相间隔的两个孔子集群（125）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术一般涉及数字控制的打印系统领域，特别是涉及由打印系统的打印头随后喷出的液体的过滤。
技术介绍
用于将信息打印到记录介质的喷墨打印机的使用存在已久。用于此目的的打印机可包括喷射连续液滴流，根据打印数据从液滴流中选择特定液滴进行打印的连续打印系统。其他打印机可包括只有在打印数据信息明确要求时才选择性形成并喷出打印液滴的按需滴落打印系统。连续打印系统通常包括打印头和喷嘴板，所述打印头包括液体供应系统，所述喷 嘴板具有由液体供应系统供料的多个喷嘴。液体供应系统以足以从每个喷嘴喷射単独的液体流的压カ将液体提供给喷嘴。在连续喷墨打印中形成液体喷射所需的来自液体供应的液压通常远大于来自按需滴落打印系统中所使用的液体供应的液压。本领域已知的不同方法已被用于生产打印系统中的各种部件。一些用于形成微机电系统(MEMS)的技术已被用于形成各种打印头部件。MEMSエ艺通常包括改进的半导体器件制造技木。各种MEMSエ艺通常将光成像技术和刻蚀技术相结合以在基板上形成各种特征。光成像技术被用于限定基板的将被优先刻蚀的区域及基板的不应被刻蚀的其他区域。MEMSエ艺可被应用于单层基板或应用于由具有不同材料本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·V·梅赫塔，A·G·洛佩斯，K·C·额，H·V·潘沙旺，
申请(专利权)人：伊斯曼柯达公司，
类型：
国别省市：