粒子束流照射装置和所述粒子束流照射装置的控制方法制造方法及图纸

技术编号:8164594 阅读:205 留言:0更新日期:2013-01-08 11:31
本发明专利技术提供一种粒子束流照射装置,其能够用简单的结构在扫描期间测量并显示剂量的二维分布,同时减少粒子束流形状的劣化。根据本发明专利技术的所述粒子束流照射装置包括:束流产生部分,其产生粒子束流;束流发射控制部分,其控制所述粒子束流的发射;束流扫描部分,其二维地扫描所述粒子束流;传感器部分,其包括多个在第一方向上平行布置的第一线电极和多个在垂直于所述第一方向的第二方向上平行布置的第二线电极;束流形状计算部分,其根据从每个所述第一线电极输出的第一信号和从每个所述第二线电极输出的第二信号计算粒子束流的重心,并且得到所述重心周围的所述粒子束流的二维束流形状;存储部分,其累积并存储所述二维束流形状;以及显示部分,其显示所述二维束流形状,作为剂量的二维分布。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:井关康塙胜词前田一尚角谷畅一古川卓司稻庭拓佐藤真二野田耕司
申请(专利权)人:株式会社东芝独立行政法人放射线医学综合研究所
类型:
国别省市:

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