光扩散率可调的软硅的制备方法技术

技术编号:8156269 阅读:164 留言:0更新日期:2013-01-06 12:51
一种光扩散率可调的软硅的制备方法,涉及新材料及复合材料技术领域,以软硅为基料,硅烷类有机物为填充物,使硅烷类有机物吸附在软硅颗粒的孔内,通过调节填充物添加的比例来调节软硅的光扩散率。本发明专利技术制备方法简单,生产的硅烷光扩散率可通过调节填充物的比例来控制,适合用作光扩散剂,产品市场竞争力强。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及新材料及复合材料
,尤其涉及一种。
技术介绍
软硅是一种新型二氧化硅粉体材料,英文名称siliesoft,是一种粒径在0. I 30微米范围内的二氧化硅粉体材料,可广泛应用于机械、日用化工、生物医药、建筑业、航空航天业、农业等领域,在声、光、电、磁及热力学等方面也呈现出奇异的特性,亦可广泛用于微电子、信息材料、涂料、橡胶、塑料、农作物种子处理剂、抛光剂、LED光扩散剂、高级耐火材料 及造纸等方面。光扩散剂是一种通过在基材中的作用,多次改变光线的传播方向多次折射,以达到LED灯光线柔和的效果。随着近年来国内LED产业的蓬勃发展,许多企业的生产技术逐步走向成熟,达到国际领先水品。但生产成本,原材料的品质等问题,一直困扰着许多LED企业和工程师们。一种好的原材料对于产品的研发和生产至关重要。在目前国内市场,光扩散剂主要依赖于国外的产品,比如以KMP-590为代表的ShinEtsu等。此类产品虽然使用效果好,但价格比较高,导致LED企业的生产成本大大提高,市场竞争力下降等一系列的诸多问题。许多企业都很希望能在中国本土找到一个可以替代KMP-590的产品做为光扩散剂使用。但苦于一直没有理想的替代品,只好以高价继续购买国外原料以保证自己产品的品质不受影响。而且现有技术中使用的光扩散剂的光扩散率都不易调节,可使用范围受到限制。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种以粒径在0. I 30微米范围内的软硅为基体,制备。本专利技术所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现一种,其特征在于以软硅为基料,硅烷类有机物为填充物,使硅烷类有机物吸附在软硅颗粒的孔内,通过调节填充物添加的比例来调节软硅的光扩散率。所述填充物与软硅的质量比为I 40%。所述软硅是一种新型二氧化硅粉体材料,粒径在0. I 30微米范围内。利用软硅的多孔性,可使硅烷类有机物填充在软硅颗粒的孔内,从而改变硅烷的光扩散率。本专利技术制备方法简单,生产的硅烷光扩散率可通过调节填充物的比例来控制,适合用作光扩散剂,产品市场竞争力强。具体实施例方式为了使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施例,进一步阐述本专利技术。实施例一一种以软硅为基料,硅油为填充物,将15份硅油添加于95份软硅中,使硅油吸附填充在软硅颗粒的孔内,以制备出具有一定光扩散率的软硅。以上显示和描述了本专利技术的基本原理、主要特征和本专利技术的优点。本行业的技术人员应该了解,本专利技术不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的仅为本专利技术的优选例,并不用来限制本专利技术,在不脱离本专利技术精神和范围的前提下,本专利技术还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本专利技术范围内。本专利技术要求保护范围由所 附的权利要求书及其等效物界定。权利要求1.一种,其特征在干以软硅为基料,硅烷类有机物为填充物,使硅烷类有机物吸附在软硅颗粒的孔内,通过调节填充物添加的比例来调节软娃的光扩散率。2.根据权利要求I所述的,其特征在于所述填充物与软硅的质量比为I 40%。3.根据权利要求I所述的,其特征在于所述软硅是ー种新型ニ氧化硅粉体材料,粒径在O. I 30微米范围内。全文摘要一种,涉及新材料及复合材料
,以软硅为基料,硅烷类有机物为填充物,使硅烷类有机物吸附在软硅颗粒的孔内,通过调节填充物添加的比例来调节软硅的光扩散率。本专利技术制备方法简单,生产的硅烷光扩散率可通过调节填充物的比例来控制,适合用作光扩散剂,产品市场竞争力强。文档编号C01B33/12GK102849747SQ20121034495公开日2013年1月2日 申请日期2012年9月18日 优先权日2012年9月18日专利技术者蒋学鑫, 王亚娟, 蒋玉楠 申请人:蚌埠鑫源石英材料有限公司本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种光扩散率可调的软硅的制备方法,其特征在于:以软硅为基料,硅烷类有机物为填充物,使硅烷类有机物吸附在软硅颗粒的孔内,通过调节填充物添加的比例来调节软硅的光扩散率。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:蒋学鑫王亚娟蒋玉楠
申请(专利权)人:蚌埠鑫源石英材料有限公司
类型:发明
国别省市:

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