光学水平仪之中心共点归纳结构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种光学水平仪之中心共点归纳结构，包含有：一具有铅直镂空部之基架，上端两侧设有沿第一水平轴线互对之枢座；一万向肘接台，设有一肘环；一摆杆，下端设有摆锤，上端经由一对手轴与上述二枢接座驳接；一水平薄光发生模块，组合在上述摆杆的上端。其指向光束的中心重迭共构于上述旋转中心共点，使系统因制动的旋转中心为同一圆心，减少变动量，为提供所发生的平面指向光束，在制动过程中，不会产生高度差，及可快速平衡指向之雷射水平仪。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

光学水平仪之中心共点归纳结构
本技术涉及一种光学水平仪之中心共点归纳结构。
技术介绍
目前一般水平仪重锤机构的水平薄状指向光和肘按装置不在一个平面内。在摆动制动过程中，指向水平的水平薄状指向光的高度会发生变化(如第I及第2图所示)。同样，在摆动制动过程中，指向垂直的垂直薄状指向光发生横向位移。这种位移致使在使用中水平面高度定位和垂直线左右定位的困难。在一般自动水平仪中，光学水平面不在万向旋转平台的旋转中心。在光学面偏离平衡位置时，其中心高度随偏角的变化而改变(如图I所示)O 请再参阅图3所示，图3为中国台湾申请专利技术第1264526号之水平仪，利用了一垂体102，垂体102的本体设有垂直及水平的激光发射单元103，上方经由不同高度呈平面垂直的肘按装置101所轴接，利用垂体102的效应可得水平角位的获得，为依据上述的设计，它的水平薄状指向光400会如同图I的偏摆形成一垂直位移。请再参阅图4所示，该图式为中国台湾专利M303366号，在肘按装置101的上端形成有激光发射单元103，该激光发射单元103由一下方的垂体102所联结，垂体102利用其自重相对地心引力效应，而使激光发射单元103可得水平激光的角位获得，该设计会如同图2的偏摆状态，垂体102经由肘按装置101的支点作用，使激光发射单元103产生高度位移变化，相同垂直薄状指向光500也跟着大幅偏摆，由于肘按装置101与激光发射单元103之间具有一半径长度，因此水平仪被制动之后所产生的角位变化会较难以达到平衡态。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种光学水平仪之中心共点归纳结构，使可达到快速平衡取得水平或垂直的作业要点。本技术是这样实现的，一种光学水平仪之中心共点归纳结构，其包含有一具有铅直镂空部之基架，上端两侧设有沿第一水平轴线互对之枢座；一万向肘接台，设有一肘环，通过中心设有水平对称之二枢孔，二枢孔分别由二枢轴各别枢接在上述之枢座，再于肘环另侧与二枢孔轴线呈90度角的平面，设有二互对的枢接座，二枢接座互对为第二水平轴线，第二水平轴线与第一水平轴线为同一水平面，并交叉出一中心共点；一摆杆，下端设有摆锤，上端经由一对手轴与上述二枢接座驳接；一水平薄光发生模块，组合在上述摆杆的上端，所形成的水平薄状指向光虚拟中心与上述中心共点为同点共构。所述的水平薄光发生模块的垂直上方，复设有一组垂直薄光发生模块，垂直薄光发生模块所发生的垂直薄状指向光，垂直重迭于上述的中心共点。所述的摆杆的上端，设有一水平基准部，提供为水平薄光发生模块或垂直薄光发生模块二者选其一组合。所述的水平薄光发生模块为利用至少一扇形光学发生器，发生水平薄状指向光。所述的垂直薄光发生模块为利用至少一扇形光学发生器，发生垂直薄状指向光。本技术在基架下方对应于摆杆所设摆锤的制动空间位置设有一组磁通封闭器，是由一组上、下互对的永磁体，其磁流线垂直通过摆锤，磁通封闭器上、下二永磁体外围由一具磁应性的软铁构成为回路，导通上下二组永磁体的外围磁通路径。所述的摆杆下方设有一摆锤，至少该摆锤为不具磁吸效应。所述的形成基架、水平薄光发生模块、垂直薄光发生模块及摆杆的材料，为不具磁吸效应。本技术在基架的腰间对向摆杆的杆身位置，设有一组限位装置，限位装置为由一拨杆与一被动杆呈对向摆杆轴心点，以剪压的方式夹定摆杆的杆身外表。本技术为提供所发生的平面指向光束，在制动过程中，不会产生高度差，及可快速平衡指向之雷射水平仪，利用万向肘接台的二轴线同平面等高位置交叉出一旋转中心 的中心共点，以及平面指向光的中心也归纳在中心共点同处，于是制动过程可快速平衡及避免指向光摆幅强烈变化。本技术所激发的指向光，具有水平及垂直指示功能。本技术的发光模块是利用含有柱面效应的雷射扇形光学发生器做为激光源，它可采等分方式共构出薄形光学平面。本技术所设的摆杆，至少其下端之摆锤为不具磁吸性，受到一闭回路的磁通封闭器所发生涡流采取制止操作。本技术为构成本式水平仪的材料，除磁通封闭器系统外，原则上为采不具磁吸效应的材料为之，如铜、铝、碳纤化合物等。本技术所设的磁通封闭器具有闭回路功能，则所使用的永磁体可采强磁者。本技术为在基架的腰部对应摆杆的腰身，设有一向摆杆3的中央剪压的限位装置，设有一拨杆及一被动杆，二者以拨动其一的方式而改变交剪角度，方便整收。本技术是提供一种光学水平仪，系统内的旋转为依据同一中心共点为中心，经由归纳中心共点的设计，使指向的光束可快速达到平衡。本专利中的光学平面通过中心共点旋转中心，水平薄状指向光的水平面中心的高度与其在平衡位置的高度一致，从而简化了水平仪的高度调节，本技术保持水平薄状指向光的高度以及垂直薄状指向光的在制动过程中没有位移。另，一般的半导体激光器含有铁磁元件，一般用重锤切割敞开的永磁体产生的磁力线以产生涡流而达到制动的目的，在用强永磁体制动，以加快停摆速度时，悬于重锤的激光器会受敞开的磁力线作用而降低精度，这种误差随摆角增大而更为显著。本技术在使用强磁体时，能在大摆角情况下人能保持测量精度。附图说明图I为传统在摆垂下端设有激光发射单元的偏摆动作示意图。图2为习用在垂体的上端经由肘按装置设有激光发射单元产生偏摆的示意图。图3为中国台湾专利1246526的水平仪示意图。图4为中国台湾专利M303366水平仪的侧视图。图5为本技术发生水平薄状指向光和垂直薄状指向光的外观示意图。图6为本技术内部机械元件之基础基架示意图。图7为本技术之水平薄光发生模块和垂直薄光发生模块结合扇形光学发生器之后，产生水平薄状指向光或垂直薄状指向光的示意图。图8为本技术的水平薄光发生模块或垂直薄光发生模块组合在基架上端的基础够成不意图。图9为本技术自动效果的侧视示意图。图10为本技术摆杆所设的摆锤受一磁通封闭器自动的原理示意图。 图11为本技术在基架设有一限位装置以形成机械加压摆杆的示意图。主要元件符号说明 基架I镂空部10水平仪100肘按装置101垂体102激光发射单元103 底盘104辅助架105托柱11 枢座110脚柱12壳体13 罩体14窗口 140连接柱15万向肘接台2肘环20第一水平轴线201 第二水平轴线202 枢轴21枢接座22摆杆3摆锤30水平基准部300对手轴31中心共点P水平薄光发生模块4扇形光学发生器40水平薄状指向光400暗区401座体41垂直薄光发生模块5扇形光学发生器50 联结座51垂直薄状指向光500磁通封闭器6 回路60永磁体61、62 限位装置7 拨杆71被动杆7具体实施方式有关本技术的工作原理及构件组成，请参阅图式说明如下首先请参阅图5所示，本技术之水平仪100为可发生水平薄状指向光400或同时发生垂直薄状指向光500的雷射光学水平指向仪器，它是有一罩体14，上端发生水平薄状指向光400与垂直薄状指向光500，水平薄状指向光400与垂直薄状指向光500是从壳体13上端内部所设的水平薄光发生模块4及垂直薄光发生模块5所发生，其光学路径为穿经罩体14的窗口 140，罩体14的水平辐向、等分设有多数的窗口 140，在水平薄状指向光400的路径上分别越过形成窗口 140的连接柱15本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学水平仪之中心共点归纳结构，其特征在于它包含有：一具有铅直镂空部之基架，上端两侧设有沿第一水平轴线互对之枢座；一万向肘接台，设有一肘环，通过中心设有水平对称之二枢孔，二枢孔分别由二枢轴各别枢接在上述之枢座，再于肘环另侧与二枢孔轴线呈90度角的平面，设有二互对的枢接座，二枢接座互对为第二水平轴线，第二水平轴线与第一水平轴线为同一水平面，并交叉出一中心共点；一摆杆，下端设有摆锤，上端经由一对手轴与上述二枢接座驳接；一水平薄光发生模块，组合在上述摆杆的上端，所形成的水平薄状指向光虚拟中心与上述中心共点为同点共构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：彭克欧，
申请(专利权)人：彭克欧，绍兴欧广机电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：