高比容铝电极箔制造技术

技术编号:8122862 阅读:157 留言:0更新日期:2012-12-22 13:17
本实用新型专利技术涉及一种高比容铝电极箔,铝电极箔为三层结构,下层为铝箔,中间层为溶胶,下层为金属氧化膜。采用三层结构,使电极箔的比容提高10%。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电解电容材料
,特别是一种高比容铝电极箔
技术介绍
在铝电解电容器中,核心部分为阳极箔,其品质直接影响电容器的性能,提高比容和缩小电容器的体积是电容器铝箔发展的主要问题。根据电容器容量公式可知,提高铝电极箔比容有三种技术途径,工业中一般采用扩大铝箔表面积的方法提高其比容,但是铝电极箔的表面不能无限扩大,目前电蚀扩面倍率的发展速度已相当缓慢,通过扩大表面积来提高铝阳极箔的比容已陷入了瓶颈阶段。因此,现有的铝电极箔比容小,无法满足需要使用大电容的设备
技术实现思路
本技术的目的是为了解决上述技术问题,提供一种高比容铝电极箔,以期实现在不扩大电极箔表面积的条件下,提高电解电容的比容。本技术采取的技术方案是一种高比容铝电极箔,其特征是,所述铝电极箔为三层结构,下层为铝箔,中间层为溶胶,上层为金属氧化膜。进一步,所述金属氧化膜为钛氧化物。进一步,所述金属氧化膜为钽氧化物。进一步,所述电极箔的比容值为2. 5X l(T6F/cm2至3 X l(T6F/cm2。本技术的有益效果是采用三层结构,使电极箔的比容提高10%。附图说明附图I是本技术的结构示意图。具体实施方式以下结合附图对本技术高比容铝电极箔的具体实施方式作详细说明。参见附图I,铝电极箔I是三层结构,最下层是铝箔层2,中间层是溶胶层3,最上层是金属氧化层4。金属氧化层4可选用钛氧化物二氧化钛或钽氧化物五氧化二钽。铝电极箔通过溶胶和电沉积技术在生产线上制备,首先将铝箔经过溶胶浸溃处理,在铝箔上生成溶胶层,然后在含碘的丙酮溶液中采用脉冲电沉积方法,在溶胶上形成一层金属膜,再进行阳极氧化生成氧化膜。本技术的采用三层结构,使电极箔的比容提高10%,电极箔的比容值为可达2. 5X l(T6F/cm2 至 3X l(T6F/cm2。以上所述仅是本技术的优选实施方式,应当指出,对于本
的普通技术人员,在不脱离本实 用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种高比容铝电极箔,其特征在于:所述铝电极箔为三层结构,下层为铝箔,中间层为溶胶,上层为金属氧化膜。

【技术特征摘要】
1.一种高比容铝电极箔,其特征在于所述铝电极箔为三层结构,下层为铝箔,中间层为溶胶,上层为金属氧化膜。2.根据权利要求I所述的高比容铝电极箔,其特征在于所述金属氧化膜为钛氧化物。3.根据权利要求I所...

【专利技术属性】
技术研发人员:周锋
申请(专利权)人:常州金鼎电器有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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