多光束阵列光诱导反射率成像装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种多光束阵列光诱导反射率成像装置，包括泵浦光源、探测光源、衍射分光装置、阵列光调制器、分色镜、光学透镜、偏振分光元件、光学滤光片和光电探测器。本实用新型专利技术通过泵浦光诱导探测光的反射率变化进行反射率成像，且在成像速度上比传统的对样品逐点扫描方法可以有很大提高；同时由于无需进行逐点扫描，具体检测及成像仪器设计可以避免使用移动部件，有利于提高仪器的稳定性、降低成本、进一步小型化以及拓宽应用领域。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及多光束阵列光诱导反射率成像领域，具体是ー种利用衍射分光装置分光的ニ维光诱导反射率成像装置。
技术介绍
光诱导反射率成像是ー种比较灵敏的非接触式光学測量方法。其基本原理是基于材料在光(以下称泵浦光)的作用下会发生反射率变化。这种反射率变化在多数情况下是因为材料吸收泵浦光能量而导致局部温度升高引起的，其物理过程可以用公式简化表达为AR = -AT(I) dR其中，极是材料表面反射率的变化，是材料反射率温度系数，マ是材料吸收泵浦光能量而导致的温度变化。由式中可以看出，在泵浦光特性确定的情况下，光诱导反射率的变化决定于被测材料的物理特性，特别是光吸收和热物性。对半导体材料而言，光诱导反射率的变化更为复杂ー些，它是光热信号和光致载流子密度变化结果的叠加，其物理过程可以简化描述如下= ャヒhN (2) 3T dN其中，是材料反射率载流子密度系数，Αμ是材料吸收泵浦光能量而导致的载 3NhN流子密度变化。实际应用中泵浦光通常是被调制的。泵浦光辐照样品表面而引起温度或载流子密度变化并导致样品反射率发生变化，而反射率的变化通常由另一束较弱的光(探測光)来进行探測。泵浦光和探測光同时聚本文档来自技高网...

【技术保护点】
多光束阵列光诱导反射率成像装置，包括泵浦光源、探测光源、光电探测器、与泵浦光源和探测光源对应的样品台，其特征在于：从泵浦光源至样品台之间依次设置有泵浦光衍射分光装置、阵列调制器、分色镜和聚焦成像透镜；从探测光源至样品台之间依次设置有探测光衍射分光装置、偏振分光镜、四分之一波片、所述的分色镜和所述的聚焦成像透镜；所述的光电探测器设置于偏振分光镜的后端，从所述的偏振分光镜至光电探测器之间设置有探测光聚焦透镜和探测光滤光装置。

【技术特征摘要】
1.多光束阵列光诱导反射率成像装置，包括泵浦光源、探测光源、光电探测器、与泵浦光源和探测光源对应的样品台，其特征在于从泵浦光源至样品台之间依次设置有泵浦光衍射分光装置、阵列调制器、分色镜和聚焦成像透镜；从探测光源至样品台之间依次设置有探测光衍射分光装置、偏振分光镜、四分之一波片、所述的分色镜和所述的聚焦成像透镜；所述的光电探测器设置于偏振分光镜的后端...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴周令，陈坚，
申请(专利权)人：吴周令，
类型：实用新型
国别省市：