光学叠堆制造技术

本发明专利技术公开了光学叠堆。所述光学叠堆包括光重新定向膜，所述光重新定向膜包括具有多个单元分立结构的第一结构化主表面。所述光学叠堆还包括设置在所述导光膜上的光学粘合剂层。所述多个单元分立结构中的至少一些单元分立结构的至少多个部分穿入所述光学粘合剂层。所述多个单元分立结构中的至少一些单元分立结构的至少多个部分未穿入所述光学粘合剂层。所述光重新定向膜和所述光学粘合剂层之间的剥离强度大于约30克/英寸。所述光学叠堆的平均有效透射率不小于具有相同构造但不同的是单元分立结构均未穿入所述光学粘合剂层的光学叠堆的平均有效透射率或小于程度不超过约10%。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术整体涉及光学叠堆以及包括所述光学叠堆的显示器。具体地讲，本专利技术涉及具有减小的厚度和高剥离强度且未损耗或极小损耗光学特性的光学叠堆。
技术介绍
平板显示器，例如装有液晶面板的显示器，通常包括一个或多个导光膜以增强沿 预定观看方向的显示亮度。这类导光膜通常包括具有棱柱横截型面的多个线形微结构。在某些应用中仅使用单张棱柱膜，而在另一些应用中则会使用两张交叉的棱柱膜，在后者情况下，两张交叉的棱柱膜经常定向为相互正交。
技术实现思路
—般来讲，本专利技术涉及光学叠堆。在一个实施例中，光学叠堆包括光重新定向膜，所述光重新定向膜包括具有多个单元分立结构的第一结构化主表面。光学叠堆还包括设置在导光膜上的光学粘合剂层。多个单元分立结构中的至少一些单元分立结构的至少多个部分穿入光学粘合剂层。多个单元分立结构中的至少一些单元分立结构的至少多个部分未穿入光学粘合剂层。光重新定向膜和光学粘合剂层之间的剥离强度大于约30克/英寸。所述光学叠堆与具有相同构造但不同的是单元分立结构均未穿入光学粘合剂层的光学叠堆相比具有不小于或小于程度不超过约10%的平均有效透射率。在一些情况下，所述光学叠堆与具有相同构造但不同的是单元分立结构均未穿入光学粘合剂层的光学叠堆具有不小于或小于程度不超过约8%、约6%、或约4%的平均有效透射率。在一些情况下，光学叠堆包括直接粘合至光学粘合剂层的基底。在一些情况下，光学叠堆包括另一个导光膜，所述另一个导光膜粘合至光学粘合剂层并且包括多个线形棱柱结构。在一些情况下，光学叠堆包括反射偏振层。在一些情况下，光重新定向膜和光学粘合剂层之间的剥离强度大于约40克/英寸、或约50克/英寸、或约60克/英寸。在一些情况下，照射系统包括发射光的光源和接收所发射光的光学叠堆。在一些情况下，导光膜设置在光学膜和光源之间。在一些情况下，光学膜设置在导光膜和光源之间。在一些情况下，多个单元分立结构中的至少一些单元分立结构中的每一个包括主要用于导光的导光部并且包括多个侧小面，其中各个侧小面与导光膜的法线成大于约40度的角度。各个单元分立结构还包括粘合部，所述粘合部主要用于至少部分地穿入光学粘合剂层并且包括具有最小尺寸的基面。粘合部还具有最大高度。最大高度相对最小尺寸的比率为至少约I. 5。在另一个实施例中，光学叠堆包括具有多个单元分立结构的导光膜和设置在导光膜上以用于将导光膜粘合至表面的光学粘合剂层。各个单元分立结构有多个部分穿入光学粘合剂层并且各个单元分立结构有多个部分未穿入光学粘合剂层。各个单元分立结构限定穿入深度和穿入基面，所述穿入基面位于单元分立结构的穿入部分和未穿入部分之间的界面处。穿入基面具有最小穿入基面尺寸。多个单元分立结构具有平均穿入深度和平均最小穿入基面尺寸。平均穿入深度相对平均最小穿入基面尺寸的比率为至少I. 5。导光膜和表面之间的剥离强度大于约30克/英寸。在一些情况下，光学叠堆包括位于光学粘合剂层和导光膜之间的多个空隙。在一些情况下，各个单元分立结构包括主要用于导光的导光部和主要用于将导光膜粘合至表面的粘合部。各个单元分立结构的粘合部的至少多个部分穿入光学粘合剂层。各个单元分立结构的导光部的至少多个部分未穿入光学粘合剂层。在一些情况下，平均穿入深度相对平均最小穿入基面尺寸的比率为至少2、或至少3、或至少4、或至少5、或至少7、或至少10。在一些情况下，导光膜和表面之间的剥离强度大于约40克/英寸、或约60克/英寸、或约80克/英寸。在一些情况下，平均最小穿入基面尺寸小于约10微米、或约7微米、或约5微米、或约4微米、或约3微米。在一些情况下，各个单元分立结构具有基面和最小基面尺寸。多个单元分立结构 具有平均最小基面尺寸。平均最小穿入基面尺寸小于平均最小基面尺寸的约10%。在一些情况下，平均最小穿入基面尺寸小于平均最小基面尺寸的约8%、或约6%、或约5%、或约4%、或约3%。在另一个实施例中，光学叠堆包括具有第一多个单元分立结构的导光膜和设置在导光膜上的光学层。第一多个单元分立结构中的每一个单元分立结构有多个部分穿入光学层，并且第一多个单元分立结构中的每一个单元分立结构有多个部分未穿入光学层。第一多个单元分立结构中的每一个单元分立结构均限定穿入深度和穿入基面，所述穿入基面位于单元分立结构的穿入部分和未穿入部分之间的界面处。穿入基面具有最小穿入基面尺寸。第一多个单元分立结构具有平均穿入深度和平均最小穿入基面尺寸。平均穿入深度相对平均最小穿入基面尺寸的比率为至少I. 5。导光膜和光学层之间的剥离强度大于约30克/英寸。在一些情况下，光学层为压敏粘合剂或结构粘合剂。在一些情况下，光学层为光导，所述光导包括用于提取在该光导内通过全内反射传播的光的装置。在一些情况下，光学层包括大于光学叠堆的最大工作温度的玻璃化转变温度。在一些情况下，导光膜包括第二多个单元分立结构，其中第二多个单元分立结构中的至少一个单元分立结构未穿入光学层。在一些情况下，第二多个分立结构中的单元分立结构短于第一多个分立结构中的单元分立结构。附图说明结合附图对本专利技术的各种实施例所做的以下详细描述将有利于更完整地理解和体会本专利技术，其中图I为一种导光膜的不意性侧视图；图2为复合结构的示意性侧视图；图3为一种单元分立结构的示意性三维视图；图4为另一种单元分立结构的示意性三维视图5为部分穿入光学层的单元分立结构的示意性侧视图；图6为一种导光膜的不意性三维视图；图7为另一种导光膜的不意性三维视图；图8A-8E为不同结构的基面的示意性俯视图；图9为一种单元分立结构的示意性三维视图；图10为另一种单元分立结构的示意性三维视图；图11为另一种单元分立结构的示意性三维视图；图12为另一种单元分立结构的示意性三维视图； 图13为另一种单元分立结构的示意性三维视图；图14为另一种单元分立结构的示意性三维视图；图15为一种导光膜的不意性侧视图；图16为另一种导光膜的示意性侧视图；图17为另一种导光膜的示意性侧视图；图18为另一种导光膜的示意性侧视图；图19为一种显示系统的示意性侧视图；图20为一种光学叠堆的示意性侧视图；图21为一种导光膜的示意性三维视图；图22为一种显示系统的示意性侧视图；图23为一种导光膜的示意性侧视图；图24为另一种导光膜的示意性侧视图；图25为一种单元分立结构的示意性三维视图；图26为另一种单元分立结构的示意性三维视图；图27为另一种单元分立结构的示意性三维视图；图28为另一种单元分立结构的示意性三维视图；图29为一种光学叠堆的示意性侧视图；图30为另一个光学叠堆的示意性侧视图；图31为一种显示系统的示意性侧视图；图32为另一种显不系统的不意性侧视图；图33为一种导光膜的不意性侧视图；图34为一种光学叠堆的示意性侧视图；图35为一种单元分立结构的示意性三维视图；图36为另一种单元分立结构的示意性三维视图；图37为光学系统的示意性侧视图；图38为切削工具的示意性三维视图；图39为一种导光膜的不意性侧视图；图40为基底的示意性侧视图；图41为一种导光膜的示意性侧视图；图42为反射偏振片的示意性侧视图；图43为一种导光膜的不意性侧视图44为另一种导光膜的示意性侧视图；图45为切削工具的示例性SEM图；图46为部分穿入光学层的单元分立结构的示例性S本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.04.12 US 61/323,128;2010.04.12 US 61/323,163;1.一种光学叠堆，包括 光重新定向膜，所述光重新定向膜包括具有多个单元分立结构的第一结构化主表面；和 光学粘合剂层，所述光学粘合剂层设置在所述导光膜上，所述多个单元分立结构中的至少一些单元分立结构的至少多个部分穿入所述光学粘合剂层，所述多个单元分立结构中的至少一些单元分立结构的至少多个部分未穿入所述光学粘合剂层，所述光重新定向膜和所述光学粘合剂层之间的剥离强度大于约30克/英寸，所述光学叠堆的平均有效透射率不小于具有相同构造但不同的是单元分立结构均未穿入光学粘合剂层的光学叠堆的平均有效透射率或小于程度不超过约4%。2.根据权利要求I所述的光学叠堆，其中所述多个单元分立结构中的至少一些单元分立结构中的每一个包括 导光部，所述导光部主要用于导光并且包括多个侧小面，各个侧小面与所述导光膜的法线成大于约40度的角度；和 粘合部，所述粘合部主要用于至少部分地穿入所述光学粘合剂层并且包括 具有最小尺寸的基面；和 最大高度，所述最大高度相对所述最小尺寸的比率为至少约I. 5。3.一种光学叠堆，包括 导光膜，所述导光膜具有多个单元分立结构；和 光学粘合剂层，所述光学粘合剂层设置在所述导光膜上以用于将所述导光膜粘附至表面，各个所述单元分立结构有多个部分穿入所述光学粘合剂层，各个所述单元分立结构有多个部分未穿入所述光学粘合剂层，各个所述单元分立结构限定穿入深度和穿入基面，所述穿入基面位于所述单元分立结构的穿入部分和非穿入部分之间的界面处，所述穿入基面具有最小穿入基面尺寸，所述多个单元分立结构具有平均穿入深度和平均最小穿入基面尺寸，所述平均穿入深度相对所述平均最小穿入基面尺寸...

【专利技术属性】
技术研发人员：加里·T·博伊德，威廉·F·埃德蒙兹，维维安·W·琼斯，基思·M·科奇克，特里·D·彭，约翰·F·范德洛弗斯科三世，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
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