【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及。
技术介绍
在半导体制备エ艺中，エ件台的定位需要测量エ件台相对于主基板的位置。现有技术中，光刻机エ件台/掩模台的位置測量系统采用激光干渉仪系统，但激光干涉仪是一个增量測量系统，只能提供相对位移的精确测量。在利用激光干涉仪进行位置測量之前，需要绝对參考位置即零位来初始化激光干涉仪。零位传感器作为光刻机的核心部件之一，用于测量零位，进而向激光干涉仪提供初始化偏置。零位传感器用于两自由度的精密调节定位，调节过程通过零位传感器内的两个关键部件激光准直镜与ニ维光电位移传感器(PSD)完成，在调节结束后进行锁紧以牢固定 位。请參阅申请号为CN201010530550. 6的中国专利申请，该专利申请公开了ー种零位传感器，所述零位传感器包括基座、PSD、调节板和激光准直镜。PSD是ー种高灵敏度光电测距器件，安装在所述零位传感器中。基座与所述PSD组成一体，同时提供安装接ロ和容纳大部分零件，调节板与所述激光准直镜连为一体。当调节板上的滑块在基座的滑面上滑动时，就会带动激光准直镜与PSD产生相对运动，通过接收固定在エ件台上的角锥镜反射的測量光束，确定测量光束光斑在P...
【技术保护点】
一种零位传感器的调节定位装置，其特征在于，包括底座，所述底座包括凸台；XY位移平台，所述XY位移平台包括底层、顶层以及贯穿所述底层、顶层的通孔，所述XY位移平台的底层固定于所述底座；转接板，所述转接板包括通孔，所述转接板的一侧固定于所述XY位移平台的顶层，所述转接板的另一侧与所述零位传感器的基座固定连接；所述凸台依次穿过所述XY位移平台的通孔和所述转接板的通孔，与所述零位传感器的调节板固定连接；所述零位传感器的调节板和基座之间的位移随所述XY位移平台的底层和顶层之间的位移而调整。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王凯，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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