【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ー种光源系统，特别是ー种光刻曝光机的多灯光源系统。
技术介绍
照明系统是平行光刻曝光机的的关键部件之一，在曝光能量源的选择上，其他公司都是采用单灯光源。单灯价格较昂贵，一旦发生故障，维修费用较高。此外，单灯系统发光強度不可调节，而且随着使用时间的増加，光强明显衰弱。因此，单灯系统有效寿命短，使用成本较高。
技术实现思路
·专利技术目的针对现有技术的不足，本专利技术公开了ー种维修简单，可调节光强的成本低廉的多灯光源系统。技术方案本专利技术公开了ー种光刻曝光机的多灯光源系统，包括支架，阵列排布在支架上的ー组超高压汞灯。其中，所述支架为反碗状支架。其中，所述ー组超高压汞灯至少为4个。其中，其特征是，所述超高压汞灯的轴线汇聚于支架的球心处，形成单灯的照射效果。所述超高压汞灯采用的都是江苏森莱浦光电科技有限公司生产的P20型超超高压汞灯，其灯杯为抛物线反射面，理论上可将大部分光线平行投射到前方。当发现灯泡光强衰减至出厂值的60%_80%吋，电路监控发现情況，此时可以启动未使用的灯泡补偿能量损失而不影响整个光源系统工作。与单灯系统相比，能大大提高光源的使用寿命，降低成本。此外，多灯系统还能够通过控制点亮灯的数量来调节总体光強。这ー优点是单灯系统无法实现的。光刻曝光机的多灯光源系统的核心技术是将若干超超高压汞灯成矩阵分列在球面上，各灯的轴线汇聚于球心，形成单灯的照射效果。有益效果本专利技术公开的光刻曝光机的多灯光源系统，结构简单，成本低廉，维修方便，能够调节光強。附图说明附图I为多灯光源系统的结构示意图；附图2为超闻压萊灯的结构不意图；附图3为支架的结构示意...
【技术保护点】
一种光刻曝光机的多灯光源系统，其特征是，包括支架（1），阵列排布在支架（1）上的一组超高压汞灯（2）。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王政，沈立，周予滨，周全，周力，张梦杰，汤吉，陈川，
申请(专利权)人：无锡欧米光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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