本发明专利技术提供一种显示装置，其具有多个像素，该多个像素具有：形成为板状的光闸板(SH)和促动部(AC)，其特征在于，促动部(AC)具有：与光闸板(SH)连接的梁部(B)；通过施加电压而使梁部(B)弯曲并驱动光闸板(SH)的驱动电极(E)；支承驱动电极(E)并固定在基板(B1)上的第一支承部(S1)；和支承梁部(B)并固定在基板上的第二支承部，第一支承部(S1)以及第二支承部的至少一方具有：从基板离开的平面部分(Sp)；和以从平面部分(Sp)凹陷的方式形成，且与基板连接的凹部(Sc)，凹部(Sc)具有：从平面部分大致垂直地倾斜形成的垂直形成部分(Sv)；和从垂直形成部分(Sv)开始，以随着向基板(B1)侧前进而倾斜变缓的方式形成的部分(Sg)。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种显示装置。
技术介绍
公知有一种显示器，该显示器在显示装置的各个像素中配置有基于MEMS(Micix)Electro Mechanical Systems、微机电系统)的光闸(快门)，并通过光闸的开闭来形成图像。作为这种显示装置，例如，在日本特开2008-197668号公报中公开了一种显示器，该显示器使用以MEMS为基础的机械式光调制器并带有背光源。另外，在日本特表2008-533510号公报中也公开了一种内装有以MEMS为基础的光调制器的显示器装置，并且该显示器装置的制造方法记载了与液晶显示器的制造工艺具有互换性的意思。在此，在于多个像素中具有作为光调制器的光闸组装体的显示装置中，光闸组装体由形成为板状的光闸板和通过静电力而对光闸板进行驱动的促动部(actuator)构成。由于需要使光闸板在基板上以能够移动的方式浮置，所以，作为制造光闸组装体的工艺，例如，考虑有利用牺牲层并通过光刻(lithography)工序进行加工的工艺。图8A 图8H是表示被考虑为利用牺牲层来制造光闸组装体的方法的一个参考例的图。在参考例的制造工序中，首先，如图8A以及图8B所不,通过两次光刻工序而形成有成为牺牲层的抗蚀膜(resist) RSa和抗蚀膜RSb ;接着，如图8C所示，成膜导体层AS和金属层AL。之后，经过进一步的光刻工序，而如图8D所示地加工出涂敷在金属层AL上的抗蚀膜RSc,进一步地,通过湿式蚀刻(wet etching)使金属层AL被除去(图8E),并通过各向异性干式蚀刻(dry etching)以使形成于抗蚀膜RSb的侧壁上的部分被除去的方式使导体层AS被除去(图8F)。而且，在该各向异性干式蚀刻过程中，使抗蚀膜RSa和抗蚀膜RSb被除去(图8G)，并且在剩余结构的整体上成膜绝缘层IS，形成第一支承部S I和光闸板SH等(图8H)。因此，在上述参考例中，如图8H的第一支承部S I所示，通过不同的光刻工序形成有以未浮置在基板上的方式而形成的结构的下侧部分和上侧部分。但是，当如图8A 图8H所示地制造光闸组装体时，以在不同的光刻工序之间可能产生的对位偏移为原因，而存在产生膜应力的不平均性，且在光闸组装体上发生变形的情况。
技术实现思路
本专利技术着眼于上述课题，以提供一种在具有以MEMS为基础的光闸组装体的显示装置上，能够抑制光闸组装体变形的发生的显示装置为目的。为了解决上述课题，本专利技术的显示装置具有多个像素，该多个像素具有形成为板状的光闸板；和通过静电力驱动所述光闸板的促动部，其特征在于，所述促动部具有与所述光闸板连接的梁部；通过施加电压而使所述梁部弯曲从而驱动所述光闸板的驱动电极；支承所述驱动电极并固定在基板上的第一支承部；和支承所述梁部并固定在所述基板上的第二支承部，所述第一支承部以及所述第二支承部的至少一方具有以从所述基板离开的方式形成为平面状的平面部分、和以从所述平面部分凹陷的方式形成，且与所述基板连接的凹部，所述凹部具有从所述平面部分大致垂直地倾斜形成的垂直形成部分；和从所述垂直形成部分开始，以随着向所述基板侧前进而使倾斜变缓的方式形成的部分。另外，在本专利技术的显示装置的其他方式中，还可以是，其特征在于，所述驱动电极以及所述梁部以所述平面部分为基准而在所述基板侧形成。另外，在本专利技术的显示装置的其他方式中，还可以是，其特征在于，所述驱动电极以及所述梁部通过与宽度方向相比在深度方向上较大的纵横尺寸比而形成。另外，在本专利技术的显示装置的其他方式中，还可以是，其特征在于，所述第一支承部具有所述凹部，所述驱动电极从俯视来看，以通过具有所述纵横尺寸比的结构形成外延，且内侧为中空的方式形成。 另外，在本专利技术的显示装置的其他方式中，还可以是，其特征在于，所述驱动电极以及所述梁部形成在比所述光闸板更深的位置上。另外，在本专利技术的显示装置的其他方式中，还可以是，其特征在于，所述驱动电极以及所述梁部的所述基板侧的前端尖细地形成。根据本专利技术，能够提供一种能够抑制光闸组装体上的变形的发生的显示装置。附图说明图I是概略性地表示本专利技术的第一实施方式的显示装置的示意图。图2是表示第一实施方式的第一基板的等效电路的图。图3A是表示第一实施方式的显示装置中的像素区域的情况的俯视图。图3B是表示第一实施方式的显示装置中的像素区域的情况的俯视图。图4是表示图3A中的IV-IV截面的剖视图。图5A是表示制造第一实施方式中的光闸组装体的情况的图。图5B是表示制造第一实施方式中的光闸组装体的情况的图。图5C是表示制造第一实施方式中的光闸组装体的情况的图。图是表示制造第一实施方式中的光闸组装体的情况的图。图5E是表示制造第一实施方式中的光闸组装体的情况的图。图5F是表示制造第一实施方式中的光闸组装体的情况的图。图5G是表示制造第一实施方式中的光闸组装体的情况的图。图5H是表示制造第一实施方式中的光闸组装体的情况的图。图6是表示第二实施方式中的光闸组装体M的截面的情况的图。图7A是表示制造第二实施方式中的光闸组装体的情况的图。图7B是表示制造第二实施方式中的光闸组装体的情况的图。图7C是表示制造第二实施方式中的光闸组装体的情况的图。图8A是表示制造参考例中的光闸组装体的情况的图。图8B是表示制造参考例中的光闸组装体的情况的图。图8C是表示制造参考例中的光闸组装体的情况的图。图8D是表示制造参考例中的光闸组装体的情况的图。图8E是表示制造参考例中的光闸组装体的情况的图。图8F是表示制造参考例中的光闸组装体的情况的图。图8G是表示制造参考例中的光闸组装体的情况的图。图8H是表示制造参考例中的光闸组装体的情况的图。附图标记说明 DP 显示装置，M 光闸组装体，PX1、PX2、PX3、PX4、PX 像素，AP 孔(aperture)，GL 扫描信号线，DL影像信号线，DLl第一影像信号线，DL2第二影像信号线，CL公共信号线，IM图像，T1、T2薄膜晶体管，C1、C2电容，SH光闸板，AC促动部，SI第一支承部，S2第二支承部，B梁部，E驱动电极，GR晶格部分，OP开口，BI第一基板，AS导体层，IS绝缘层，AL金属层，Sp平面部分，Sc凹部，Sv垂直形成部分，Sg倾斜部分，RSI、RS2、RSa, RSb, RSc抗蚀膜。具体实施例方式以下，参照附图对本专利技术的各个实施方式进行说明。图I是本专利技术的第一实施方式的显示装置DP的示意图。显示装置DP在配置成矩阵状的多个像素的各自上都具有作为光调制器的光闸组装体M。在图I的示意图中，像素PXl以及PX4为打开状态且能够使来自孔AP的背光源BL的光透过，在图像頂上显示白色。另外，像素PX2以及PX3为闭合状态且阻挡背光源BL的光透过，在图像頂上显示黑色。另外，显示装置DP包括在多个像素的各自上都具有开关元件的第一基板和与第一基板相对配置的第二基板。光闸组装体M配置在第一基板和第二基板之间。图2是表示本实施方式中的第一基板的等效电路的图。如该图所示，多条扫描信号线GL以及公共信号线CL沿着图中横向延伸，而且，多条第一影像信号线DL I以及第二影像信号线DL2沿着图中纵向延伸。另外，各像素PX以包括两个薄膜晶体管T1、T2和两个电容器Cl、C2的方式构成。薄膜晶体管Tl的栅极(gate)与扫描信号线G本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种显示装置，其具有多个像素，该多个像素具有：形成为板状的光闸板；和通过静电力驱动所述光闸板的促动部，其特征在于，所述促动部具有：与所述光闸板连接的梁部；通过施加电压而使所述梁部弯曲从而驱动所述光闸板的驱动电极；支承所述驱动电极并固定在基板上的第一支承部；和支承所述梁部并固定在所述基板上的第二支承部，所述第一支承部以及所述第二支承部的至少一方具有：以从所述基板离开的方式形成为平面状的平面部分；和以从所述平面部分凹陷的方式形成，且与所述基板连接的凹部，所述凹部具有：从所述平面部分大致垂直地倾斜形成的垂直形成部分；和从所述垂直形成部分开始，以随着向所述基板侧前进而使倾斜变缓的方式形成的部分。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：木村泰一，藤吉纯，栗谷川武，园田大介，
申请(专利权)人：株式会社日本显示器东，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。