利用有限空间等离子体氧化制备双向化学梯度表面的方法技术

技术编号:8045066 阅读:198 留言:0更新日期:2012-12-06 01:14
利用有限空间等离子体氧化制备双向化学梯度表面的方法,涉及一种制备双向化学梯度表面的方法。本发明专利技术包括如下步骤:1)基底在醇溶液中超声,氮气吹干,并用超纯水清洗,最后浸泡在Piranha溶液中;2)将清洗好待用的基底浸泡到烷基/氨基硅烷的甲苯溶液中或硫醇的乙醇溶液中;3)在制备好的自组装膜基底上方放置屋脊型的载玻片,然后置于等离子体清洗机中,得到不同深度的双向化学梯度。该方法具有操作简单,反映速度快,效果好,化学梯度的深度可控,制备的梯度材料大小可控,成本低,适用范围广等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种制备双向化学梯度表面的方法。
技术介绍
化学梯度表面是指表面化学成分沿某一方向呈现梯度变化的表面。目前国内外的很多科学家都在研究基底上制备化学梯度的方法,包括电子束氧化方法、电化学脱附法、激光扫描氧化法、紫外氧化法和微接触印刷法等。然而,上述方法要么是依赖于昂贵的光刻仪器,要么只能用于烷基硫醇自组装膜的化学梯度材料的制备,另外双向梯度的制备还鲜有报道
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种,采用等离子体氧化法,利用简单的载玻片和盖玻片实现在室温下制备具有化学梯度表面的材料。本专利技术的目的是通过如下技术方案实现的 1)基底表面清洗基底在醇溶液中超声5 10分钟,氮气吹干,并用超纯水清洗,最后浸泡在Piranha溶液中5 10分钟; 2)自组装膜的制备将清洗好待用的基底浸泡到体积比为O.5 2%硅烷的苯溶液中或O. 5 2mM硫醇的醇溶液中; 3)等离子体氧化过程在制备好的自组装膜基底上方放置屋脊型的载玻片,然后置于等离子体清洗机中在功率为3(T90W的条件下反应f 30秒,得到不同深度的双向化学梯度。上述方法中,所述醇溶液为甲醇或乙醇溶液;苯溶液为甲苯溶液。上述方法中,所述Piranha溶液为硫酸和双氧水体积比70 30的混合溶液。上述方法中,所述基底为玻璃基底、硅片基底或金片基底。上述方法中,所述硫醇为烧基/氣基硫醇;娃烧为烧基/氣基娃烧。上述方法中,所述屋脊型的载玻片为由两个载玻片粘合形成的“ Λ ”型空间,其顶角为15(Γ178°,载玻片的长度为O. 5 2. 5厘米,宽度为f 3厘米,即屋脊总长度I飞厘米,宽度f 3厘米。本专利技术主要利用等离子体氧化技术,通过调整氧化反应空间的大小实现了对单层膜表面的不均一氧化,从而实现了双向化学梯度材料的制备。该方法具有操作简单,反应速度快,效果好,化学梯度的深度可控,制备的梯度材料大小可控,成本低,适用范围广等优点。该方法成功制备了新型的双向化学梯度表面,这对商用和科研方面化学梯度材料表面的制备有重要的影响,尤其是在生物分析领域,生物矿化,液晶显示,细胞生长研究、DNA的检测、微液滴流动的控制等方面有很深远的应用前景。附图说明图I为Plasma清洗机功率对形成的双向梯度的影响; 图2为在Plasma清洗机中反应时间对形成的双向梯度的影响; 图3为自组装膜基底上方放置屋脊型载玻片后的结构示意图。具体实施例方式具体实施方式一本实施方式按照如下步骤制备双向化学梯度表面 用超纯水清洗。最后浸泡在Piranha溶液中(硫酸和双氧水体积比70 30的混合溶液)5分钟,备用。2)清洗好的玻璃基底在氮气的氛围中浸泡于烷基/氨基硅烷的甲苯溶液中(1%体积比)2小时,用甲苯冲洗并用氮气吹干。制备好的自组装膜立即用于实验。3)利用强力胶将两个1X1. 5cm (可调)盖玻片粘合,形成“ Λ ”型空间(顶角范围178° -150° )。首先在制备好的自组装膜基底上方放置屋脊型的载玻片。通过改变屋脊型空间的参数(顶角,边长,边宽等)可以控制形成双向化学梯度的深度。将组装好的如图3所示结构置于等离子体清洗机中(型号Ζ印to,德国)反应2飞秒,可得到不同深度的双向化学梯度。具体实施方式二 本实施方式与具体实施方式一不同的是,若用硫醇自组装膜,金基底在O. 5 mlT2 mM的烷基/氨基硫醇的乙醇溶液中浸泡I小时,其他步骤与具体实施方式一相同。具体实施方式三本实施方式与具体实施方式一不同的是,自组装膜为氨基娃烧,在反应时间为15秒、两侧屋脊总长度为3厘米、屋脊宽度为I厘米(S卩使用的载玻片为1*1. 5厘米,屋脊顶角为178度)的条件下研究Plasma清洗机功率对形成的双向梯度的影响,其结果如图I所示。具体实施方式四本实施方式与具体实施方式三不同的是,在功率为50W,两侧屋脊总长度为3厘米,屋脊宽度为I厘米的情况下研究在Plasma清洗机中反应时间对形成的双向梯度的影响,其结果如图2所示。权利要求1.一种,其特征在于所述方法包括如下步骤 1)基底表面清洗基底在醇溶液中超声5 10分钟,氮气吹干,并用超纯水清洗,最后浸泡在Piranha溶液中5 10分钟;2)自组装膜的制备将清洗好待用的基底浸泡到体积比为O.5 2%硅烷的苯溶液中或O.5 2 mM硫醇的醇溶液中; 3)等离子体氧化过程在制备好的自组装膜基底上方放置屋脊型的载玻片,然后置于等离子体清洗机中在功率为3(T90W的条件下反应f 30秒,得到不同深度的双向化学梯度。2.根据权利要求I所述的,其特征在于所述醇溶液为甲醇或乙醇溶液。3.根据权利要求I所述的,其特征在于所述Piranha溶液为硫酸和双氧水体积比70 30的混合溶液。4.根据权利要求I所述的,其特征在于所述基底为玻璃基底、硅片基底或金片基底。5.根据权利要求I所述的,其特征在于所述浸泡时间为广24小时。6.根据权利要求I所述的,其特征在于所述娃烧为烧基/氣基娃烧,硫醇为烧基/氣基硫醇。7.根据权利要求I所述的,其特征在于所述苯溶液为甲苯溶液。8.根据权利要求I所述的,其特征在于所述屋脊型的载玻片为由两个载玻片粘合形成的“ Λ ”型空间。9.根据权利要求I或8所述的,其特征在于所述屋脊型的载玻片的顶角为15(Γ178°。10.根据权利要求8所述的,其特征在于所述载玻片的长度为O. 5^2. 5厘米,宽度为Γ3厘米。全文摘要,涉及一种制备双向化学梯度表面的方法。本专利技术包括如下步骤1)基底在醇溶液中超声,氮气吹干,并用超纯水清洗,最后浸泡在Piranha溶液中;2)将清洗好待用的基底浸泡到烷基/氨基硅烷的甲苯溶液中或硫醇的乙醇溶液中;3)在制备好的自组装膜基底上方放置屋脊型的载玻片,然后置于等离子体清洗机中,得到不同深度的双向化学梯度。该方法具有操作简单,反映速度快,效果好,化学梯度的深度可控,制备的梯度材料大小可控,成本低,适用范围广等优点。文档编号C23C26/00GK102808176SQ20121029411公开日2012年12月5日 申请日期2012年8月18日 优先权日2012年8月18日专利技术者韩晓军, 王磊, 王雪靖 申请人:哈尔滨工业大学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种利用有限空间等离子体氧化制备双向化学梯度表面的方法,其特征在于所述方法包括如下步骤:1)基底表面清洗:基底在醇溶液中超声5~10分钟,氮气吹干,并用超纯水清洗,最后浸泡在Piranha溶液中5~10分钟;2)自组装膜的制备:将清洗好待用的基底浸泡到体积比为0.5~2%硅烷的苯溶液中或0.5~2?mM硫醇的醇溶液中;3)等离子体氧化过程:在制备好的自组装膜基底上方放置屋脊型的载玻片,然后置于等离子体清洗机中在功率为30~90W的条件下反应1~30秒,得到不同深度的双向化学梯度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:韩晓军王磊王雪靖
申请(专利权)人:哈尔滨工业大学
类型:发明
国别省市:

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