本实用新型专利技术涉及一种高温高真空高挥发物水冷测温装置，包含有红外测温仪（10）和测温玻璃（7），所述测温玻璃（7）位于安装在容纳高温高真空高挥发物的设备的腔体（1）与所述红外测温仪（10）之间，所述装置还包含有一温度低于腔体（1）内高温挥发物质的冷过滤除污装置（5），所述冷过滤除污装置（5）设置于腔体（1）和测温玻璃（7）之间，且测温玻璃（7）的表面通过冷过滤除污装置（5）与腔体（1）相连通。本实用新型专利技术一种高温高真空高挥发物水冷测温装置，能够持续降低设备内部的挥发物在测温玻璃上的沉积速度。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种高温高真空高挥发物水冷测温装置。
技术介绍
在高温高真空高挥发物状态下运行的容器的温度监测技术目前分为接触式测温和非接触式测温，非接触式测温又分为很多种，而其中的红外测温以其响应时间快、准确度高、使用安全及使用寿命长等优点得到广泛应用。任何温度高于绝对零度的物体内部的分子都在不停地运动，这种分子运动会使物体不断地向周围空间发出红外辐射能量，从而在物体表面形成一定的温度场。如果能够有效吸收物体向周围空间发出的红外辐射能量，那么就可以准确测量出物体表面的温度。红 外测温仪就是利用了这一原理进行温度测量的，它由光学系统、光电探测器、信号放大器、 信号处理器、显示输出等部分组成，其中，光学系统用于汇聚其视场内的目标红外辐射能量，经汇聚的红外辐射能量聚焦在光电探测器上并转变为相应的电信号，该电信号再经信号放大器和信号处理器的换算转变为被测目标的温度值。可见，采用红外测温仪测量设备内部的物体的温度即可诊断设备的发热情况，进而随时监控设备的运行状况。高温高真空状态下的设备都是封闭的，这时利用红外测温仪测量设备的温度时，一般要在设备上加装测温玻璃，设备内部物体所发出的红外辐射能量透过测温玻璃才能进入红外测温仪的视场。然而，在高温高真空状态下，测温玻璃表面的温度要比设备内部物体的温度低，在这种状态下，设备运行时其内部物体所产生的挥发物与测温玻璃接触后，其温度会迅速降低，随即由气态转化为固态而沉积在测温玻璃的表面上，这就导致红外测温仪不能在后续的测量中完全吸收设备内部物体所辐射出的红外能量，使得测温值随时间衰减，测温值不准确。经过上述分析可知，减少与测温玻璃表面接触的挥发物的分子或原子的数量，是降低挥发物在测温玻璃表面沉积速度的有效手段。现有的技术中，在测温装置中增加一个水冷开关阀门装置可以有效减缓设备内部的挥发物在测温玻璃上的沉积速度，但由于在测温仪测量温度的同时阀门必须处于打开状态，使得此时挥发物在测温玻璃上沉积的速度加快，影响了测温仪测量数据的准确性，不能对系统进行有效控制。如何持续降低设备内部的挥发物在测温玻璃上的沉积速度是本领域技术人员急需解决的技术问题。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述不足，提供一种能够持续降低设备内部的挥发物在测温玻璃上的沉积速度的一种高温高真空高挥发物水冷测温装置。本技术的目的是这样实现的一种高温高真空高挥发物水冷测温装置，包含有红外测温仪和测温玻璃，所述测温玻璃位于安装在容纳高温高真空高挥发物的设备的腔体与所述红外测温仪之间，所述装置还包含有一温度低于腔体内高温挥发物质的冷过滤除污装置，所述冷过滤除污装置设置于腔体和测温玻璃之间，且测温玻璃的表面通过冷过滤除污装置与腔体相连通。本技术一种高温高真空高挥发物水冷测温装置，所述冷过滤除污装置包含有除污接口、冷过滤管内壁和外壁，冷过滤管内壁和外壁之间形成环形空腔，所述除污接口穿过冷过滤管内壁和外壁后与冷过滤除污装置的内部相连通，所述冷过滤除污装置的外壁上设置有冷却介质进口和出口。本技术一种高温高真空高挥发物水冷测温装置，所述冷过滤除污装置为上部和下部均带有法兰的圆柱体。 本技术一种高温高真空高挥发物水冷测温装置，所述冷过滤除污装置的材料为不锈钢。本技术一种高温高真空高挥发物水冷测温装置，所述装置还包含有水冷开关阀门，所述水冷开关阀门设置于所述冷过滤除污装置和所述腔体之间，所述水冷开关阀门包含有上法兰、阀板和下法兰，所述水冷开关阀门分别通过上法兰和下法兰与腔体和冷过滤除污装置连接，所述测温玻璃的表面通过水冷开关阀门、冷过滤除污装置与腔体连通。本技术一种高温高真空高挥发物水冷测温装置，所述装置还设置有用于固定所述红外测温仪的测温仪水冷安装座，所述测温仪水冷安装座与所述冷过滤除污装置通过法兰连接。本技术一种高温高真空高挥发物水冷测温装置，冷过滤除污装置的外壁分别通过上法兰和下法兰与水冷开关阀门和测温仪水冷安装座连接。与现有技术相比，本技术的有益效果是本技术中的冷过滤除污装置和水冷开关阀门的温度低于被测设备的腔体的温度，被测设备的腔体内部的物体产生的挥发物要经过水冷开关阀门和冷过滤除污装置的内部通道才能达到测温玻璃，而在这一过程中，挥发物很难不与水冷开关阀门、冷过滤除污装置的内部通道接触，所以部分挥发物的分子或原子会与水冷开关阀门和冷过滤除污装置接触，并迅速由气态转化为固态后吸附到水冷开关阀门和冷过滤除污装置上，大部分剩余挥发物最后经过除污接口的通道被真空泵吸除，只有极少数的挥发物分子或原子直接到达测温玻璃的表面并沉积，由此便有效降低了在测温玻璃上沉积的挥发物的分子数或原子数，将挥发物在测温玻璃上的沉积速度控制在不影响测温精度的范围内，显著提高了测温值的准确度。另一方面，本技术所提供的测温装置可以对设备的温度进行连续或间断测量，使系统能够对温度数据进行有效地采集、分析处理，进而对设备的运行过程进行有效的控制。附图说明图I为本技术一种高温高真空高挥发物水冷测量装置的结构示意图。具体实施方式参见图I，本技术提供了一种高温高真空高挥发物水冷测量装置，用于测量处于高温高真空高挥发物状态下的设备的腔体的温度。该装置包含有红外测温仪10、测温玻璃7、冷过滤除污装置5和水冷开关阀门3，测温玻璃7安装在腔体I与红外测温仪10之间，冷过滤除污装置5设置于测温玻璃7和水冷开关阀门3之间，水冷开关阀门3设置于腔体I和冷过滤除污装置5之间，冷过滤除污装置5和水冷开关阀门3的温度低于腔体I的温度，测温玻璃7的表面空间通过冷过滤除污装置5和水冷开关阀门3的内部通道与腔体I连通。被测设备运行时，其腔体I内存在用于反应的物体，这些物体内部的分子由于不间歇的运动会不断地向周围空间发出红外辐射能量，这些红外辐射能量透过上述测温装置中的测温玻璃7进入红外测温仪10的视场中，红外测温仪10将吸收到的红外辐射能量转换后就能得到被测设备的腔体I的温度。一般地，处于高温高真空状态的设备的腔体I内反应的物体会产生一部分挥发物，这些挥发物会从腔体I内部扩散到测温玻璃7的上表面后沉积，对测温值的准确产生不良影响。而本技术所提供的测温装置的关键就在于，设置于腔体I和测温玻璃7之间的冷过滤除污装置5、水冷开关阀3的温度低于腔体I的温 度，也就低于从腔体I内部扩散出来的挥发物的温度，而这些挥发物想测温玻璃7扩散的过程中很难不与冷过滤除污装置5和水冷开关阀门3接触，所以部分挥发物的分子或原子会与水冷开关阀门3和冷过滤除污装置5接触，并迅速由气态转化为固态后吸附到水冷开关阀门3和冷过滤除污装置5上，大部分剩余挥发物最后经过除污接口 51的通道被真空泵吸除，只有极少数的挥发物分子或原子直接到达测温玻璃7的表面并沉积，由此便有效降低了在测温玻璃7上沉积的挥发物的分子数或原子数，将挥发物在测温玻璃7上的沉积速度控制在不影响测温精度的范围内，显著提高了测温值的准确度。为了更为方便地将红外测温仪10与整个测温装置固定，本技术还提供了测温仪水冷安装座9，红外测温仪10固定安装在测温仪水冷安装座9的下端，测温玻璃7则密封于测温仪水冷安装座9与冷过滤除污装置5所构成的空间内，测温仪水冷安装座9与冷过滤除污装置5通过法兰连接。本实用新本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种高温高真空高挥发物水冷测温装置，包含有红外测温仪（10）和测温玻璃（7），所述测温玻璃（7）位于安装在容纳高温高真空高挥发物的设备的腔体（1）与所述红外测温仪（10）之间，其特征在于，所述装置还包含有一温度低于腔体（1）内高温挥发物质的冷过滤除污装置（5），所述冷过滤除污装置（5）设置于腔体（1）和测温玻璃（7）之间，且测温玻璃（7）的表面通过冷过滤除污装置（5）与腔体（1）相连通。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：居惠峰，
申请(专利权)人：江阴市中立机械工业有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。