光电池生产中清洗废物体系和腐蚀废物体系的处理装置以及废物体系的综合处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及光电池生产中清洗废物体系和腐蚀废物体系的处理装置以及废物体系的综合处理装置。所述光电池生产中清洗废物体系的处理装置主要包括用于分离废物体系中的固态杂质的分离设备；和与所述分离设备流体相通的电渗析设备。本实用新型专利技术处理装置的优点在于使得光电池生产过程中使用的工作液能得到循环利用，从而消除大量原料的消耗，避免了大量污染废水的产生和有毒废气的释放。使用本实用新型专利技术的处理装置既节约了原料，又有利于环境保护。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及废物体系的处理装置，具体地讲，涉及光电池生产中清洗及腐蚀废物体系的处理装置以及废物体系的综合处理装置。
技术介绍
在光电池生产中的湿法生产线中需要对晶片进行腐蚀、刻绒、酸清洁及水清洗等工序。晶片的主要成分为硅(Si)，长时间加工后会产生大量的废物，并可能含有毒气体。例如在使用HNO3和HF混合酸体系进行腐蚀过程中，由于发生以下反应HN0s+3Si— > 3Si02+4N0 丨 +2H20Si02+6HF— > H2SiF6+2H20产生NO气体遇到空气后即产生NO2气体。在清洗工序中会产生大量的以水为主要成分的废物体系，现有光电池生产过程中一般将所得的清洗废物体系处理到排放标准后排放，而没有对其进行回收利用，这样造成了水资源的浪费。如果不对它们进行处理，既会造成环境的污染，给环境治理增加负担，又会造成原料的巨大浪费。从经济和环保的角度来看，都希望对产生的废物体系进行处理使得原料得到充分利用。中国专利申请201010577683. 9公开了一种硅晶片的腐蚀废水处理以及处理设备，具体公开了用氢氧化钠水溶液刻蚀硅晶片时所排出的废水的处理方法以及处理装置，包括向该刻蚀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光电池生产中清洗废物体系的处理装置，所述清洗废物体系通过清洗已腐蚀硅片而产生，其特征在于，所述处理装置包括：用于分离废物体系中的固态杂质的分离设备；和与所述分离设备流体相通的电渗析设备。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：施道可，范琼，潘加永，吴鹏珍，C·贝尔瑙尔，
申请(专利权)人：库特勒自动化系统苏州有限公司，无锡尚德太阳能电力有限公司，
类型：实用新型
国别省市：