一种轻离型力的离型膜及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种轻离型力的离型膜及其制作方法。一种轻离型力的离型膜，包括基材，及设于基材上的底涂层，所述的底涂层上还设有离型层。一种轻离型力的离型膜的制作方法，包括以下制作步骤：1）在基材上涂布底涂层；2）在底涂层上涂布离型层；其中，底涂层与离型层是连线式涂布。本发明专利技术解决了常规轻离型膜的离型转移普遍偏高的问题，通过增加底涂层，提高离型层的化学交联密度，降低硅油向胶面的转移，同时利用底涂层增加离型层与基材的附着力，在生产过程采用了连线底涂层的生产工艺，大大提高底涂层的效能、生产效率，降低损耗与能耗。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种离型膜结构及其制作方法，更具体地说是指。
技术介绍
离型膜又称防粘膜，即liner,离型膜是以PET、BOPP, PE、PC、PS、CPP为基材制作的一种表面具有低表面能的特性，与胶带之间的剥离力可调节的产品。离型膜的特点是表面平整、洁净度高，后续加工尺寸稳定，透明度及颜色可调整，薄膜的厚度与基材的种类可 选择的范围广。可利用离型膜这些特点向光学与电子领域的零部件的深加工发展，从而适应这一领域越来越多的自动化生产工艺过程。离型力的重要性离型膜的最终要求是实现在载体膜的物理性能满足要求的前提下获得稳定的离型力(在180度角度下，以300mm/min的剥离速度下所检测到的力值)。离型膜一般需要与PSA复合使用。在电子或光学零部件的加工领域需要一些双面胶带作为粘结件，双面胶带首先要与离型膜复合，然后再进行模切成各种形状大小、最后进入自动或手工贴装过程。由于人工成本的增加，及对过程控制的严格要求，越来越多的趋向于机器自动吸附贴装，即胶带在吸盘吸附下自动从离型膜表面脱离。这要求离型膜的离型力足够轻，同时离型膜的离型面对胶表面特性的影响降到最低。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的缺陷，而提供。为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案一种轻离型力的离型膜，包括基材，及设于基材上的底涂层，所述的底涂层上还设有离型层。其进一步技术方案为所述的基材为金属箔或塑料薄膜，厚度为12um至250um。其进一步技术方案为所述的离型层的厚度为20nm至200nm，为钼金催化加成型有机硅离型剂层或锡盐催化有机硅离型剂层。其进一步技术方案为所述底涂层的厚度为20nm至500nm，为硅烷偶联剂层、含羟基硅油层、乙烯基硅油层、有机硅体系放静电剂层或有机高分子导电聚合物溶液层。一种轻离型力的离型膜的制作方法，包括以下制作步骤1)在基材上涂布底涂层；2)在底涂层上涂布离型层；其中，底涂层与离型层是连线式涂布。其进一步技术方案为包括如下具体制作步骤1)在基材上涂布底涂层，进行预固化；2)在底涂层上涂布离型层，进行固化；3)底涂层与离型层为连线式涂布；4)进入烘箱后固化收卷。其进一步技术方案为所述底涂层的生产工艺为预先对基材利用热风清除表面所吸附的水分，利用硅胶除尘辊清除基材表面的灰尘与异物、离型离子风枪清除基材表面所携带的静电，然后再涂布底涂层，同时做到预固化状态。其进一步技术方案为所述的离型层的厚度为20nm至200nm，选用的材料是钼金催化加成型有机硅离型剂、锡盐催化有机硅离型剂，固化温度80°C至150°C，固化时间15秒钟至2分钟。其进一步技术方案为所述底涂层的厚度为20nm至500nm，选用的材料为硅烷偶联剂、含羟基硅油、乙烯基硅油、有机硅体系放静电剂、有机高分子导电聚合物溶液，固化温度60°C至150°C，固化时间3秒钟至2分钟。其进一步技术方案为所述的底涂层与离型层的连线涂布工艺，所选用的工艺过程如下基材放料经过前处理单元、然后进入凹版涂布头后经过底涂烘箱后，然后再进入逗号涂布头，再进入面胶烘箱，最后收卷。本专利技术与现有技术相比的有益效果是本专利技术解决了常规轻离型膜的离型转移普 遍偏高的问题，通过增加底涂层，提高离型层的化学交联密度，降低硅油向胶面的转移，同时利用底涂层增加离型层与基材的附着力，在生产过程采用了连线底涂层的生产工艺，大大提高底涂层的效能、生产效率，降低损耗与能耗。其中，底涂层是一种同时能够与离型层发生化学交联、又能与基材表面的极性官能团结合的涂料。下面结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步描述。附图说明图I为本专利技术一种轻离型力的离型膜具体实施例的剖面示意图；图2为本专利技术的底涂层与离型层的连线涂布工艺流程图；图3为本专利技术的底涂层的涂布方式示意图(多功能涂布设备的第一部分)；图4为本专利技术的离型层的涂布方式示意图(多功能涂布设备的第二部分)；图5为本专利技术的coatsill770的化学结构式图；图6为本专利技术的N-103X作用机理示意图。附图标记说明91 基材92 底涂层93 离型层图3至图4的标记说明10 机架21 基料放料单元22 基材前处理单元 221 前处理支架222 预热组件223 电晕组件224 除尘组件23 底涂烘箱单元231 下辊轮组232 上辊轮组31 凹版涂布单元32 逗号涂布单元33 精密涂布单元40 面胶烘箱单元41 红外烘烤单元42 UV固化单元43 冷风组件49 面胶烘箱组件50 复合单元51 离型纸张放料单元511 电晕单元52 收卷单元具体实施例方式为了更充分理解本专利技术的
技术实现思路
，下面结合具体实施例对本专利技术的技术方案进一步介绍和说明，但不局限于此。如图I所示，本专利技术一种轻离型力的离型膜，包括三层，第一层为基材，主要材质为金属箔、PET、BOPP, PE、PC、PS或CPP等；第二层为底涂层，主要成分为硅烷偶联剂层、含羟基硅油层、乙烯基硅油层、有机硅体系放静电剂层或有机高分子导电聚合物溶液层等；第三层为离型层，主要成分钼金催化加成型有机硅离型剂层或锡盐催化有机硅离型剂层。结合图2，本专利技术的一种轻离型力离型膜的制作方法，包括以下步骤步骤一预先对基材利用热风清除表面所吸附的水分，离型离子风枪清除基材表面所携带的静电，利用硅胶除尘辊清除基材表面的灰尘与异物，然后再涂布底涂层。步骤二 对底涂层涂料进行稀释，粘度范围在l(T300mpa. s/25°C;所述的底涂层为硅烷偶联剂、含羟基硅油、乙烯基硅油、有机硅体系防静电剂、有机高分子导电聚合物溶液，聚氨酯树脂、丙烯酸树脂的一种。 步骤三通过如图3的涂布方式将稀释后的底涂涂料均匀涂于基材表面，所述的基材为 PET、BOPP、PE、PC、PS、CPP 中的一种。步骤四将步骤三所获得的产品置于60°C至150°C烘箱内烘干，烘干时间为3秒钟至2分钟，使其达到半固化状态。步骤五离型剂涂布，通过图4的涂布方式，将离型剂均匀涂布于底涂层的表面，固含量保持在O. 5%至10%。步骤六固化，将步骤五涂好的产品置于80°C至150°C烘箱内烘干，烘干时间为15秒钟至2分钟，使其达到全固化状态。步骤七收卷，制成轻离型力离型膜。下面结合实例对本专利技术做进一步详细的描述实施例I步骤一预先对基材利用热风清除表面所吸附的水分，离型离子风枪清除基材表面所携带的静电，利用硅胶除尘辊清除基材表面的灰尘与异物，然后再涂布底涂层。步骤二 底涂层为市售coatsill770，加入甲苯，进行10倍稀释，其化学结构式见图5 ；步骤三通过如图3的涂布方式将稀释后的底涂涂料均匀涂于基材表面，所述的基材为 PET、BOPP、PE、PC、PS、CPP 中的一种。步骤四将步骤三所获得的产品置于2m*3节的烤箱内，温度设定为80°C、100°C、110°c，速度为40m/min，其固化时间为9s，使其达到半固化状态。步骤五离型剂涂布，通过图4的涂布方式，将离型剂均匀涂布于底涂层的表面，固含量保持在O. 5%至10%，离型剂为市售钼金催化加成有机硅离型剂。步骤六固化，将步骤五涂好的产品置于3m*7节的烤箱内，温度设定为60°C、90 V、135°C 80°C、145°C、140°C、125°C、60 V，机器线速度为 40m/min,烘干时间为 32s，使其达到全固化状态。步骤七收卷，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种轻离型力的离型膜，其特征在于包括基材，及设于基材上的底涂层，所述的底涂层上还设有离型层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：夏新月，孙金永，周丽娜，席忠飞，杨守成，周运垚，华星旸，
申请(专利权)人：深圳市摩码科技有限公司，
类型：发明
国别省市：