具有侧取代的光配向材料制造技术

技术编号:7920972 阅读:152 留言:0更新日期:2012-10-25 06:26
本发明专利技术涉及具有侧取代的光配向材料,其组合物,以及其用于光学和光电器件、特别是液晶器件(LCD)的用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有侧取代的光配向材料,其组合物,及其用于光学和光电器件特别是液晶器件(LCD)或安全器件的用途。
技术介绍
在LCD的大规模制造中,不同加工步骤之间的时间段受到非常严格的控制。在利用光配向技术的显示器制造中,UV曝光能量及其在涂覆的配向层上的入射角是重要的和主要的加工步骤。对液晶的特定预倾角以及其余的生产工艺时段权利要求1.光配向材料,其包含在侧链上具有至少一个由式(I)表示的侧取代部分的聚合物p2IR(I) 其中 A和B彼此独立地表示未取代或取代的碳环或杂环的芳族或脂环族基团,该芳族或脂环族基团选自五或六个原子的单环,两个相邻的五或六个原2.化合物,其包含至少一个由式(I)表示的侧取代部分3.根据权利要求2所述的化合物,其由式(IV)表示4.根据权利要求2所述的化合物,由以下式(XVI)、(XVIIII)或(XIX)表示5.根据权利要求2所述的化合物,包含至少一个由式(XVI I a)、(XVIIb)、(XVIIc)、(XVIIf)、(XVIII)或(XIX)表示的侧取代部分,6.根据权利要求2所述的化合物,包含至少一个式(XX)、(XXI)、(XXII)、(XXIII)、(XXIV)、(XXV)、(XXVa)或(XXVb)表示的侧取代部分,和/或光配向材料,该光配向材料包含在侧链上具有至少一个由式(XX)、(XXI)、(XXII)、(XXIII)、(XXIV)、(XXV)、(XXVa)或(XXVb)表示的侧取代部分聚合物7.根据权利要求2所述的化合物,包含至少一个由式(XXVc)、(XXVd)、(XXVe)、(XXVf)、(XXVg)、(XVIIII)、(XIX)表示的侧取代部分,和/或如权利要求I中所述的光配向材料,包含在侧链上具有至少一个由式(XXVc)、(XXVd)、(XXVe)、(XXVf)、(XXVg)、(XVIIII)、(XIX)表示的侧取代部分的聚合物8.如权利要求I中所述的聚合物的制备方法,包括使如权利要求2中所述的化合物进行接触。9.如权利要求I中所述的聚合物,优选为均聚物和/或共聚物,其通过根据权利要求8的方法获得。10.组合物,特别是共混物和/或制剂,包含 如权利要求I中所述的、或根据权利要求9获得的、或根据权利要求8制备的在侧链上具有至少一个由式(I)表示的侧取代部分的聚合物,和/或至少一种如权利要求2中所述的化合物。11.如权利要求I中所述的光配向材料,或如权利要求1、9中所述的或根据权利要求8制备的在侧链上具有至少一个由式(I)表示的侧取代部分的聚合物,用于聚合物层、特别是取向层的制备的用途。12.制备聚合物层、特别是取向层的方法,包括将如权利要求I中所述的光配向材料、或者根据权利要求9获得的或根据权利要求8制备的聚合物、或者根据权利要求10的组合物涂布于载体,并用配向光对其进行处理。13.聚合物层,特别是取向层,包含至少一种如权利要求I中所述的在侧链上具有至少一个由式(I)表示的侧取代部分的光配向材料,或包含至少一种根据权利要求9获得的或根据权利要求8制备的聚合物,或根据权利要求12制备的聚合物层。14.根据权利要求13、或根据权利要求12制备的聚合物层,或根据权利要求I的光配向材料的用途,用于制备光学和光电非结构性或结构性的构成元件、优选液晶显示单元、多层和混杂层元件。15.光学和光电非结构性或结构性的构成元件、优选液晶显示单元、多层和混杂层元件,包含至少一个根据权利要求13、或根据权利要求12制备的聚合物层,或包含至少一种根据权利要求I的光配向材料。16.根据权利要求14的光电非结构性或结构性的构成元件,其为液晶显示单元,包含至少一个根据权利要求13所述的或者根据权利要求12制备的聚合物层,或包含至少一种根据权利要求I的光配向材料。全文摘要本专利技术涉及具有侧取代的光配向材料,其组合物,以及其用于光学和光电器件、特别是液晶器件(LCD)的用途。文档编号C08G73/10GK102753605SQ201180008953 公开日2012年10月24日 申请日期2011年2月9日 优先权日2010年2月12日专利技术者A·斯库斯特, J-F·爱克特, S·帕里卡 申请人:罗利克有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:JF·爱克特S·帕里卡A·斯库斯特
申请(专利权)人:罗利克有限公司
类型:发明
国别省市:

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