【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种真空清洗装置。特别属于薄膜沉积前对镀件(玻璃基片) 或工件表面的清洗。
技术介绍
在真空镀膜制程中，镀件在被镀膜前先要经表面清洁处理。对玻璃镀件 的清洁处理通常使用化学清洗与物理清洗相结合的方法，即用洗液和刷拭相 结合的方式进行清洗。这种清洗方法简称为湿法清洗。湿法清洗存在清洗不彻底的问题，即无法完全去掉玻璃表面的有机物和 氧化物等，并容易形成水渍。对玻璃镀件清洁不彻底将直接导致膜层的附着 力不好，所镀膜层易脱落。在大面积玻璃镀膜行业中，如非晶硅/微晶硅薄膜太阳能电池的前电极 透明导电氧化物薄膜的制备，低辐射玻璃的制备，透明导电玻璃的制备等领 域，对薄膜的附着力和均匀性要求很高，仅经湿法清洗处理的玻璃清洁度不 够，玻璃上所镀薄膜在使用过程中易脱落，影响用这些镀膜玻璃制备的器件 或功能组件的性能和寿命。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种等离子体表面清洗装置，能够有效去除镀件(玻 璃)上残存的污染物。清洗后能够不接触空气，避免二次污染。本专利技术的技术构思本专利技术采用等离子体清洗技术，在真空环境里利用 高压电场或者高压电场与热丝结合的方式电离...
【技术保护点】
一种等离子体表面清洗装置，其特征在于包括： 至少一真空腔体（１），其上开有一进气口（１１）和一抽气口（１２）； 一传动装置，设在真空腔体（１）内； 一对金属板（３，４），分别设在传动装置的上下方，与一偏压电源的正负极相连接 。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈彩刚，夏芃，施松林，熊军，刘古岩，
申请(专利权)人：上海拓引数码技术有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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