一种用于投影光刻照明系统的衍射光学元件光学性能的测量装置及测量方法，该测量装置包括照明单元、能量监测单元、衍射光学元件固定支架、衍射图样测量单元和能量利用率测量单元。通过测量衍射光学元件产生的衍射图样及各级衍射光斑的能量分布，可准确地评价衍射光学元件的光学性能。本发明专利技术不仅可以实现对衍射光学元件产生的远场衍射图样的直接测量，而且可以实现对待测衍射光学元件的能量利用率、零级衍射效率及高阶衍射效率的测量。本测量装置结构简单，操作方便，测量结果准确可靠。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及属于微光刻领域,特别是一种衍射光学元件(Diffractive OpticalElements)光学性能的测量装置及测量方法，特别是涉及一种用于投影光刻照明系统中产生离轴照明模式的衍射光学元件的光学性能测量装置及测量方法。
技术介绍
投影光刻机是当今技术最为密集、精度要求最高的一种大规模集成电路制造装备，获得各种复杂光瞳光强分布与极高光强均匀性的照明技术及接近零像差的光学成像技术是其核心技术。为了满足光刻图形特征尺寸不断缩小和实现特殊图形曝光的要求，人们发展了多种光刻分辨力增强技术，使光刻技术的生命力不断得到延伸。而通过光瞳整形技 术获得的离轴照明是光刻机中最常用有效的一种分辨力增强技术。光刻机需要针对不同的掩模结构采用不同的离轴照明模式，以增强光刻分辨力、增大焦深、提高成像对比度，从而得到更好的成像性能。而这些照明模式就是通过光瞳整形技术来实现的。光瞳整形技术是指在光刻照明系统中采用特殊设计的光学元件调制入射激光束的强度或位相分布，从而在光瞳面上得到所需要的特定光强分布。光瞳整形主要是通过衍射光学元件实现的。随着光刻图形特征尺寸不断减小，对投影光刻机照明系统光瞳光强分布的要求越来越高，对衍射光学元件的光学性能的要求也越来越高，因此对衍射光学元件的光学性能进行准确测量尤其重要。在先技术“衍射光学元件的光学特性测定方法及衍射光学元件的光学特性测定装置”(CN 101553721B)中，公开了一种衍射光学元件的光学特性测定方法及其测定装置，其原理是通过测量由衍射光学元件形成的衍射光斑的强度分布来评价衍射光学元件的光学特性。该技术通过距离变更部件改变CCD和衍射光学元件的距离实现了光轴方向的强度分布测量和垂直于光轴的面内强度分布测量，但是却无法同时测量衍射光学元件的能量利用率、零级衍射效率、高阶衍射效率等重要指标，因此该技术无法对衍射光学元件的光学性能进行全面的评价。另外，当零级衍射光斑强度过大、衍射图样上强度比值过大时，用图像处理的方法计算的衍射效率不准确，因此需要采取一定的方法直接对能量进行监测。
技术实现思路
本专利技术旨在克服上述现有技术的不足，提供一种用于投影光刻机照明系统的，从而准确地评价衍射光学元件的光学性能。在描述本专利技术的技术解决方案之前，为便于本专利技术的描述和理解，对本专利技术涉及的几个基本概念我们定义如下I、用于投影光刻机照明系统的衍射光学元件(本专利技术简称为衍射光学元件)具有多种结构，但总的说来，衍射光学元件产生的远场衍射图样包含三个区域零级衍射区域、衍射图样区域和高阶衍射区域，如图3所示，图中的小圆和大圆是辅助线，区域6为小圆包含的圆形区域，恰好包含零级衍射光斑，称为零级衍射区域；区域7为小圆与大圆包含的环形区域，恰好包含衍射图样，称为衍射图样区域；区域8为大圆以外的区域，包含高阶衍射图样，称为高阶衍射区域。2、零级衍射效率定义为零级衍射区域所包含的能量与入射到待测衍射光学元件上面的能量之比。3、能量利用率定义为衍射图样区域所包含的能量与入射到待测衍射光学元件上面的能量之比。4、高阶衍射效率定义为高阶衍射区域所包含的能量与入射到待测衍射光学元件上面的能量之比。本专利技术的技术解决方案如下一种衍射光学元件光学性能的测量装置，特点在于该装置包括照明单元、能量监测单元、待测衍射光学元件固定支架、衍射图样测量单元和能量利用率测量单元所述的照明单元包括准分子激光器、扩束镜和光阑；所述的能量监测单元由第一分光镜和第一激光功率计组成；所述的衍射图样测量单元由第二分光镜、第一傅里叶变换透镜、衰减片和CXD图像传感器构成；所述的能量利用率测量单元包括平面反射镜、第二傅里叶变换透镜、光阑插口和第二激光功率计，所述的光阑插口供光阑设置，使光阑位于所述的第二傅里叶变换透镜的后焦面上；所述的待测衍射光学元件固定支架是一个供待测衍射光学元件设置固定的支架；上述元部件的位置关系如下沿所述的准分子激光器输出激光的前进方向，依次是所述的扩束镜、光阑、第一分光镜、待测衍射光学元件、第二分光镜、第一傅里叶变换透镜、衰减片和CCD图像传感器，在所述的第一分光镜的反射光方向是所述的第一激光功率计，在所述的第二分光镜的反射光方向是平面反射镜，在该平面反射镜的反射光方向依次是所述的第二傅里叶变换透镜、光阑插口和第二激光功率计； 所述的第二傅里叶变换透镜与所述的第一傅里叶变换透镜相同，所述的第一傅里叶变换透镜的前焦面和第二傅里叶变换透镜的前焦面与所述的待测衍射光学元件共平面，所述的CCD图像传感器放置在所述的第一傅里叶变换透镜的后焦面上；所述的光阑插口置于第二傅里叶变换透镜的后焦面上，所述的第二激光功率计紧靠在所述的光阑插口之后；所述的第一傅里叶变换透镜的焦距f由CXD图像传感器敏感面的宽度w和待测衍射光学兀件远场发射角9按下式确定/ < T-T 2sinc/所述的第一傅里叶变换透镜的通光孔径D由待测衍射光学元件的有效区域尺寸LXL及待测衍射光学元件远场发射角0由下式确定l)>42L + 2fs\ne,所述的光阑直接固定在所述的扩束镜的镜筒上。利用上述测量装置对衍射光学元件的光学性能的测量方法，其特点在于该方法包括下列步骤①把待测衍射光学元件固定在所述的衍射光学元件的固定支架上；②启动所述的准分子激光器，所述的CCD图像传感器进行图像采集，对图像进行分析就可以得到衍射图样的强度分布，经测量或计算出零级衍射区域的尺寸和衍射图样区域的尺寸；③测量零级衍射效率根据零级衍射区域的尺寸选择光阑的通光孔径的大小使得零级衍射光斑恰好完全通过该光阑的通光孔，插入所述的光阑插口并置于第二傅里叶变换透镜的后焦面上，此时读出所述的第一激光功率计的示数Pin和所述的第二激光功率计的示数Pttout，则零级衍射效率为 2P V0 = p JjlRx\0O% iyi式中，T为第二傅里叶变换透镜的透过率，R为光线45°入射时平面反射镜的反射率，多次测量取其平均值，作为零级衍射效率的最终测量结果；④测量衍射光斑的能量利用率和高阶衍射效率根据衍射图样区域的尺寸选择光阑的通光孔径的大小使所述的衍射图样和零级衍射光斑恰好完全通过该光阑的通光孔，插入所述的光阑插口并置于第二傅里叶变换透镜的后焦面上，使零级衍射光斑和衍射图样恰好完全通过光阑的通光孔，读取所述的第一激光功率计的示数Pin和所述的第二激光功率计的示数Pltjut，则零级衍射光斑和待测的衍射图样的总衍射效率\为2 P in多次测量取其平均值冗，则待测衍射光学元件的能量利用率^为&=$-&，和高阶衍射效率％为=1-%。本装置中所述的所有光学元件均采用熔石英或氟化钙材料制造，这两种材料在深紫外波段的透过率高，适用于193nm、248nm等深紫外波长。与在先技术相比，本专利技术具有下列技术效果I、本专利技术实现了一种用于投影光刻机照明系统的衍射光学元件衍射图样的测量，同时能够实现能量利用率、零级衍射效率、高阶衍射效率等重要参数的测量，测量结果能真实全面地反映衍射光学元件的光学性能。2、本专利技术利用激光功率计监测入射光功率和待测衍射图样的光功率，直接计算能量利用率和零级衍射效率，测量结果准确可靠，与利用图像处理求能量利用率和衍射效率的方法相比，避免了由于零级衍射光斑光强过大、衍射图样上本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种衍射光学元件光学性能的测量装置，特征在于：该装置包括照明单元（1）、能量监测单元（2）、待测衍射光学元件固定支架（3）、衍射图样测量单元（4）和能量利用率测量单元（5）：所述的照明单元（1）包括准分子激光器（101）、扩束镜（102）和第一光阑（103）；所述的能量监测单元（2）由第一分光镜（201）和第一激光功率计（202）组成；所述的衍射图样测量单元（4）由第二分光镜（401）、第一傅里叶变换透镜（402）、衰减片（403）和CCD图像传感器（404）构成；所述的能量利用率测量单元（5）包括平面反射镜（501）、第二傅里叶变换透镜（502）、光阑插口（503）和第二激光功率计（504），所述的光阑插口（503）供第二光阑设置，使光阑位于所述的第二傅里叶变换透镜的后焦面上；所述的待测衍射光学元件固定支架（3）是一个供待测衍射光学元件（300）设置固定的支架；上述元部件的位置关系如下：沿所述的准分子激光器（101）输出激光的前进方向，依次是所述的扩束镜（102）、光阑（103）、第一分光镜（201）、待测衍射光学元件（300）、第二分光镜（401）、第一傅里叶变换透镜（402）、衰减片（403）和CCD图像传感器（404），在所述的第一分光镜（201）的反射光方向是所述的第一激光功率计（202），在所述的第二分光镜（401）的反射光方向是平面反射镜（501），在该平面反射镜（501）的反射光方向依次是所述的第二傅里叶变换透镜（502）、第二光阑和第二激光功率计（504）；所述的第二傅里叶变换透镜（502）与所述的第一傅里叶变换透镜（402）相同，所述的第一傅里叶变换透镜（402）的前焦面和第二傅里叶变换透镜（502）的前焦面与所述的待测衍射光学元件（300）共平面，所述的CCD图像传感器（404）放置在所述的第一傅里叶变换透镜（402）的后焦面上；所述的光阑插口（503）置于第二傅里叶变换透镜（502）的后焦面上，所述的第二激光功率计（504）紧靠在所述的第二光阑之后；所述的第一傅里叶变换透镜（402）的焦距f由CCD图像传感器（404）敏感面的宽度w和待测衍射光学元件（300）远场发射角θ按下式确定：f≤w2sinθ所述的第一傅里叶变换透镜的通光孔径D由待测衍射光学元件的有效区域尺寸L×L及待测衍射光学元件远场发射角θ由下式确定：D≥2L+2fsinθ....
【技术特征摘要】
1.一种衍射光学元件光学性能的测量装置，特征在于该装置包括照明单元(I)、能量监测单元(2)、待测衍射光学元件固定支架(3)、衍射图样测量单元(4)和能量利用率测量单元(5) 所述的照明单元(I)包括准分子激光器(101)、扩束镜(102)和第一光阑(103)； 所述的能量监测单元(2)由第一分光镜(201)和第一激光功率计(202)组成； 所述的衍射图样测量单元(4)由第二分光镜(401)、第一傅里叶变换透镜(402)、衰减片(403)和CXD图像传感器(404)构成； 所述的能量利用率测量单元(5)包括平面反射镜(501)、第二傅里叶变换透镜(502)、光阑插口(503)和第二激光功率计(504)，所述的光阑插口(503)供第二光阑设置，使光阑位于所述的第二傅里叶变换透镜的后焦面上； 所述的待测衍射光学元件固定支架(3)是一个供待测衍射光学元件(300)设置固定的支架；· 上述元部件的位置关系如下 沿所述的准分子激光器(101)输出激光的前进方向，依次是所述的扩束镜(102)、光阑(103)、第一分光镜(201)、待测衍射光学元件(300)、第二分光镜(401)、第一傅里叶变换透镜(402)、衰减片(403)和CXD图像传感器(404)，在所述的第一分光镜(201)的反射光方向是所述的第一激光功率计(202)，在所述的第二分光镜(401)的反射光方向是平面反射镜(501)，在该平面反射镜(501)的反射光方向依次是所述的第二傅里叶变换透镜(502)、第二光阑和第二激光功率计(504)； 所述的第二傅里叶变换透镜(502)与所述的第一傅里叶变换透镜(402)相同，所述的第一傅里叶变换透镜(402)的前焦面和第二傅里叶变换透镜(502)的前焦面与所述的待测衍射光学元件(300)共平面，所述的CXD图像传感器(404)放置在所述的第一傅里叶变换透镜(402)的后焦面上；所述的光阑插口(503)置于第二傅里叶变换透镜(502)的后焦面上，所述的第二激光功率计(504)紧靠在所述的第二光阑之后； 所述的第一傅里叶变换透镜(402)的焦距f由CXD图像传感器(404)敏感面的...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡中华，朱菁，杨宝喜，肖艳芬，彭雪峰，陈明，曾爱军，黄惠杰，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：
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