一种样品架制造技术

本实用新型专利技术提供了一种样品架，包括：一侧镶嵌有第一磁铁和至少两个凹槽的定位板；用于粘附样品并与所述定位板的顶端嵌接的样品框；一侧镶嵌有第二磁铁和至少两个钢球的载板，该第二磁铁的数目和位置分布均与定位板上的第一磁铁相同，该钢球的数目和位置分布均与定位板上的凹槽相同，且所述凹槽与所述钢球相配合。定位板分别与七轴样品台载板、纳米样品台载板或显微镜载物台载板相配合，完成样品在七轴样品台、纳米样品台或荧光显微镜载物台上的高精度重复移动。用该样品架粘附不同大小的样品进行同步辐射X射线荧光实验，安全可靠、方便快捷，重复精度为5微米。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及荧光分析领域，特别是涉及ー种样品架。
技术介绍
荧光分析就是利用物质的分子或原子受外来光源辐照后，分子或原子受激发，当它们退激后发出荧光，荧光的波长与分子或原子的能级结构有关，因此测量荧光的波长和強度就可用来确定发出该荧光的元素种类及含量，确定样品组成，是ー种常见的分析方法。处于外层轨道中的电子受原子核束缚比较松，产生的荧光波长比较长，用紫外和软X射线就可激发。原子内层电子受原子核束缚比较紧，退激后发射的荧光波长短，处于X 射线波长范围。X射线荧光分析具有灵敏度高、非破坏性、快速、设备简单等优点，已经广泛应用于生命科学、材料科学、地矿学、环境科学、法学以及エ农业生产等各个领域。由于同步辐射的高亮度、高偏振、高准直，可以得到连续可调的単色光，并可将X射线束引入大气中进行分析等优点，同步辐射光源激发X荧光分析将X射线荧光分析手段提高到崭新的水平。现有条件下，进行同步辐射X射线荧光实验时，需要频繁更换实验样品，现有样品架非常笨拙，毎次更换样品都要旋动螺母将整个样品架从七轴样品台上取下，不仅非常不方便，还极易损害七轴样品台上的螺孔，影响七轴样品台的精度。实验时，样品只能依靠实验台本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种样品架，其特征在于，包括：一侧镶嵌有第一磁铁和至少两个凹槽的定位板；用于粘附样品并与所述定位板的顶端嵌接的样品框；一侧镶嵌有第二磁铁和至少两个钢球的载板，该第二磁铁的数目和位置分布均与定位板上的第一磁铁相同，该钢球的数目和位置分布均与定位板上的凹槽相同，且所述凹槽与所述钢球相配合。

【技术特征摘要】
1.一种样品架,其特征在于,包括 一侧镶嵌有第一磁铁和至少两个凹槽的定位板； 用于粘附样品并与所述定位板的顶端嵌接的样品框； 一侧镶嵌有第二磁铁和至少两个钢球的载板，该第二磁铁的数目和位置分布均与定位板上的第一磁铁相同，该钢球的数目和位置分布均与定位板上的凹槽相同，且所述凹槽与所述钢球相配合。2.如权利要求I所述的样品架，其特征在于，所述载板上设有空框。3.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：张继超，李爱国，余笑寒，
申请(专利权)人：中国科学院上海应用物理研究所，
类型：实用新型
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