一种陶瓷白薄膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种陶瓷白薄膜的制备方法，其步骤包括：将白色塑胶基材喷涂UV漆；烘烤及固化；将白色塑胶基材进行离子轰击处理以增强塑胶基材的表面活性；在UV底层表面通过真空磁控溅射镀膜方式依次镀硬化层、过渡层、装饰层。本发明专利技术的陶瓷白薄膜的制备方法，对白色塑胶处理以后，可以得到陶瓷白的外观效果，既坚固又不易摔坏，美观耐用，极好地满足了电子消费产品的外观需。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于塑胶材料表面处理
，尤其涉及一种镀覆于塑胶材表面的陶瓷白薄膜的制备方法。
技术介绍
随着电子消费水平的不断提高，个性化、时尚化的追求，陶瓷外观材料开始出现在手机等电子消费领域，但是由于陶瓷本身的碎性，直接使用陶瓷作为外观结构件容易摔坏。因此，在塑胶等表面制备特殊薄膜，使其既能满足其陶瓷外观的装饰效果，又具有坚固性， 不易摔坏的优良特性。
技术实现思路
为了克服上述所指的现有技术中的不足之处，本专利技术提供一种简单可靠、操作方便、品质优异的陶瓷白薄膜的制备方法。本专利技术是通过以下技术方案实现的，包括步骤步骤1，在白色塑胶基材表面喷涂由UV底漆形成的UV底层，将白色塑胶基材放到涂装机的自动线上进行自动化喷涂；步骤2，烘烤及固化，将完成喷涂的白色塑胶基材放入烤箱烘烤，再将完成烘烤的产品过UV炉固化；步骤3，将UV固化后的白色塑胶基材进行离子轰击处理；步骤4，在UV底层外镀由二氧化硅形成的硬化层，开启硅靶电源，打开硅靶电源的同时通入氧气和!!气；步骤5，在硬化层外镀由硅钛或硅锆等混合氧化物形成的过渡层，其中，硅钛或硅锆质量比为8 2，打开靶电源的同时通入氧气和氩气；步骤6，在过渡层外镀由氧化钛、氧化锆、五氧化二钽或五氧化二铌形成的装饰层，打开靶电源的同时通入氧气和氩气。所述步骤I中喷涂室温为10°C-35°C，湿度为30%-80%，UV漆粘度为7. 8-8. 2秒，喷枪气压为2. 0-3. 5公斤/平方厘米。所述步骤2中的烤箱温度为40_50°C，烤箱时间5-10分钟。所述步骤3中真空室的真空度为I. 5-2. 5帕，离子轰击电源系统电流为5安，脉冲方波的占空比为50% -75%，在频率40Hz的条件下进行等离子处理时间为10-20分钟。所述步骤4中硅靶电源电流为15-25安，氧气流量为250-400标准毫升/分钟，氩气流量为250-350标准毫升/分钟，硬化层镀膜时间分别为5-10分钟，膜层厚度为90-110纳米。所述步骤5中硅靶电源电流为20-30安，钛靶或锆靶电流为15-20安，所述氧气流量为250-400标准毫升/分钟，氩气流量为250-350标准毫升/分钟，过渡层镀膜时间分别为15-30分钟，膜层厚度为400-600纳米。所述步骤6中靶电源电流为15-25安，氧气流量为200-350标准毫升/分钟，氩气流量为250-350标准毫升/分钟，装饰层的镀膜时间为20-35分钟，膜层厚度为400-600纳米。所述白色塑胶基材是指PC、PMMA或PET。该陶瓷白薄膜的制备方法基于以下条件UV炉能量为800-1000mj/cm2，配置有离子轰击电源系统、溅射电源系统、靶材和接入真空室的供气系统的真空磁控溅射镀膜机，白色塑胶基材置于真空度为大于I. 0X10—2帕的真空室。与现有技术相比，本专利技术的陶瓷白薄膜是通过喷涂及真空磁控溅射镀膜的方法制备，通过对白色塑胶基材进行离子轰击处理以增强白色塑胶基材的表面活性，依次沉积各层薄膜，在薄膜沉积过程中，通过镀膜参数的控制，获得成分均匀的、从里到外成分连续变 化的梯度薄膜或者成分交替变化的多层复合薄膜。本专利技术的复合薄膜及制备方法，对白色塑胶处理以后，可以得到陶瓷白的外观效果，既坚固又不易摔坏，美观耐用，极好地满足了电子消费产品的外观需求。具体实施例方式为了便于本领域技术人员的理解，下面对本专利技术作进一步的描述。，包括步骤步骤1，在白色塑胶基材表面喷涂由UV底漆形成的UV底层，在室温为10°C_35°C、湿度为30% -80%的环境下，将白色塑胶基材放到涂装机的自动线上进行自动化喷涂；步骤2，烘烤及固化，将完成喷涂的白色塑胶基材放入烤箱烘烤，烤箱温度为40-50°C，烤箱时间5-10分钟，再将完成烘烤的产品过UV炉固化；步骤3，将UV固化后的白色塑胶基材进行离子轰击处理；步骤4，在UV底层外镀由二氧化硅形成的硬化层，开启硅靶电源，硅靶电源电流为15-25安,打开娃祀电源的同时通入氧气和気气,氧气流量为250-400标准毫升/分钟,U1气流量为250-350标准毫升/分钟；步骤5，在硬化层外镀由硅钛或硅锆等混合氧化物形成的过渡层，其中，硅钛或硅锆质量比为8 2，硅靶电源电流为20-30安，钛靶或锆靶电流为15-20安，打开靶电源的同时通入氧气和氩气，氧气流量为250-400标准毫升/分钟，氩气流量为250-350标准毫升/分钟；步骤6，在过渡层外镀由氧化钛、氧化锆、五氧化二钽或五氧化二铌形成的装饰层，靶电源电流为15-25安，打开靶电源的同时通入氧气和氩气，氧气流量为200到350标准毫升/分钟，気气流量为250-350标准晕升/分钟。所述步骤I中UV漆粘度为7. 8-8. 2秒，喷枪气压为2. 0-3. 5公斤/平方厘米。所述步骤3中真空室的真空度为I. 5-2. 5帕，离子轰击电源系统电流为5安，脉冲方波的占空比为50% -75%，在频率40Hz的条件下进行等离子处理时间为10-20分钟。所述步骤4中硬化层镀膜时间分别为5-10分钟，膜层厚度为90-110纳米。所述步骤5中的过渡层镀膜时间分别为15-30分钟，膜层厚度为400-600纳米。所述所述步骤6中装饰层的镀膜时间为20到35分钟，膜层厚度为400-600纳米。所述白色塑胶基材是指PC(聚碳酸酯，Polycarbonate的缩写)、PMMA(即聚甲基丙烯酸甲酯，俗称有机玻璃)或PET(即聚对苯二甲酸类塑料，英文Polyethyleneterephthalate 的缩写)。所述陶瓷白薄膜的制备方法基于以下条件:UV炉能量为800-1000mj/cm2，配置有离子轰击电源系统、溅射电源系统、靶材和接入真空室的供气系统的真空磁控溅射镀膜机，白色塑胶基材置于真空度大于I. 0X10—2帕的真空室。与现有技术相比，本专利技术的陶瓷白薄膜是通过喷涂及真空磁控溅射镀膜的方法制备，通过对白色塑胶基材进行离子轰击处理以增强白色塑胶基材的表面活性，依次沉积各层薄膜，在薄膜沉积过程中，通过镀膜参数的控制，获得成分均匀的、从里到外成分连续变化的梯度薄膜或者成分交替变化的多层复合薄膜。为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例对本专利技术作进一步的描述。、实施例I本实施例在制备陶瓷白薄膜时，该制备方法基于以下条件，UV底漆涂装机、烤箱、UV炉以及真空磁控溅射镀膜机，UV炉能量为800mj/cm2，镀膜机配置有离子轰击电源系统、溅射电源系统、靶材和接入真空室的溅射气体和反应气体的供气系统，溅射气体为氩气，反应气体为氧气，塑胶基材置于真空室，且真空室的真空度为大于1.0X10_2帕，包括步骤步骤1，在白色塑胶基材表面喷涂由UV底漆形成的UV底层，在室温为10°C、湿度为30%的环境下，将白色塑胶基材放到涂装机的自动线上进行自动化喷涂；步骤2，烘烤及固化，将完成喷涂的白色塑胶基材放入烤箱烘烤，烤箱温度为40°C，烤箱时间5分钟，再将完成烘烤的产品过UV炉固化；步骤3，将UV固化后的白色塑胶基材进行离子轰击处理；、步骤4，在UV底层外镀由二氧化硅形成的硬化层，开启硅靶电源，硅靶电源电流调在15安，打开硅靶电源的同时通入氧气和氩气，氧气流量控制在250标准毫升/分钟，氩气流量为250标准晕升/分钟；步骤5，在硬化层外镀由硅钛或硅锆等混本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷白薄膜的制备方法，其特征在于包括步骤 步骤1，在白色塑胶基材表面喷涂由UV底漆形成的UV底层，将白色塑胶基材放到涂装机的自动线上进行自动化喷涂； 步骤2，烘烤及固化，将完成喷涂的白色塑胶基材放入烤箱烘烤，再将完成烘烤的产品过UV炉固化； 步骤3，将UV固化后的白色塑胶基材进行离子轰击处理； 步骤4，在UV底层外镀由二氧化硅形成的硬化层，开启硅靶电源，打开硅靶电源的同时通入氧气和氩气； 步骤5，在硬化层外镀由硅钛或硅锆等混合氧化物形成的过渡层，其中，硅钛或硅锆质量比为8 2，打开靶电源的同时通入氧气和氩气； 步骤6，在过渡层外镀由氧化钛、氧化锆、五氧化二钽或五氧化二铌形成的装饰层，打开靶电源的同时通入氧气和氩气。2.根据权利要求I所述的陶瓷白薄膜的制备方法，其特征在于所述步骤I中喷涂室温为10°C -35°C，湿度为30% -80%, UV漆粘度为7. 8-8. 2秒，喷枪气压为2. 0-3. 5公斤/平方厘米。3.根据权利要求2所述的陶瓷白薄膜的制备方法，其特征在于步骤2中的烤箱温度为40-50°C，烤箱时间5-10分钟。4.根据权利要求3所述的陶瓷白薄膜的制备方法，其特征在于所述步骤3中真空室的真空度为I. 5-2. 5帕，离子轰击电源系统电流为5安，脉冲方波的占空比为50% -75%,在频率40Hz的条件下进行等离子...

【专利技术属性】
技术研发人员：张锡涛，王长明，毕英慧，
申请(专利权)人：东莞劲胜精密组件股份有限公司，东莞华清光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：