超声波清洗装置以及方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能对待清洗物进行均匀且高效的清洗，进而提高清洗物的品质及降低成本的超声波清洗装置。该超声波清洗装置包括可容纳清洗液的清洗槽、支撑待清洗物并将其浸渍到清洗液中的清洗物支撑单元、以及对清洗槽内的清洗液施加超声波振动的振动施加单元。所述振动施加单元具有平面状的振动板、有规则地设置在该振动板上的多个超声波振动元件；所述清洗物支撑单元具有相对于振动板可平行放置多个待清洗物并支撑这些待清洗物的支撑面；该装置还包括使该振动施加单元和／或该清洗物支撑单元活动的可动单元，使得该振动板和该支撑面相对平行移动。另外，本发明专利技术还提供一种使用该超声波清洗装置的超声波清洗方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种超声波清洗装置，特别涉及一种利用放射到清洗液中的超 声波振动能量来清洗附着在待清洗物上的污渍的超声波清洗装置。技术背景由半导体芯片构成的电子部件和尺寸较小的精密部件等根据其用途要求具 有较高的清洁度，所以，制造之后作为产品出货或者组装到装置之前都需要进 行清洗。例如，对于磁盘来说，需要将低飞行的磁头滑块组装到磁盘装置中， 所以要求具有较高的清洁度，而且又是对定位精度要求较高的部件，所以要求 必须清洗干净。超声波清洗装置作为清洗上述电子部件等的装置，从前就使用。所谓的超 声波清洗就是，将超声波振动元件的振动传递给振动板，并将该振动放射到清 洗液中，利用振动产生的能量即由空穴作用(cavitation)产生的冲击波去除附着 在待清洗物上的脏污的一种清洗方法。下面将结合图22对因超声波振动而在清 洗液中发生的空穴作用进行说明。另外，如图21 (a)所示，超声波清洗装置在 容纳有清洗液210的清洗槽201的底面设置了超声波振动元件202,并在该超声 波振动元件的上方设置了用于支撑清洗物131的清洗物支撑座103。图22(a)是因超声波振动而在清洗液中发生的驻波U的理论本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种超声波清洗装置，包括可容纳清洗液的清洗槽、支撑待清洗物并将其浸渍到清洗液中的清洗物支撑单元、以及对清洗槽内的清洗液施加超声波振动的振动施加单元，其特征在于：　　　　所述振动施加单元具有平面状的振动板、以及有规则地设置在该振动板上的多个超声波振动元件；　　　　所述清洗物支撑单元具有相对于振动板可平行放置多个待清洗物并支撑这些待清洗物的支撑面；　　　　该装置还包括使该振动施加单元和／或该清洗物支撑单元活动的可动单元，使得该振动板和该支撑面相对平行移动。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：吉田利信，
申请(专利权)人：新科实业有限公司，
类型：发明
国别省市：HK[中国|香港]