【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于电子照相设备接触充电的充电构件、处理盒和电子照相设备。
技术介绍
为了可以充分和均匀地确保电子照相感光构件和充电构件之间的抵接辊隙，通常形成抵接电子照相感光构件从而使电子照相感光构件充电的充电构件以具有包含橡胶的弾性层。由于此类弹性层不可避免地包含低分子量组分，因此，低分子量组分会由于充电构件的长期使用而向充电构件的表面滲出，从而污染电子照相感光构件的表面。为了应对此类问题，专利文献I提议以下构造其中弹性层的外周面用无机氧化物涂层或无机-有机混 杂涂层覆盖以致可以抑制其低分子量组分向充电构件表面的滲出。通过该方式，与近来电子照相图像形成过程的速度増加相关，电子照相感光构件和充电构件彼此接触的时间变得相对短，这对于稳定地和确保地使电子照相感光构件充电是不利的。可以说，在该情况下，具有在其外周面上形成的意欲抑制低分子量组分渗出的厚膜的充电构件是对于稳定地和确保地使电子照相感光构件充电是不利的构造。引用列表专利文献专利文献I :日本专利申请特开2001-17364
技术实现思路
_7] 专利技术要解决的问题考虑到上述，本专利技术的目的在于提供ー种充电构件，所述充电构件实现抑制低分子量组分从其弾性层渗出至其表面与电子照相感光构件的带电性能之间的高水平的相容性。本专利技术的另一目的在于提供各自能够稳定地形成高品质电子照相图像的电子照相图像形成设备和处理盒。_9] 用于解决问题的方案根据本专利技术的ー个方面，提供ー种充电构件，其包括基体、弹性层和表面层，其中所述表面层包括具有Si-O-Ti键的聚合物，和所述聚合物具有由以下通式(I)表示的构成単元和由以...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.12.28 JP 2009-2989221.一种充电构件，其包括 基体； 弹性层；和 表面层， 其中 所述表面层包括具有Si-O-Ti键的聚合物；和 所述聚合物具有由以下通式(I)表示的构成单元和具有由以下通式(2)表示的构成单元 通式(I)2.根据权利要求I所述的充电构件，其中通式(I)的R1和R2各自独立地表示选自由以下通式(7)至(10)表示的结构的任一种 通式(7)3.根据权利要求I或2所述的充电构件，其中 在所述聚合物中钛原子数与硅原子数之比(Ti/Si)为0. I以上至5. 0以下。4.根据权利要求I至3任一项所述的充电构件，其中 所述聚合物包括具有由以下通式(11)表示的结构的可水解化合物和由以下通式(12)表示的可水解化合物的交联产物 通式(11) R33-Si (OR34) (OR35) (OR36) 通式(12) Ti (OR37) ...
【专利技术属性】
技术研发人员：黑田纪明，长岭典子，友水雄也，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：
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