铟锡氧化物层的涂布方法技术

一种铟锡氧化物层的涂布方法，包含有：ａ）备置铟锡氧化物的混合液以及一基板：该铟锡氧化物的混合液中至少含有多数的铟锡氧化物粒子以及溶剂，其中该溶剂属液态物质；ｂ）将该铟锡氧化物的混合液均匀涂覆于该基板上；ｃ）以预定干燥方式将该铟锡氧化物的混合液中的液态物质移除；以及ｄ）干燥后即于该基板上形成预定厚度的一层铟锡氧化物。由上述步骤，可在常温常压的环境下进行涂布作业，而可较公知的溅镀方式更为节省成本并可提高产能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是与透明导电物的涂层技术有关，特别是指一种铟锡氧化物层 的涂布方法。
技术介绍
按，现有的显示装置中，以平板显示器而言，例如液晶屏幕、行动电 话屏幕，在制造时必须使用到透明导电层的。公知技术中是使用铟锡氧化物(ITO)做为透明导电层。而现有的铟锡氧化物的涂层方法中，主要是使用ITO靶材，经由溅镀 沉积(sputter deposition)来形成的。例如，中国台湾专利第1253477号「氧化铟锡层及其制造方法」专利技术 专利，其专利说明书中关于
技术介绍
，即已提到了 Ishibashi et al.的论文 (Low Resistivity Indium- Tin Oxide Transparent Conductive Films, I. Effect Of Introducing H20 Gas or H2-Gas During Direct Current Magnetron Sputtering,) ， J Vac. Sci. Technol. A 8(3) May/June 1990，该论文介绍了关于 使用直流电磁电管溅镀的技术。另外，前述1253477号专利的背景本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种铟锡氧化物层的涂布方法，包含有下列步骤：　ａ）备置铟锡氧化物的混合液以及一基板：该铟锡氧化物的混合液中至少含有多数的铟锡氧化物粒子以及溶剂，其中该溶剂属液态物质；　ｂ）涂覆：将该铟锡氧化物的混合液均匀涂覆于该基板上；　ｃ）干燥：以预定干燥方式将该铟锡氧化物的混合液中的液态物质移除；以及　ｄ）成形：干燥后即于该基板上形成预定厚度的一层铟锡氧化物。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：简永杰，李炳寰，
申请(专利权)人：东捷科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]