【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在半导体产业等中、适合作为制造在高温和减压的环境下使用的管路或坩埚等的合成石英玻璃制品的原料的、高纯度的合成非晶态二氧化硅粉末。
技术介绍
以往,在半导体用途的单晶制造中所使用的坩埚或夹具类是以将天然石英或硅砂粉碎、提纯得到的石英粉作为原料来制造的。但是,天然石英或硅砂含有各种金属杂质,即使进行上述提纯处理也不能完全除去金属杂质,因此纯度上并不令人十分满意。另外,随着半导体的高集成化的进步,对于作为材料的单晶的品质要求日益提高,该单晶的制造中使用的坩埚或夹具类也要求是高纯度品。因此,代替天然石英或硅砂,而以高纯度的合成非晶 态二氧化硅粉末作为原料的合成石英玻璃制品受到人们的关注。作为制造该高纯度合成非晶态二氧化硅粉末的方法,公开有用水将高纯度的四氯化硅水解,将生成的硅胶干燥、整粒、烧成,获得合成非晶态二氧化硅粉末的方法(例如参照专利文献I)。还公开了在酸和碱的存在下,将硅酸酯等的烷氧基硅烷水解,使其凝胶化,将所得凝胶干燥、粉碎,然后进行烧成,获得合成非晶态二氧化硅粉末的方法(例如参照专利文献2、3)。通过上述专利文献1-3所述的方法制造的合成非晶态 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:植田稔晃,
申请(专利权)人:三菱综合材料株式会社,
类型:发明
国别省市:
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