本发明专利技术涉及曝光机控制领域，提供了一种曝光机台及曝光机台中自由设定遮板的方法，通过将小型驱动单元作为目标标记遮板和间距测量窗口遮板的驱动，能够分别控制两种遮板在各方向上的遮挡区域，从而解决了以往光罩图案边缘设计必须完全服从于曝光机遮板单一遮挡距离的限制，实现了对光罩图案的精确控制，并可以在新的光罩开发设计时，将光罩的图案区域尽可能的向边缘延伸。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及曝光机控制领域，特别涉及一种。
技术介绍
彩色滤光片(ColorFilter, CF)作为 LCD (Liquid Crystal Display,液晶显示器)实现彩色显示的关键零部件，其性能(主要为开ロ率、色纯度、色差)直接影响到液晶面板的色彩还原性、亮度、对比度。目前，彩色滤光片一般的层次结构基本为玻璃基板、BM(黑矩阵，Black Matrix)、彩色光阻(RGB)、保护层(0C, OverCoat) > ITO (IndiumTin Oxides,铟锡氧化物)透明导电膜等。而彩色滤光片的传统制程主要有染色法(Dyeing Method)、颜料分散法(Pigment DispersedMethod)、电沉积法(Electro Deposition Method)、印刷法(PrintingMethod)等。其中，染色法使用染料作为着色剂，其制程主要有涂布、曝光显影、染色固化等步骤，利用该制程在已经形成BM图案的玻璃基板上分三次分别制备的红(R)、绿(G)、蓝(B)三色光阻。染色法制得的CF价格便宜，色彩鲜艳，透过率高，但是耐热耐光性差，不适合高档LCD。电沉积法以颜料为着色剂，先通过曝光显影得到图案化的IT0，然后在ITO上分别沉积R、G、B三色光阻，然后再通过涂布、曝光、显影得到BM。电沉积法制备彩色光阻只需曝光显影一次，但在成本上不占有优势。印刷法以颜料为着色剂，其主要制程是滚筒顔料附着、印刷，在已经形成BM图案的玻璃基板上制得彩色光阻。印刷法制程简单，但精度不高。颜料分散法以颜料为着色剂，其主要制程为涂布、曝光、显影，制备R、G、B三色光阻需要经过三次该制程。顔料分散法エ艺相对简单，耐候性好，目前中小尺寸的彩色滤光片绝大部分采用该方法。可以看出，在多种制作CF的エ艺中，曝光显影都是必不可少的步骤，该步骤目前广泛采用光刻技术进行，主要是利用曝光机将光罩(Mask)上面的图案(Pattern)投影到玻璃基板的光阻上面，然后通过显影机最終在玻璃基板上面复制了光罩(Mask)的图案。以颜料分散法为例，其中，BML(Black Matrix Layer)是CFエ艺流程的第一歩，在BML中，当素玻璃从洗净机出来后,会首先进行涂布机涂布,经过预焙(Prebake)之后涂满BM光阻的玻璃进入曝光机进行曝光。BML曝光机的作用是(I)在玻璃上面形成BM ; (2)打上各种标记，包括用于对位的RGB对位标记(Alignment Mark),其中，通过光罩上的目标标记(Target Mark)与这些对位标记相对应。随后，在形成了 BM的基板上形成R、G、B着色层，此时曝光机的动作，以接近式(Proximity)曝光机为例通常为预对位(Pre-alignment)—间距控制(Gap Control)—对位(Alignment)—曝光(Exposure)。以往，在CF制造过程中，已知的曝光装置中，如图3所示，通常采用将基板搬运(移动基台或通过滚轮带动基板)到曝光部分，在曝光部分透过光罩将来自光源部分的光照射到基板上的规定区域从而进行第I次曝光。接着，使所述基板再次移动规定的距离从、而将基板在曝光部分再次定位后，在第I次未能曝光的区域进行第2次曝光。重复这样的曝光从而在大型基板的整个面上转印光罩的图案。曝光部分的间距(光罩下表面和玻璃基板上表面之间的距离)大小是通过间距控制进行的，这主要依靠间距传感器304识别来自光罩302上间距测量窗ロ 308的反射信号来确定。随后，在曝光前还需要进行曝光部分的精密定位，这是通过BML先前打下的对位标记进行的。曝光机在进行每次(Shot)曝光前需要将光罩302上面的RGB目标标记307和玻璃上面的RGB对位标记对齐，以避免因移动或间距控制造成的基板、光罩及光源间细微的角度或位置偏差。在曝光装置在进行曝光时，如果不使用遮板(Shade)进行遮挡，光罩302上面用于间距控制的间距测量窗ロ(Gap Window) 308和用于对位的目标标记307通常会在R、G、B、PS等エ序中连续被曝光，由于玻璃基板上采用负性PR胶，则随着R、G、Bエ序的进行，连续 曝光会导致玻璃基板上BML形成的测量窗ロ图案和对位标记反复重叠，影响后续过程的对位以及最后CF基板和TFT (Thin FilmTransistor，薄膜晶体管)基板的粘合。因此现有技术中，曝光机在进行曝光吋，还会采用遮板305、306对间距测量窗ロ308和目标标记307区域进行遮挡。以往曝光机用来遮挡光罩302上面间距测量窗口和目标标记的遮板通常是搭载在传感器载体301上面一起运动的。由于各遮板不能単独移动，遮板位置相对固定不能自由设置，大部分曝光机中均要求间距测量窗ロ遮板306和目标标记遮板305在进行遮挡时的中心线区域必须相同，这就要求光罩设计时的间距测量窗ロ、目标标记及图案必须与遮板能够遮挡的区域严格对应，明显制约了光罩的设计。尤其在光罩图案的边缘区域，比如在Dummy PS(预置的柱状隔垫物)区域，就不能过多地向边缘延イ申，否则会导致Dummy PS处于遮板的边缘灰区而发生形变，影响液晶的填充。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题针对现有技术的缺点，本专利技术为了解决现有曝光机中遮板固定设置限制了在边缘区域进行光罩图案(如Drnnmy PS)设计的问题，采用专门的驱动装置驱动相应的遮板，使得遮板遮挡区域可灵活设定，以适应更宽泛的光罩设计。(ニ)技术方案为此解决上述技术问题，本专利技术具体地采用如下技术方案进行首先，本专利技术提供一种曝光机台，该曝光机台包括至少ー个目标标记遮板405和至少ー个间距测量窗ロ遮板406，用于在曝光时对光罩402上的相应部位进行遮挡；至少ー个驱动装置，在所述驱动装置的驱动下，使得所述目标标记遮板405和所述间距测量窗ロ遮板406在各方向上运动。优选地，还包括至少ー个传感器载体401，用于搭载所述目标标记遮板、所述间距测量窗ロ遮板和所述驱动装置。优选地，所述至少一个驱动装置包括传感器载体的驱动单元。优选地，所述传感器载体的驱动单元使得所述目标标记遮板和所述间距测量窗ロ遮板在第一方向上单独运动、在垂直于所述第一方向的第二方向上一起运动。优选地，所述传感器载体还搭载至少ー个用于对位的摄像装置403以及至少ー个用于间距控制的间距传感器404。优选地，所述目标标记遮板与所述摄像装置对应设置，所述间距测量窗ロ遮板与所述间距传感器对应设置。优选地，所述至少一个驱动装置还包括至少ー个第一驱动单元409，所述第一驱动単元与所述目标标记遮板对应设置，使得所述目标标记遮板在各方向上単独运动。优选地，所述至少一个驱动装置还包括至少ー个第二驱动单元410，所述第二驱动单元与所述间距测量窗ロ遮板对应设置，使得所述间距测量窗ロ遮板在各方向上单独运动。 优选地，所述第一驱动单元和所述第二驱动单元为线性马达。优选地，所述线性马达的控制精度为0. I I ii m。同时，本专利技术还提供一种曝光机台中自由设定遮板的方法，该方法包括步骤在至少ー个驱动装置的驱动下，使得至少ー个目标标记遮板405和至少ー个间距测量窗ロ遮板406在各方向上运动；控制所述目标标记遮板和所述间距测量窗ロ遮板对光罩402上的相应部位进行遮挡；对控制遮挡后的光本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种曝光机台，其特征在于，所述曝光机台包括 至少ー个目标标记遮板(405)和至少ー个间距测量窗ロ遮板(406)，用于在曝光时对光罩(402)上的相应部位进行遮挡； 至少ー个驱动装置，在所述驱动装置的驱动下，使得所述目标标记遮板(405)和所述间距测量窗ロ遮板(406)在各方向上运动。2.根据权利要求I所述的曝光机台，其特征在于，还包括至少ー个传感器载体(401)，用于搭载所述目标标记遮板、所述间距测量窗ロ遮板和所述驱动装置。3.根据权利要求2所述的曝光机台，其特征在于，所述至少一个驱动装置包括传感器载体的驱动单元。4.根据权利要求3所述的曝光机台，其特征在于，所述传感器载体的驱动单元使得所述目标标记遮板和所述间距测量窗ロ遮板在第一方向上単独运动、在垂直于所述第一方向的第二方向上一起运动。5.根据权利要求2所述的曝光机台，其特征在于，所述传感器载体还搭载至少ー个用于对位的摄像装置(403)以及至少ー个用于间距控制的间距传感器(404)。6.根据权利要求5所述的曝光机台，其特征在于，所述目标标记遮板与所述摄像装置对应设置，所述间距测量窗ロ遮板与所述间距传感器对应设置。7.根据权利要求1-6任一所述的曝光机台，其特征在于，所述至少一个驱动装置还包括至少ー个第一驱动单元(409)，所述第一驱动单元与所述目标标记遮板对应设置，使得所述目标标记遮板在各方向上単独运动。8.根据权利要求7所述的曝光机台，其特征在于，所述至少一个驱动装置还包括至少ー个第二驱动单元(410)，所述第二驱动单元与所述间距测量窗ロ遮板对应设置，使得所述间距测量窗ロ遮板在各方向上単独运动。9.根据权利要求8所述的曝光机台，其特征在于，所述第一驱动单元和所述第二驱动単元为线性马达。10.根据权利要求9所述的曝光机台，其特征在于，所述线性马达的控制精度为O.I I μ m011.一种曝光机台中自由设定遮板的方法，其特征在于，该方法包括步骤 在至少ー个驱动装置的驱动下，使得至少ー个目标...
【专利技术属性】
技术研发人员：张力舟，徐先华，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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