【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种真空阴极电弧中的电中性的液滴和宏观颗粒的过滤方法，具体来讲是一种使用磁场来弯曲真空阴极电弧等离子体，过滤掉电中性的液滴和宏观颗粒的磁过滤方法，属于材料的真空表面改性领域。
技术介绍
材料真空阴极电弧镀膜技术发展到今天，已经取得了令人瞩目的成果，成为表面改性领域应用最为广泛的镀膜技术。但是，该镀膜方法目前仍然存在有一些问题，主要表现在由于该方法依靠的是真空阴极电弧蒸发阴极材料获得电弧等离子体，在电弧阴极斑点处具有很大的电流密度(达106-108A/cm2)，因此，即使在真空下，真空电弧的阴极斑点也具有很高的温度，使得阴极材料熔化，在阴极斑点处形成微小的熔池，且在熔池中也产生的阴极材料蒸汽，因此在阴极斑点中心与外部有很大的压差，使得熔池中的液滴发生飞溅或者使得阴极靶材崩裂，从而产生一些液滴和宏观颗粒。这些液滴和宏观颗粒到达基片表面，将对膜层造成污染，影响改性层的应用效果，造成工件表面粗糙，膜的性能不均匀等不利因素。近年来，世界上发展了很多除去液滴和宏观颗粒的方法，专利申请人对多种过滤液滴和宏观颗粒的方法进行了总结(见申请人发表在真空杂志上的文献《阴...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
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