一种PVD超黑涂层制造技术

本发明专利技术提供一种PVD超黑涂层，在金属材质的基体上依次有厚度为0.05-0.15um的金属膜层，厚度为0.05-0.15um的磁控溅射复合层，厚度为0.10-0.20um的衔接底层涂层，厚度为0.20-1.00um的金属化合物过渡层，厚度为0.20-0.50um的化合面层。本发明专利技术的优点在于所述的PVD超黑涂层的颜色黑度深，L值可以达到26，膜层结合力高，表面光洁度高，膜层致密性高，适合大批量量产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及PVD真空离子镀膜领域，特别涉及溅射、等离子电弧镀膜机的改进后形成的超黑涂层。
技术介绍
PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。PVD的方法也就是经由直接的传质将所需体沉积的物理材料传递至基体表面。PVD (物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。近十多年来，真空离子镀技术的发展是最快的，它已经成为了当代最先进的表面处理方法之一。通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。随着人们环保意识的提高，PVD镀膜技术越来越受到重视，其中的各种镀膜技术都有得到广泛的应用。等离子电弧(俗称电弧、多弧)沉积是指在一定的真空条件下，在靶材表面(所需要沉积的材料)产生弧光放电，从而引起靶材的物态变化，同时喷射出靶材原子、离子、熔融颗粒；优点沉积离子的蒸发速率高、溅射的能量高；缺点膜层较为粗糙；在制备金属碳化物涂层，由于靶材表面中毒，弧光不稳，甚至灭弧。溅射沉积是指在一定的真空条件下在靶材表面产生辉光放电，同时产生高能离子或中性原子来碰撞靶材，通过动能的传递导致某些物料从靶材表面溅射出来；优点沉积的颗粒主要以原子为主，沉积的涂层较光滑；缺点结合牢度较电弧差。气体离子源的应用也越来越受到较多的关注；气体离子源具有方向性，在其表面产生高密度的气体的等离子体；可以作为离子轰击工件清洗使用；也可以涂层沉积源来使用，例如可以用来制作DLC涂层；或者作为反应气体的离化源，作辅助沉积使用。本专利技术中的涂层颜色以LAB来定义。该颜色定义标准为CIE1976年制定。CIE LAB色空间是基于一种颜色不能同时既是蓝又是黄这个理论而建立。所以，单一数值可用于描述红/绿色及黄/蓝色特徽。当一种颜色用CIE L*a*b*时，L*表示明度值；a*表示红/绿及b*表示黄/蓝值(见下表)。本专利技术颜色使用X-Rite SP60测量。权利要求1.一种PVD超黑涂层，在基体上依次有如下膜层 厚度为O. 05-0. 15um的金属膜层； 厚度为O. 05-0. 15um的磁控溅射复合层； 厚度为O. 10-0. 20um的衔接底层涂层； 厚度为O. 20-1. OOum的金属化合物过渡层； 厚度为O. 20-0. 50um的化合面层。2.如权利要求I所述的PVD超黑涂层，其特征在于，所述的基体为金属材料，如铁、铁合金、铝、铝合金、锌、锌合金、不锈钢或铜等材质。3.如权利要求I所述的PVD超黑涂层，其特征在于，所述的金属膜层采用Ti、Cr、不锈钢等材料中的一种或几种。全文摘要本专利技术提供一种PVD超黑涂层，在金属材质的基体上依次有厚度为0.05-0.15um的金属膜层，厚度为0.05-0.15um的磁控溅射复合层，厚度为0.10-0.20um的衔接底层涂层，厚度为0.20-1.00um的金属化合物过渡层，厚度为0.20-0.50um的化合面层。本专利技术的优点在于所述的PVD超黑涂层的颜色黑度深，L值可以达到26，膜层结合力高，表面光洁度高，膜层致密性高，适合大批量量产。文档编号C23C14/06GK102628156SQ20121010180公开日2012年8月8日 申请日期2012年4月9日 优先权日2012年4月9日专利技术者张笑, 朱宏辉 申请人:上海仟纳真空镀膜科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张笑，朱宏辉，
申请(专利权)人：上海仟纳真空镀膜科技有限公司，
类型：发明
国别省市：