自清洁抗堵旋流式液体分布喷头制造技术

本实用新型专利技术提供了一种自清洁抗堵旋流式液体分布喷头，它主要是通过优化喷头结构和设置抗堵旋流内件及自清洁元件来改善喷头抗堵性和液体分布效果，从而使液体的分布更均匀，运行周期更长。其结构由连接段、第一缩径段、第二直管段、第二缩径段、喉道和扩张段依次同轴串联连接而成，流体以最经济合理的流速，最大限度的避免生垢，经过旋流内件的整流，以较大的喷射角均匀地分布，同时，整流后的流体，带动自清洁元件旋转刮除喷头内壁面上可能形成的结垢，达到了最好的抗堵效果。（*该技术在2008年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种新型的自清洁旋流式喷头，属于对液体分布喷头的结构改进。液体分布喷头广泛应用于填料塔、除尘塔、反应器等气-液或液-固分离和反应设备的一种液体分布构件。它具有结构简单、安装方便等优点。液体分布均匀与否及其运行周期的长短直接影响上述设备的性能好坏。目前液体分布喷头主要有旋芯式、莲蓬式、宝塔式、飞溅式、侧向进料旋流式等，其中侧向进料旋流式、宝塔式、飞溅式压降小、抗堵塞、操作弹性较大，但由于离心作用或飞溅盘液体分布平面上总存在较大的空白区，造成液体分布不均匀；旋芯式、莲篷式压降也较小，液体分布均匀，但由于结构设计或操作不当，经常发生堵塞，影响设备的长周期运行；空心锥旋芯式喷嘴压降较小，喷射角大、应用最大、但液体分布平面总存在着较大的空白区，抗堵性较差。本技术的目的就在于避免现有技术的不足，而提供一种新型的自清洁抗堵旋流式液体分布喷头。本技术的目的是通过优化喷头内部尺寸和设计抗堵旋流内件及自清洁元件来实现的，它能改善液体分布喷头抗堵性和液体分布效果，使液体分布均匀，并且长周期运行。它主要由喷头、抗堵旋流内件、自清洁元件等构成，其特征是，喷头由接口段、第一收缩段、第二直管段、第二收缩段、喉道和扩张段自上而下依次同轴串联连接，第二直管段内安装X型交叉旋流片，在旋流片的上部各开有一个辅助分布孔，第二缩径段、喉道和扩张段内安装自清洁元件，自清洁元件是锥形弹簧及其拉直段，锥形弹簧安装在第二缩径段内，弹簧的拉直段穿过喉道伸到扩张段内作为清扫段。本技术所提出的喷头，由于采取二次缩径，并在第一次缩径后的直管段中安装了抗堵旋流内件，即X型交叉旋流片，在第二次缩径段设置了自清洁弹簧，清扫段穿过喷头喉道伸到扩张段。这样，需分布的流体经液体分布器连接管以一定速度流入到喷嘴连接段后，经第一缩径段加速后，以湍流态进入第二直管段和抗堵旋流内件接触，从生垢机理上破坏了生垢条件，防止了旋流内件的结构堵塞，并减轻了第二缩径段和喉道的结垢现象，同时增大了扩散角，经抗堵旋流内件整流后以较高的旋流速度进入第二缩径段，带动自清洁元件(弹簧)旋转，自清洁元件的锥形弹簧段和清扫段随时刮除第二缩径段喉道及扩张段内可能形成的结垢物，保持其清洁；抗堵旋流内件设计成X型交叉旋流片，缩短了旋流片与液体接触时间，而经过加速的流体又弥补了旋流强度过小的不足，相对增大了喷散角，旋流片的旋流面上开有辅助分布孔，调整了旋流分布，保证了液体分布平面不留空白区，分布均匀。以下结合附图和实施例来详细描述依据本技术所提供的喷头的具体结构。附图说明图1是本技术的结构示意图。图2是本技术所提出的喷头中抗堵旋流元件的结构示意图。实施例，本技术由接口段1、第一缩径段2、第二直管段3、第二缩径段5、喉道7和扩张段8依次同轴串联连接而成，接口段1为直管段，管径50-100mm，第一缩径段2为锥形结构，锥顶角25°，高度30-100mm，第二直管段3内安装抗堵旋流元件4，抗堵元件4设计成X型交叉旋流片11，在二个旋流片的上旋流面中各设计有一个直径为5-10mm的辅助分布孔12，第二缩径段5也为锥形结构，其锥顶角为30°，高度为20-40mm，喉道7为长度等于10-20mm的直管，扩张段8亦为锥形结构，其锥顶角为10-20°，高度为40-80mm，第二缩径段5内设置锥形弹簧6，作为自清洁元件的清洁段，将弹簧6的一端拉直，穿过喉部7伸到扩张段8，作为清扫段。本技术所提供的喷头具有以下优点(1)抗堵性强，不存在液体滞止区，具有自清洁功能，彻底解决了喷头结垢堵塞的难题；(2)液体分布均匀，喷头压降小、旋流强度大，(3)操作弹性适中，能满足各种工业生产需要；(4)结构简单、成本低、安装检修方便。权利要求1．自清洁抗堵旋流式液体分布喷头，由连接段(1)、第一缩径段(2)、第二直管段(3)、第二缩径段(5)、喉道(7)和扩张段(8)依次同轴串联连接而成，其特征是，在第二直管段(3)内安装抗堵旋流元件(4)，第二缩径段(5)内设置自清洁元件(6)，自清洁元件的清扫段穿过喉道(7)伸到扩张段(8)。2．根据权利要求1所述的液体分布喷头，其特征在于所说的抗堵旋流元件(4)设计成X型交叉旋流片，在旋流片的上旋流面各开有一个辅助分布孔。3．根据权利要求1所述的液体分布喷头，其特征在于所说的自清洁元件(6)是锥形弹簧，其清扫段即为弹簧的拉直段。专利摘要本技术提供了一种自清洁抗堵旋流式液体分布喷头,它主要是通过优化喷头结构和设置抗堵旋流内件及自清洁元件来改善喷头抗堵性和液体分布效果,从而使液体的分布更均匀,运行周期更长。其结构由连接段、第一缩径段、第二直管段、第二缩径段、喉道和扩张段依次同轴串联连接而成,流体以最经济合理的流速,最大限度的避免生垢,经过旋流内件的整流,以较大的喷射角均匀地分布,同时,整流后的流体,带动自清洁元件旋转刮除喷头内壁面上可能形成的结垢,达到了最好的抗堵效果。文档编号B05B1/02GK2319128SQ9820215公开日1999年5月19日 申请日期1998年3月13日 优先权日1998年3月13日专利技术者田原宇, 卢洪刚, 王立英, 周树强 申请人:田原宇本文档来自技高网...

【技术保护点】
自清洁抗堵旋流式液体分布喷头，由连接段（１）、第一缩径段（２）、第二直管段（３）、第二缩径段（５）、喉道（７）和扩张段（８）依次同轴串联连接而成，其特征是，在第二直管段（３）内安装抗堵旋流元件（４），第二缩径段（５）内设置自清洁元件（６），自清洁元件的清扫段穿过喉道（７）伸到扩张段（８）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：田原宇，卢洪刚，王立英，周树强，
申请(专利权)人：田原宇，
类型：实用新型
国别省市：37[中国|山东]