一种晶体硅纳米-微米复合绒面的制备方法技术

本发明专利技术涉及一种晶体硅纳米-微米复合绒面的制备方法。其技术特征在于先将晶硅硅片进行清洗、制绒，形成微米级绒面；然后在硅片表面均匀覆盖一层非连续纳米级贵金属粒子；再用化学腐蚀液选择性腐蚀硅片表面，形成纳米级绒面；最后用化学溶液清洗去除贵金属粒子。使用该方法制备的复合绒面同时存在微米级和纳米级结构，绒面结构更加精细，大大提高了硅片表面的陷光效果，能有效提高电池的短路电流，从而提高电池光电转换效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
工业上规模化生产晶硅太阳能电池的重点方向是降低电池生产成本和提高电池效率。在提高电池效率方面，减少电池受光面对光的反射，增加电池对光的吸收是提高电池效率的有效手段之一。增加电池对光吸收的方法主要有三种一是在电池表面覆盖减反射膜，减少光的反射；二是在电池表面生长宽带隙的异质层，增加对光的光谱响应范围；三是在电池表面制备各种绒面，制造陷光效果，减少光的反射。其中，工业生产上制备的绒面其陷光效果有很大的改进空间。常规生产晶硅太阳能电池对于绒面的制备，一般采用酸腐蚀和碱腐蚀两种方法，波长范围400nm IlOOnm测试其所制备的绒面反射率在12 25%之间，也即照射到电池表面的太阳光，仍有12%以上的光线被反射出去，没有被太阳能电池利用。为了更充分地利用太阳光，降低电池受光面对光的反射率，人们研究出了很多新型制绒方法，如反应离子刻蚀法、光刻法、机械刻槽法等等，但却存在容易产生损伤层、生产成本高昂等问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于通过使用一种低成本的化学方法，在硅片表面制备纳米-微米复合绒面，来加强电池表面的陷光效果，增加电池对光的吸收，减少光的反射损失，提本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨雷，何晨旭，凌振江，殷海亭，王冬松，王步峰，
申请(专利权)人：润峰电力有限公司，
类型：发明
国别省市：