【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及保持要进行曝光等加工处理的基板的工作台及使用该工作台的曝光装置，尤其涉及可吸附保持产生翘曲的晶圆等基板(工件)的工作台及使用该工作台的曝光装置。
技术介绍
在制造半导体、印刷基板、液晶基板等(以下也称为工件)的工序中，进行曝光等的加工处理时，为了使工件不造成偏位而使用吸附保持工件的工作台。图6表示具备如上述的工作台的曝光装置的概略结构。曝光装置10由射出紫外线的光照射部I、形成有图案的掩模M、保持该掩模M的掩模台2、保持涂布了抗蚀剂的晶圆或印刷基板等工件W的工作台4、以及在保持在工作台4 上的工件W上投影掩模M的图案像的投影透镜3等构成。此外，曝光装置中，也有不具备投影透镜的曝光装置。光照射部I具备放射出含紫外线的光的灯la、以及反射来自灯Ia的光的镜子Ib坐寸ο工作台4的表面形成有真空吸附槽4a，并设有与该真空吸附槽连通的多个真空吸附孔4b。工作台4与配管11连接，在保持工件W时，从该配管11经由真空吸附孔4b对真空吸附槽4a赋予真空，此外在将工件W从工作台4卸下时，从该配管11经由真空吸附孔4b 向真空吸附槽4a供给空气。简单说明曝光装置的动作...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
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