下陷印刷釉及其制作方法技术

本发明专利技术提供了一种下陷印刷釉及其制作方法，所述下陷印刷釉，由如下重量百分比的组分组成：低温溶剂40～65％，石英20～40％，五氧化二钒15～20％。本发明专利技术下陷釉可以当做普通印刷釉参合在印花花釉中印刷于未烧面釉上，不影响花釉发色，对于下陷深浅度可以根据参合量来控制，需要下陷深度深加一些，需要下陷深度浅则少加一些。本发明专利技术不需要特殊的模具，只是在施了釉但尚未釉烧的釉面上印上含有本发明专利技术材料的图案，釉烧后便在釉面上产生了具有凹凸感的图案。用这种方法产生的凹凸感图案，立体感强，色彩丰富，工艺简单，成本低廉，装饰效果新颖，适合工厂产业化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种陶瓷釉面。
技术介绍
陶瓷釉，是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层。是一种用于陶瓷产品。目前，通常的陶瓷釉面，其图案平滑，缺乏立体感，显得呆板。为使陶瓷釉面产生具有立体感的凹凸浮雕图案，解决的方法是，将原料注入模具和压机内或将原料放入特定的模具内，通过机械成型得到坯体，再经上釉和烧成制得凹凸感的地面装饰砖。显而易见，这种方法由于需要特定的模具，这就给生产上带来了增加设备投资及工艺复杂化的问题。中国专利技术专利申请公开说明书CN1535849A公开一种使陶瓷釉面产生凹凸浮雕团的方法，该方法存在两方面的缺陷，一是素坯需要进行抛光处理，因此对素坯的强度要求比没进行抛光的要高；二是由于贴纸是在未烧面釉下面，假如面釉釉烧后是白色不透明那印刷于未釉烧面釉上的图案和面釉底下的贴纸图案无法完美搭配；三是需要将涂料印刷在贴纸上并将贴纸贴于素坯上，再经850°C排除贴纸，此种方法限制多，需要增加设备和提高坯体强度，加工成本高，无法大量生产等缺点。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种，以克服现有技术存在的上述缺陷。所述的下陷印刷釉，由如下重量百分比的组分组成低温溶剂40 65%石英20 40%五氧化二钒15 20%以上各个组分的百分比之和为100%。所述低温溶剂由如下重量百分比的组分组成PbO60 70%MgO0.1 1.0%TiO20.1 1.0%Al2O31 3%SiO227 31%K2O1 2%Na2O0.1 1.0%以上各个组分的百分比之和为100%。优选的，所述低温溶剂由如下重量百分比的组分组成PbO65.15%MgO0.51%；TiO20.47%；Al2O32.52%；SiO229.39%；K2O1.57%Na2O0.39%。所述低温溶剂，是这样制备的将铅丹、滑石、长石、二氧化钛和石英分别球磨至120目筛网全过，过筛混1240 "C--1250°C下煅烧45min 60min小时，获得低温溶剂；其中各个组分的重量用量为铅丹60-、70%滑石1 5%长石5 10%二氧化钛0.1 2%石英20-、30% 获得的低温溶剂，其中各个组分的重量百分比为PbO60 70%MgO0.1 1.0%TiO20.1 1.0%Al2O31 3%SiO227 31%K2O1 2%Na2O0.1 1.0%以上各个组分的百分比之和为100%。所述的下陷印刷釉的制造方法，包括如下步骤将低温溶剂、石英和五氧化二钒混合，再加混合料总重量的30 40 %的水球磨成细度为325目筛余O 0.3% (重量)，然后烘干，粉碎至细度为120目筛余0(重量)的细粉，即为产品。其中，各个组分百分比为低温溶剂40% 65%石英20% 40%五氧化二钒15% 20%所述下陷印刷釉的使用方法，包括如下步骤将下陷印刷釉加入印刷花釉中，参合量多少视需要下陷深度来决定，下陷深度深则多加点，下陷深度浅则少加点，一般下陷印刷釉参合的重量比例为10% 90% ；所述印刷花釉为本领域公知的陶瓷釉面； 然后将下陷印刷釉和印刷花釉的混合物，采用丝网网版，在施了釉但尚未釉烧的釉面上印上含有本专利技术材料的图案，，在温度为1140 1188°C进行烧制，烧成时间为45 60min ；所获得的陶瓷产品，表面的图案，将产生凹凸，使产品产生立体感很强的凹凸感。本专利技术下陷釉可以当做普通印刷釉参合在印花花釉中印刷于未烧面釉上，不影响花釉发色，对于下陷深浅度可以根据参合量来控制，需要下陷深度深加一些，需要下陷深度浅则少加一些。本专利技术不需要特殊的模具，只是在施了釉但尚未釉烧的釉面上印上含有本专利技术材料的图案，釉烧后便在釉面上产生了具有凹凸感的图案。用这种方法产生的凹凸感图案，立体感强，色彩丰富，工艺简单，成本低廉，装饰效果新颖，适合工厂产业化生产。具体实施例方式实施例1低温溶剂的制备将铅丹、滑石、长石、二氧化钛和石英分别球磨至120目筛网全过，过筛混合，在 1250°C下煅烧45min，获得低温溶剂，其中各个组分的重量百分比为PbO 65. 15%;Mg0 0. 51%;Ti02 :0. 47%;A1203 :2. 52%;Si02 :29. 39%;K20 :1. 57%； Na2O :0. 39%。原料的重量百分比为铅丹70%，滑石1%，长石5%，二氧化钛？ 0.5%，石英？ 23.5%;下陷印刷釉的制备将上述制备的低温溶剂、石英和五氧化矾混合，加入混合物总重量30 %的水，球磨成细度为325目筛余0的物料，烘干，粉碎至细度为120目筛余0，获得下陷印刷釉；各个组分的重量配比为低温溶剂40%，石英40%，五氧化二钒20% ；使用方法将制作好的下陷印刷釉，按照下陷印刷釉花釉=1 10的重量比混合，然后采用丝网网版，将混合好的参合下陷印刷釉的花釉印在未烧的釉面上，在烧成温度为1140°C， 烧成周期为60min烧制，获得陶瓷瓷砖产品，其中，有参合下陷印刷釉的图案会凹下去，没有参合下陷印刷釉的图案会凸起来，产生立体感很强的凹凸感。实施例2将铅丹、滑石、长石、二氧化钛和石英，分别球磨至120目筛网全过，混合，在 1240°C下煅烧60min小时，获得低温溶剂，其中各个组分的重量百分比为PbO 68. 35%;Mg0 0. 27%;Ti02 :0. 18%;A1203 :1. 48%;Si02 : 27 . 26%;K20 :0. 68%； Na2O :1. 78%。原料的重量百分比为铅丹65. 5%，滑石5%，长石7%，二氧化钛1.5%，石英21% ；下陷印刷釉的制备将低温溶剂、石英和五氧化矾混合，加入混合物总重量40%的水，球磨成细度为 325目筛余0的物料，烘干，粉碎至细度为120目筛余0，获得下陷印刷釉；各个组分的重量配比为低温溶剂65%石英20%五氧化二钒15%使用方法和使用结果同实施例1。实施例3低温溶剂的制备将铅丹、滑石、长石、二氧化钛和石英分别球磨至120目筛网全过，过筛混合，在 1245°C下煅烧50min，获得低温溶剂，其中各个组分的重量百分比为PbO 62. 18%;Mg0 0. 79%;Ti02 :0. 89%;A1203 :2. 94%;Si02 : 30 . 35%;K20 :0. 96%； Na2O :1. 89%。原料的重量百分比为铅丹62%，滑石2%，长石10%，二氧化钛1%，石英27% ；下陷印刷釉的制备将上述制备的低温溶剂、石英和五氧化矾混合，加入混合物总重量35 %的水，球磨成细度为325目筛余0的物料，烘干，粉碎至细度为120目筛余0，获得下陷印刷釉；各个组分的重量配比为低温溶剂50%，石英32%，五氧化二钒18% ；使用方法和使用结果同实施例1。权利要求1.下陷印刷釉，其特征在干，由如下重量百分比的组分组成 低温溶剂40 65%石英20 40%五氧化ニ钒15 20%以上各个组分的百分比之和为100%。2.根据权利要求1所述的下陷印刷釉，其特征在干，所述低温溶剂由如下重量百分比 的组分组成PbO60 70%MgO0.1 1.0%TiO20.1 1.0%Al2O31 3%SiO227 31%K2O1 2%Na2O0.1 1.0%以上各个组分的百分比之和为100%。3.根据权利要求2所述的下陷印本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡国桢，杜文男，
申请(专利权)人：星谊精密陶瓷科技昆山有限公司，
类型：发明
国别省市：