曝光装置及装置制造方法制造方法及图纸

技术编号:7351785 阅读:124 留言:0更新日期:2012-05-18 21:52
本发明专利技术使用布置于微动载台(WFS1,WFS2)下面的光栅,通过布置于平台(14A、14B)下方的测量杆(71)具有的多个编码器头、Z头等,在投影光学系统(PL)的正下方及主要对准系统(AL1)的正下方,分别测量曝光中及对准中的晶圆载台(WST1和WST2)的各个位置信息。因此可执行晶圆载台(WST1,WST2)的位置信息的高精度测量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术关于一种曝光装置及装置制造方法,更详细而言,关于经由光学系统而通过能量光束曝光物体的曝光装置,及使用该曝光装置的装置制造方法。
技术介绍
先前制造半导体组件(集成电路等)、液晶显示组件等的电子装置(微型装置)的微影工艺,主要使用步进及反复方式的投影曝光装置(亦即步进机),或是步进及扫描方式的投影曝光装置(亦即扫描步进机(亦称为扫描仪))等。此种投影曝光装置具有保持晶圆或玻璃板等基板(以下统称为晶圆),并将该晶圆沿着指定的二维平面内驱动的载台装置。载台装置为了进行精确曝光,而要求精确控制载台的位置,此外,为了提高曝光动作的通量,而要求载台的高速且高加速度化。响应于此要求,近年来开发出使用电磁力驱动方式的平面马达,控制晶圆在二维平面内的位置的载台装置(例如参照专利文献1)。此外,例如在专利文献2的第五种实施形态中揭示有:在形成于平台上面的凹部内布置编码器头的曝光装置。记载于专利文献2的曝光装置,通过对布置于晶圆载台的二维光栅,从正下方入射测量光束,而精确测量晶圆载台的位置信息。但是对揭示于专利文献2的第五种实施形态的在平台内布置编码器头的曝光装置,适用揭示于专利文献1的晶圆载台具有动子并且平台具有定子的平面马达时,在驱动晶圆载台时,可能因作用于平台的反作用力造成编码器系统的测量精度降低。【先前技术文献】【专利文献】【专利文献1】美国专利第6,437,463号说明书【专利文献2】美国专利申请公开第2008/0094594号说明书
技术实现思路
本专利技术第一实施例提供第一曝光装置,其经由被第一支撑构件所支撑的光学系统,而通过能量光束将物体曝光,且具备:移动体,其保持前述物体,并可沿着指定的二维平面移动;引导面形成构件,其形成前述移动体沿着前述二维平面移动时的引导面;第一驱动系统,其驱动前述移动体;第二支撑构件,其经由前述引导面形成构件,从前述引导面形成构件离开而布置于与前述光学系统相反的一侧,并固定于前述第一支撑构件;及测量系统,其包括第一测量构件,前述第一测量构件用测量光束照射与前述二维平面平行的测量面,并接收来自前述测量面的光,并且前述测量系统依据该第一测量构件的输出获得前述移动体至少在前述二维平面内的位置信息,前述测量面设于前述移动体与前述第二支撑构件中的一个处,前述第一测量构件的至少一部分设于前述移动体与前述第二支撑构件的另一个处。根据该装置,测量系统包括第一测量构件,前述第一测量构件的至少一部分设于前述移动体与前述第二支撑构件的另一个处。前述第一测量构件用测量光束照射在设于移动体与第二支撑构件中的一个处的测量面上,并接收来自前述测量面的光,并且前述测量系统依据前述第一测量构件的输出获得前述移动体至少在前述二维平面内的位置信息。此外,其上设有第一测量构件的至少一部分或测量面的第二支撑构件被固定于支撑光学系统的第一支撑构件。因而可抑制移动体周边环境气体变动等的影响,而通过测量系统并以光学系统的位置作为基准而精确测量移动体的位置信息。再者,由于经由引导面形成构件而在与光学系统相反的一侧,从引导面形成构件离开而布置第二支撑构件,因此不致因移动体的驱动力的反作用力而降低测量精度。在这种情况下,所谓引导面,是指在与移动体的前述二维平面正交的方向引导移动体,可为接触型,亦可为非接触型。例如非接触型的引导方式,包括使用气垫等气体静压轴承的结构,或使用磁浮的结构等。此外,并非限定于按照引导面的形状而引导移动体。例如使用前述的气垫等的气体静压轴承的结构是引导面形成构件的与移动体相对的面被加工成良好平面度,移动体按照其相对面的形状经由指定的间隙被非接触式引导。另外,将使用电磁力的马达等的一部分布置于引导面形成构件,并也在移动体上布置其一部分,两者互相配合而产生作用于与前述二维平面正交的方向的力的结构,通过该力在指定的二维平面上控制移动体的位置。例如亦包括以下的结构:在引导面形成构件上设置平面马达,而在移动体上产生包括在二维平面内正交的两个方向及与二维平面正交的方向的方向上的力,并且不设置前述气体静压轴承,而使移动体非接触浮起。本专利技术第二实施例提供第二曝光装置,其经由被第一支撑构件所支撑的光学系统,而通过能量光束将物体曝光,且具备:移动体,其保持前述物体,并可沿着指定的二维平面移动;第二支撑构件,其固定于前述第一支撑构件;第一驱动系统,其驱动前述移动体;移动体支撑构件,其布置于前述光学系统与前述第二支撑构件之间以从该第二支撑构件离开,前述移动体沿着前述二维平面移动时,前述移动体支撑构件在该移动体的与前述第二支撑构件的长度方向正交的方向上的至少两点支撑前述移动体;及测量系统,其包括第一测量构件,前述第一测量构件用测量光束照射与前述二维平面平行的测量面,并接收来自前述测量面的光,并且前述测量系统依据该第一测量构件的输出获得前述移动体至少在前述二维平面内的位置信息,前述测量面设于前述移动体与前述第二支撑构件中的一个处,前述第一测量构件的至少一部分设于前述移动体与前述第二支撑构件的另一个处。根据该装置,测量系统包括第一测量构件,前述第一测量构件的至少一部分设于前述移动体与前述第二支撑构件的另一个处。前述第一测量构件用测量光束照射在设于移动体与第二支撑构件中的一个处的测量面上,并接收来自前述测量面的光,并且前述测量系统依据前述第一测量构件的输出获得前述移动体至少在前述二维平面内的位置信息。此外,其上设有第一测量构件的至少一部分或测量面的第二支撑构件被固定于支撑光学系统的第一支撑构件。因而可抑制移动体周边环境气体变动等的影响,而通过测量系统并以光学系统的位置作为基准而精确测量移动体的位置信息。再者,由于第二支撑构件从移动体支撑构件离开而布置于与移动体支撑构件的光学系统相反的一侧,因此不致因移动体的驱动力的反作用力而降低测量精度。在这种情况下,所谓移动体支撑构件在该移动体与前述第二支撑构件的长度方向正交的方向上的至少两点支撑移动体,是指在与第二支撑构件的长度方向正交的方向上,例如仅两端部、两端部与其间的一部分、除了中央部与两端部的与第二支撑构件的长度方向正交的方向的部分、包括两端部且与第二支撑构件的长度方向正交的方向的全部等,而在对二维平面正交的方向上支撑移动体。在这种情况下,支撑的方法除了接触支撑外,还广泛包括经由气垫等气体静压轴承支撑的情况,或是磁浮等非接触支撑。本专利技术第三实施例提供一种装置制造方法,其包括:使用本发本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.06.19 US 61/218,450;2010.06.18 US 12/818,6441.一种曝光装置,其经由被第一支撑构件所支撑的光学系统,通过
能量光束将物体曝光,所述装置包括:
移动体,其保持所述物体,并可沿着指定的二维平面移动;
引导面形成构件,其形成所述移动体沿着所述二维平面移动时的引导
面;
第一驱动系统,其驱动所述移动体;
第二支撑构件,其经由所述引导面形成构件,从所述引导面形成构件
离开而布置于与所述光学系统相反的一侧,并固定于所述第一支撑构件;

测量系统,其包括第一测量构件,所述第一测量构件用测量光束照射
与所述二维平面平行的测量面,并接收来自所述测量面的光,并且所述测
量系统依据该第一测量构件的输出获得所述移动体至少在所述二维平面
内的位置信息,所述测量面设于所述移动体与所述第二支撑构件中的一个
处,所述第一测量构件的至少一部分设于所述移动体与所述第二支撑构件
的另一个处。
2.根据权利要求第1项所述的曝光装置,其中所述第二支撑构件是
平行于所述二维平面布置的梁状构件。
3.根据权利要求第2项所述的曝光装置,其中所述梁状构件在其长
度方向的两端部以垂挂状态固定到所述第一支撑构件。
4.根据权利要求第1~3项中任一项所述的曝光装置,其中在所述测
量面上布置其周期方向在平行于所述二维平面的方向上的光栅,
所述第一测量构件包括编码器头,所述编码器头用所述测量光束照射
所述光栅,并接收来自所述光栅的衍射光。
5.根据权利要求第1~4项中任一项所述的曝光装置,其中所述引导
面形成构件是平台,所述平台布置在所述第二支撑构件的所述光学系统
侧,从而与所述移动体相对,并且,所述平台具有平行于在与所述移动体
相对的一侧的一个表面上形成的所述二维平面的所述引导面。
6.根据权利要求第5项所述的曝光装置,其中所述平台具有所述测
量光束能够通过的光透过部。
7.根据权利要求第5或6项所述的曝光装置,其中第一驱动系统包
括平面马达,所述平面马达具有设于所述移动体的动子与设于所述平台的
定子,通过在该定子与所述动子之间产生的驱动力而驱动所述移动体。
8.根据权利要求第7项所述的曝光装置,其中进一步具备基座构件,
所述基座构件支撑所述平台使得所述平台能够在平行于所述二维平面的
平面内移动。
9.根据权利要求第8项所述的曝光装置,其中进一步具备平台驱动
系统,所述平台驱动系统包括设于所述基座构件的定子与设于所述平台的
动子,并且通过在该动子与所述定子之间产生的驱动力,而相对于所述基
座构件驱动所述平台。
10.根据权利要求第1~9项中任一项所述的曝光装置,其中所述测量
面设于所述移动体上,
所述第一测量构件的所述至少一部分布置于所述第二支撑构件上。
11.根据权利要求第10项所述的曝光装置,其中所述移动体具有第
一表面和第二表面,所述第一表面与所述光学系统相对且平行于所述二维
平面,在所述第一表面上放置所述物体,所述第二表面在与所述第一表面
相反的一侧且平行于所述二维平面,在所述第二表面上布置所述测量面。
12.根据权利要求第10或11项所述的曝光装...

【专利技术属性】
技术研发人员:一之濑刚
申请(专利权)人:株式会社尼康
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术